技術(shù)編號(hào)：9805033
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及襯底的反應(yīng)濺涂領(lǐng)域，更特定而言涉及反應(yīng)式磁控濺涂。其涉及根據(jù)權(quán)利要求的開始條款的方法和設(shè)備。背景技術(shù)本發(fā)明可包括或含有在波導(dǎo)的制造中的應(yīng)用，更特別地在光學(xué)波導(dǎo)的制造中的應(yīng)用。始于此實(shí)例，將討論反應(yīng)濺涂的潛在問題以及這些問題的已知解決方案。波導(dǎo)被用于在緊密空間中傳導(dǎo)光。其類似于光纖工作。光在被較低折射率介質(zhì)包圍的高折射率介質(zhì)中傳導(dǎo)。全反射防止光射出高系數(shù)介質(zhì)。同樣的原理應(yīng)用于夾在較低折射率層之間的高折射率薄膜。光學(xué)薄膜特別適合于光電子學(xué)應(yīng)用，其中它...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。