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技術(shù)編號(hào)：8947117

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本發(fā)明涉及一種用于通過使得基板表面的至少一部分受到兩個(gè)或更多前體材料的交替表面反應(yīng)而處理基板的裝置。更特別是，本發(fā)明涉及一種用于根據(jù)原子層沉積(ALD的原理來處理基板的裝置。在本申請(qǐng)中，術(shù)語ALD的意思是實(shí)現(xiàn)ALD原理的原子層晶體取向生長(ALE)和其它類似名稱的方法。原子層沉積裝置通常包括真空腔室，基板在該真空腔室內(nèi)部處理。單獨(dú)的處理腔室也可以布置在真空腔室內(nèi)部，這樣，基板裝入反應(yīng)腔室內(nèi)和在反應(yīng)腔室中處理。基板的裝載可以人工進(jìn)行，或者通過裝載裝置(例如裝...
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