技術(shù)編號：8256587
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 在制造例如半導(dǎo)體元件或液晶顯示元件等時，使用了投影曝光裝置，該投影曝光 裝置將光掩模的圖案經(jīng)過投影光學(xué)系統(tǒng)，投影至硅片上。先前多使用投影曝光裝置(步進(jìn)式 曝光機(jī))，該投影曝光裝置以步進(jìn)重復(fù)方式方法，將各個光掩模的圖案一并曝光至硅片上的 各照射區(qū)域。近年來，取代使用一個大的投影光學(xué)系統(tǒng)，提出了步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝 置，其沿著掃描方向，將具有相等倍率的多個小的部分投影光學(xué)系統(tǒng)以規(guī)定間隔配置為多 行，且一邊對光掩模進(jìn)行掃描，一邊利用各部分投影光學(xué)系統(tǒng)將各個...
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