技術(shù)編號(hào):913859
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本文公開的主旨涉及數(shù)字X射線成像系統(tǒng),并且具體地涉及用于校正用這樣的系統(tǒng)采集的圖像數(shù)據(jù)中的電磁干擾(EMI)的影響的技術(shù)。背景技術(shù)許多具有各種設(shè)計(jì)的放射成像系統(tǒng)是已知的并且目前正在使用中。這樣的系統(tǒng)一般基于被引導(dǎo)朝向感興趣受檢者的X射線的產(chǎn)生。這些X射線穿越該受檢者并且撞擊膜或數(shù)字檢測器。日益地,這樣的X射線系統(tǒng)使用數(shù)字電路來檢測這些X射線,其由該受檢者的介入結(jié)構(gòu)衰減、散射或吸收。例如,在醫(yī)療診斷背景中,這樣的系統(tǒng)可用于使內(nèi)部組織可視化并且診斷患者疾病。在...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。