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干法刻蝕設(shè)備的制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):9165405

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干法刻蝕是用等離子體進(jìn)行薄膜刻蝕的技術(shù)。當(dāng)氣體以等離子體形式存在時(shí),它具備兩個(gè)特點(diǎn)一方面等離子體中的氣體活性自由基化學(xué)活性比常態(tài)下的氣體時(shí)要強(qiáng)很多,根據(jù)被刻蝕材料的不同,選擇合適的氣體,就可以更快地與材料進(jìn)行反應(yīng),實(shí)現(xiàn)刻蝕去除的目的;另一方面,還可以利用電場(chǎng)對(duì)等離子體進(jìn)行引導(dǎo)和加速,使其具備一定能量,當(dāng)其轟擊被刻蝕物的表面時(shí),會(huì)將被刻蝕物材料的原子擊出,從而達(dá)到利用物理上的能量轉(zhuǎn)移來(lái)實(shí)現(xiàn)刻蝕的目的。目前的干法刻蝕既可采用單獨(dú)的化學(xué)反應(yīng)方法進(jìn)行刻蝕,又可采用...
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