技術(shù)編號：9218507
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于電子束光刻，具體涉及一種使用電子束光刻和光學(xué)光刻兩種圖形化技術(shù)制作非損傷石墨烯納米器件的方法。背景技術(shù)石墨烯由于高迀移率、高速、零帶隙、線性分布的能帶等特點(diǎn)，具有做太赫茲光導(dǎo)器件的潛力。電子束直寫做出線寬100nm、200nm的圖形是沒有問題的，但是如果直接用電子束在石墨烯上曝光光刻膠，可能會(huì)損傷石墨烯的晶格。為了克服上述困難，就使用Stencil光刻來制作叉指電極。利用Stencil，不需要再用光刻膠做掩膜，比較方便，成本低，產(chǎn)出高，而且Ste...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。