技術(shù)編號(hào):8499324
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。近來(lái),已經(jīng)開(kāi)發(fā)了包括相對(duì)于襯底的表面反復(fù)地層疊的多個(gè)存儲(chǔ)單元的垂直存儲(chǔ)器件,以實(shí)現(xiàn)更高的集成度。在垂直存儲(chǔ)器件中,溝道可以從襯底的表面豎直地突出,圍繞溝道的柵線和絕緣層可以被反復(fù)地層疊。隨著垂直存儲(chǔ)器件的集成度變得更大,存儲(chǔ)單元的層疊數(shù)和溝道的高度可以增大。于是,會(huì)期望提高垂直存儲(chǔ)器件的工作可靠性。發(fā)明內(nèi)容示例實(shí)施方式涉及具有提高的可靠性的垂直存儲(chǔ)器件。根據(jù)示例實(shí)施方式,一種垂直存儲(chǔ)器件包括下絕緣層、在下絕緣層上的低電阻層、在低電阻層上的溝道層、在溝道層上...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。