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一種物理氣相沉積方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):9805035

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本發(fā)明屬于微電子加工,具體涉及。背景技術(shù)娃通孔技術(shù)(through silicon via,以下簡(jiǎn)稱TSV)技術(shù)是通過(guò)在芯片和芯片之間、晶圓和晶圓之間制作垂直導(dǎo)通,實(shí)現(xiàn)芯片之間互連的最新技術(shù),由于TSV技術(shù)能夠使芯片在三維方向堆疊的密度最大、芯片之間的互連線最短、外形尺寸最小,并且大大改善芯片速度和低功耗的性能,成為目前電子封裝技術(shù)中最先進(jìn)的一種技術(shù)。物理氣相沉積(Physical Vapor Deposit1n,以下簡(jiǎn)稱PVD)工藝應(yīng)用在TSV技術(shù)中,主...
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