技術(shù)編號：9989199
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。目前，離子束濺射鍍膜設(shè)備所用的離子源是直接連接在真空腔體上的。通常用于鍍膜使用的離子源需要定期維護(hù)，分為清洗石英腔(射頻離子源)和更換電阻絲(直流離子源)。目前的維護(hù)方法是打開整個真空腔體，在將整個真空室暴露大氣的條件下進(jìn)行離子源的維護(hù)。由于離子源與真空腔體的連接是通過法蘭固定連接或者通過真空波紋管進(jìn)行連接，打開真空腔體對離子源進(jìn)行維護(hù)，將真空腔體暴露在大氣環(huán)境中會使得腔體上附著很多空氣中的水、氧等氣體分子，下次使用需要長時間的抽真空過程，不但浪費時間，同...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。