技術編號：8181143
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本實用新型是關于一種改良的微波等離子產(chǎn)生器，尤指一種可輕易達到大面積且均勻等離子分布的微波等離子產(chǎn)生器。背景技術所謂的微波等離子產(chǎn)生器，是用于半導體芯片的表面處理，其特點為可在低衰減量的情況下調(diào)整微波分布均勻度，以獲致良好的等離子品質(zhì)。其技術原理是運用微波放射使氣體均勻離子化，以作為物體表面處理。本實用新型的設計人先前基于傳統(tǒng)微波等離子產(chǎn)生器在微波放射的能量分布方面存在均勻度不足的缺陷，而直接影響等離子品質(zhì)(即等離子分布均勻度)，曾設計出一種「微波等離子產(chǎn)生器」，其構造特征是如圖5所示。主要是在一緩沖室4的...
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