技術(shù)編號：8136335
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及向進(jìn)行等離子體處理的腔室內(nèi)導(dǎo)入微波的微波導(dǎo)入機(jī)構(gòu)、使用這種微 波導(dǎo)入機(jī)構(gòu)的微波等離子體源、和使用微波等離子體源的微波等離子體處理裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體設(shè)備、液晶顯示裝置的制造工序中，為了對稱為半導(dǎo)體晶片、玻璃基板的 被處理基板實(shí)施蝕刻處理、成膜處理等的等離子體處理而使用等離子體蝕刻裝置、等離子 體CVD成膜裝置等的等離子體處理裝置。作為等離子體處理裝置中的等離子體產(chǎn)生方法，公知有下述的方法向配置有平 行平板電極的腔室內(nèi)供給處理氣體，向該平行平板電極施加規(guī)定的電力，利用電極之間的 容量結(jié)合產(chǎn)生等離子...
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