技術(shù)編號：9645390
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。先進光刻機曝光設(shè)備中的投影光學(xué)系統(tǒng)需要越來越小的波相差和畸變，同時在這種投影光學(xué)系統(tǒng)的曝光設(shè)備中，可以實時并容易地對由各種環(huán)境及其它因素導(dǎo)致的相差和畸變的變化進行補償。為了解決這一類問題，一般采用設(shè)置一個或幾個鏡片位置可調(diào)的方式進行補償。在折反式物鏡中，棱鏡作為關(guān)鍵的光學(xué)元件經(jīng)常使用，用于光路的反射同時需要棱鏡繞中心旋轉(zhuǎn)進行像質(zhì)的補償，所以需要設(shè)計一種棱鏡定位，并可以繞棱鏡設(shè)計中心旋轉(zhuǎn)機構(gòu)十分必要。發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，使棱鏡沿中心旋轉(zhuǎn)，本...
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