技術(shù)編號(hào)：9328676
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，尤其涉及一種光刻方法，用于無定位標(biāo)記的玻璃基片的光刻。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件制造中，光刻是按照器件設(shè)計(jì)的要求，在介質(zhì)膜或金屬膜層上面，制作出與掩膜版相對(duì)應(yīng)的幾何圖形的技術(shù)。光刻工藝的主要工序包括涂膠、前烘、曝光、顯影、堅(jiān)膜等步驟。其中曝光的對(duì)準(zhǔn)精度是決定光刻精度的重要指標(biāo)?！愕陌雽?dǎo)體加工技術(shù)中的光刻是以標(biāo)準(zhǔn)圓硅片本身的定位標(biāo)記進(jìn)行曝光對(duì)準(zhǔn)，或是以硅片上制作的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與掩膜版上的標(biāo)記進(jìn)行套刻對(duì)準(zhǔn)。而對(duì)于本身無任何定位標(biāo)記，尤其是基片自身...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。