技術(shù)編號:9082501
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。TFT-1XD及半導(dǎo)體的顯影、清洗、蝕刻及蒸鍍等制程,經(jīng)常會(huì)使用到大量的有機(jī)化合物進(jìn)行涂布或清洗,這些有機(jī)化合物(如IPA/PGMEA/PGME等)大多會(huì)經(jīng)排氣裝置送到后端處理排放,且大致上會(huì)在合于法規(guī)規(guī)定的下排放,但仍有部分有機(jī)化合物會(huì)逸散在無塵室作業(yè)環(huán)境內(nèi),其濃度約為數(shù)十至數(shù)百PPb左右,操作人員若長時(shí)間處在此低濃度有機(jī)廢氣的環(huán)境下,亦可能引發(fā)不適,特別是含有低閾值臭味有機(jī)化合物(如醋酸);再者,無塵室的空調(diào)設(shè)計(jì)及過濾器的排列主要分為兩部分,一部份為外...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲(chǔ)備,不適合論文引用。