技術編號：8136295
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本發(fā)明涉及被構造和被布置以產生輻射的裝置、包括這樣的裝置的光刻設備以及 器件制造方法。背景技術光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底的目標部分上的機器。例如，可以將光刻 設備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將例如掩模的圖案形成裝置用于生 成對應于IC的單層上的電路圖案，且該圖案被成像到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分 (例如，包括一個或多個管芯的一部分)上，所述目標部分具有輻射敏感材料(抗蝕劑)層。 通常，單個襯底將包含被連續(xù)曝光的相鄰目標部分的網絡。公知的光刻設備包括步進機， 在所述步進機中，...
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