技術(shù)編號:8248249
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 SiCV薄膜是一種重要的功能薄膜材料,氧化硅薄膜具有良好的絕緣性、耐磨性、較 低的透濕透氧性、耐化學(xué)性以及良好的透光性,廣泛應(yīng)用在微電子、抗腐蝕、高阻隔包裝、環(huán) 境防護(hù)等領(lǐng)域。在空間環(huán)境防護(hù)的應(yīng)用領(lǐng)域,Si02薄膜由于具有優(yōu)秀的耐輻照、耐原子氧 性能,因而具有很大的應(yīng)用潛力,而在空間環(huán)境下,由于航天器熱控的需求,需要防護(hù)薄膜 具有盡可能低的太陽吸收率。 SiCV薄膜的制備方法有很多種,如磁控濺射、離子束輔助沉積(IBAD)、脈沖激光 沉積(PLD)、電子...
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