技術(shù)編號(hào)：8472327
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明涉及一種光刻領(lǐng)域，尤其涉及一種用于浸沒式光刻機(jī)的流體限制機(jī)構(gòu)。背景技術(shù) 現(xiàn)代光刻設(shè)備以光學(xué)光刻為基礎(chǔ)，它利用光學(xué)系統(tǒng)把掩膜版上的圖形精確地投影 曝光到涂過光刻膠的襯底(如硅片)上。浸沒式光刻是指在曝光鏡頭與硅片之間充滿水(或 更高折射的浸沒液體)以取代傳統(tǒng)干式光刻技術(shù)中對(duì)應(yīng)的空氣。由于水的折射率比空氣大， 這就使得透鏡組數(shù)值孔徑增大，進(jìn)而可獲得更加小的特征線寬。 傳統(tǒng)的浸沒式光刻機(jī)結(jié)構(gòu)如圖1所示，在該裝置中，主框架1支撐一照明系統(tǒng)2、一 投影物鏡4...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。