技術(shù)編號:9864405
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。在半導(dǎo)體設(shè)備等的制造中使用的曝光裝置將在原版(original plate)(投影掩模(reticle)、掩模(mask)等)上形成的圖案經(jīng)由圖像形成光學(xué)系統(tǒng)、投影光學(xué)系統(tǒng)等轉(zhuǎn)印到基板(晶片等,在其表面上形成有抗蝕劑層)。曝光裝置包括用于利用來自光源的光束照明原版的照明光學(xué)裝置。當(dāng)照明光學(xué)裝置的用于原版的照明光不均勻或者遠(yuǎn)心度(telecentricity)(光軸與主光束之間的平行程度)崩潰(collapse)時,到基板的圖案轉(zhuǎn)印不足并且曝光裝置難以提供高...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。