技術(shù)編號(hào)：8442538
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。真空鍍膜技術(shù)中，往往將材料高溫加熱，然后冷卻到基片形成薄膜，在鍍膜過程中，由于材料會(huì)形成氣體，氣體具有不穩(wěn)定性，并且由于真空鍍膜的腔體的腔體較大，這樣會(huì)使薄膜形成的不均勻；另外，由于真空腔體內(nèi)存在多個(gè)蒸發(fā)源，當(dāng)使用其中一個(gè)蒸發(fā)源時(shí)，會(huì)對(duì)其他的蒸發(fā)源造成污染，影響鍍膜的質(zhì)量。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種真空鍍膜裝置，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，鍍膜均勻，能夠避免蒸渡過程中的交叉污染。本發(fā)明的技術(shù)方案是一種真空鍍膜裝置，包括腔體，所述的腔體內(nèi)設(shè)置有探頭、放置基片的模...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。