技術(shù)編號(hào):8539669
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明屬于類(lèi)金剛石薄膜制備,特別涉及一種液相電沉積制備類(lèi)金剛石 薄膜的方法。背景技術(shù) 類(lèi)金剛石薄膜(Diamond-like Carbon Films,簡(jiǎn)稱(chēng)DLC薄膜)是一類(lèi)硬度、光學(xué)、 電學(xué)、化學(xué)和摩擦學(xué)等特性都類(lèi)似于金剛石的非晶碳膜。例如,它具有硬度高、摩擦系數(shù)低、 電阻率大、生物相容性好、低介電常數(shù)、寬光學(xué)帶隙等特點(diǎn),可以應(yīng)用于機(jī)械、電子、化學(xué)、軍 事、航空航天等。 目前,制備類(lèi)金剛石薄膜的傳統(tǒng)方法有物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積 (CVD)...
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