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磁記錄膜用濺射靶及用于制造該濺射靶的碳原料的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:9239691

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在以硬盤驅(qū)動器為代表的磁記錄領(lǐng)域,作為磁記錄介質(zhì)中的磁性薄膜的材料,使 用以強磁性金屬Co、Fe或Ni作為基質(zhì)的材料。例如,在采用面內(nèi)磁記錄方式的硬盤的磁性 薄膜中,使用以Co作為主要成分的Co-Cr基、Co-Cr-Pt基的強磁性合金。 另外,在采用近年來實用化的垂直磁記錄方式的硬盤的磁性薄膜中,多使用包含 以Co作為主要成分的Co-Cr-Pt基強磁性合金和非磁性無機物粒子的復(fù)合材料。并且,從 生產(chǎn)率高的觀點出發(fā),上述磁性薄膜多數(shù)情況下通過利用DC磁控濺...
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