技術(shù)編號(hào)：82269
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種位移測(cè)量系統(tǒng)，特別是涉及應(yīng)用外差干涉術(shù)用以測(cè)量位移，并且為準(zhǔn)共光程架構(gòu)的一種外差干涉位移測(cè)量系統(tǒng)。 背景技術(shù)對(duì)于應(yīng)用光柵的光學(xué)位移測(cè)量系統(tǒng)而言，其是利用高同調(diào)性的光源入射繞射光柵(diffraction grating)后產(chǎn)生至少兩束繞射光，將此兩束繞射光經(jīng)由光學(xué)組件而互相干涉，而此干涉信號(hào)具有周期性的變化趨勢(shì)，當(dāng)光柵移動(dòng)時(shí)，此干涉信號(hào)亦發(fā)生變化，相關(guān)技術(shù)如美國(guó)專利公告號(hào)第3891321號(hào)專利，由于當(dāng)時(shí)的光柵制造技術(shù)，僅可測(cè)量一維的位移量。 隨著技術(shù)的演進(jìn)，使得多維度的測(cè)量漸漸被發(fā)展，如美國(guó)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。