技術編號：9781242
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。真空蒸發(fā)鍍膜法(簡稱真空蒸鍍法)是在真空室中加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出形成蒸汽流，入射到襯底基板表面凝結形成固態(tài)薄膜的方法。真空蒸鍍法已經廣泛應用于顯示器件的制作過程，例如OLED顯示面板的包括陰極、陽極以及位于陰極和陽極之間的發(fā)光材料層，其中陰極和陽極一般采用真空蒸鍍法形成。具體的，如圖1所示，將蒸鍍基板11與掩膜板12對位放置，其中，蒸鍍基板11位于掩膜板12的上面，蒸發(fā)源14位于掩膜板12的下面。由于在真空蒸鍍過程...
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