1.一種光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述預(yù)測算法適合實(shí)現(xiàn)內(nèi)插、外推、回歸、最小殘差和/或統(tǒng)計(jì)擬合中的一種或多種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述處理裝置被配置為將所述預(yù)測算法或?qū)嵤C(jī)器學(xué)習(xí)應(yīng)用于預(yù)先定義的損傷庫，以預(yù)測永久消融損傷的幾何形狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述永久消融損傷的幾何形狀包括損傷的寬度、長度和/或深度中的一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)電路被配置為使用所述軸件中的至少部分偏振保持傳輸介質(zhì)將光至少部分地從所述近側(cè)段傳輸?shù)剿鲞h(yuǎn)側(cè)段并返回。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，由所述脈沖場消融能量源發(fā)送的所述脈沖電信號(hào)是單相或雙相的。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，由所述組織樣本反射或散射的所述光的偏振或相位延遲的所述變化響應(yīng)于發(fā)送到所述組織樣本的所述脈沖電信號(hào)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述一個(gè)或多個(gè)光學(xué)信號(hào)包括從所述組織樣本獲取的光學(xué)相干斷層掃描(oct)信號(hào)或光學(xué)相干反射儀(ocr)信號(hào)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)電路被配置為將來自所述遠(yuǎn)側(cè)段的所述光發(fā)送到所述組織樣本。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)管的所述遠(yuǎn)側(cè)段包括多個(gè)光學(xué)端口，所述光學(xué)端口被配置為收集從所述組織樣本反射或散射的所述光。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述脈沖電信號(hào)的特性由所述導(dǎo)管的用戶選擇，其中，所述特性包括所述脈沖電信號(hào)的頻率、幅度和持續(xù)時(shí)間。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述脈沖電信號(hào)適合于導(dǎo)致所述組織樣本的不可逆的電穿孔。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述處理裝置，被配置為在預(yù)定時(shí)段之后，分析從所述光學(xué)電路接收的一個(gè)或多個(gè)光信號(hào)以確定由所述組織樣本反射或散射的光的偏振或相位延遲的變化，所述預(yù)定時(shí)段包括在所述組織樣本中開始形成非熱損傷所需的時(shí)間，所述非熱損傷由所述組織樣本的所述不可逆的電穿孔來產(chǎn)生。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)管被配置為消融心壁，所述導(dǎo)管還包括：
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)管的所述遠(yuǎn)側(cè)段的所述圓形形狀在平行于所述心壁的平面中并且被配置為接觸所述心壁。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光學(xué)引導(dǎo)消融系統(tǒng)，其特征在于，選擇所述至少一個(gè)光學(xué)端口的所述位置以最佳地觀察由所述多個(gè)電極的通電引起的組織消融引起的光學(xué)參數(shù)變化。