技術(shù)編號：8429720
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明屬于極紫外光刻，具體涉及一種具有極紫外光譜純度及熱穩(wěn)定性 的多層膜。背景技術(shù) 極紫外（EUV)光刻是最有可能實(shí)現(xiàn)22nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的下一代光刻技術(shù)。極紫外光 刻系統(tǒng)使用波長為13. 5nm，在此波段，大多數(shù)材料的吸收系數(shù)都很高，所以只能采用全反射 式系統(tǒng)。為了進(jìn)一步縮短曝光時間，提高產(chǎn)量，需要在光學(xué)元件上鍍制高精度多層膜以提高 反射率?，F(xiàn)有技術(shù)中，極紫外波段鍍制的多層膜是周期數(shù)為40、周期厚度為7nm的Mo/Si多 層膜。該極紫外多層膜的主要工作波段...
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