技術編號：8193638
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本發(fā)明涉及半導體制造領域，具體涉及微納加工技術領域，尤其涉及一種用于黑硅制備的設備。背景技術黑硅是一種電子產業(yè)革命性的新型材料結構，與一般的硅材料結構相比，黑硅對光具有很強的吸收能力。其制備開始于1998年美國哈佛大學Eric Mazur教授的飛秒激光法實驗。在實驗中，Eric Mazur教授通過用超強和超短時間激光束(飛秒激光器)對硅片進行掃描，使硅片表面形成了一種森林狀的納米尺度的錐狀表面。這種納米森林的表面結構在幾乎整個太陽光譜范圍內具有超過90%的光吸收率，極大地拓展了硅基材料的光譜吸收范圍，即這種...
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