技術編號：8179203
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本發(fā)明涉及區(qū)熔單晶爐拉制大直(6-8寸)徑單晶時，單晶反射器的動態(tài)調(diào)節(jié)。其目的是在大直徑單晶拉制過程中，通過反射器的位置移動和形狀拉伸，為單晶生長提供一個可調(diào)控的熱場。為大直徑單晶實驗、拉制提供便利條件。背景技術近年來Fz單晶(區(qū)熔單晶)的拉制直徑不斷增加，直徑五、六英寸單晶已漸成為主流，直徑七、八英寸單晶工藝在國外已漸成熟，在國內(nèi)已在研發(fā)實驗中。隨著單晶拉制直徑的增加，我們發(fā)現(xiàn)反射器的位置設置和形態(tài)對單晶的拉制影響越來越明顯。目前國內(nèi)用于拉制大直徑區(qū)熔單晶的設備以Fz-30爐為主，此設備功率設計上具有拉制...
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