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技術編號：9255490

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隨著現(xiàn)今半導體及光電產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，組件線寬越來越小，電路面積越來越小，平坦化制程相應也變得日趨重要，而化學機械拋光(Chemical MechanicalPlanarizat1n ；CMP)由于能夠滿足半導體器件制程的高度平坦化的需求，因而得到了廣泛的應用。在進行化學機械拋光的過程中，拋光設備中的拋光墊(也稱研磨墊)表面的空洞能夠均勻含養(yǎng)拋光漿(slurry)以使拋光漿與被拋光的晶片的拋光面進行化學反應，同時拋光墊表面的纖毛會與晶片磨擦，經(jīng)由化學力與機械...
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