技術編號：9805016
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。真空蒸發(fā)鍍膜是一種常用的鍍膜工藝，廣泛地用于半導體器件、金屬以及其他功能性材料的薄膜制備。蒸發(fā)源是真空蒸發(fā)鍍膜設備最為關鍵的部件。根據(jù)加熱方式的不同，蒸發(fā)源可以分為電子束加熱蒸發(fā)源和電阻加熱式蒸發(fā)源。電阻加熱式蒸發(fā)源是利用電阻絲通電后產(chǎn)生的熱量加熱坩堝中的蒸發(fā)物料使其汽化，電阻加熱式蒸發(fā)源具有結構簡單、蒸發(fā)效率高、溫度穩(wěn)定和加熱均勻等優(yōu)點，已大量用于工業(yè)和實驗室中。電阻加熱式蒸發(fā)源主要包括電阻加熱裝置和坩堝，為了避免蒸發(fā)物料與坩堝混合或反應，對不同的蒸發(fā)物...
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