技術(shù)編號：9792627
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。等離子體技術(shù)已在材料、微電子、化工、機(jī)械及環(huán)保等眾多學(xué)科領(lǐng)域中得到較廣泛地應(yīng)用，并從60年代開始逐步形成具有廣泛應(yīng)用前景的等離子體工業(yè)。例如，在材料學(xué)科中，采用等離子體物理氣相沉積技術(shù)和化學(xué)氣相沉積技術(shù)可以合成一些新型功能薄膜材料;在微電子工業(yè)中，采用等離子體刻蝕技術(shù)可以對超大規(guī)模集成電路進(jìn)行加工;在化工學(xué)科中，采用等離子體聚合技術(shù)，可以制備出一些高分子薄膜材料?，F(xiàn)在被工業(yè)界廣泛應(yīng)用的等離子體還是低壓等離子體，因?yàn)樗臃€(wěn)定，重復(fù)性高，且可以形成大面積等離...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路，無完整電路圖，適合研究學(xué)習(xí)。