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技術編號：9989209

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PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposit1n)即等離子體增強化學氣相沉積，它是借助微波或射頻使含有薄膜組成原子的氣體發(fā)生電離，在局部形成等離子體，借助等離子體活潑易反應的化學特性，在基片上沉積出所期望的薄膜。該技術被廣泛應用于晶體硅太陽能電池的生產中。晶體硅太陽能電池的主要生產流程為制絨、擴散、濕法刻蝕、減反射膜的沉積、絲網(wǎng)印刷和燒結等工序，PECVD工藝正是應用在減反射膜的沉積工序上。太陽能行業(yè)所用的PE...
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