1.一種攪拌裝置，用于泡奶機(jī)，其特征在于，包括：
攪拌架，包括底盤和多個連接在所述底盤上的連接臂，多個所述連接臂沿所述底盤的周向設(shè)置，并與所述底盤圍設(shè)出容納空間；和
攪拌圈，設(shè)置在所述容納空間內(nèi)，并被所述底盤支撐，且所述攪拌圈內(nèi)設(shè)有第一磁鐵裝置，所述第一磁鐵裝置能夠在所述泡奶機(jī)的驅(qū)動裝置的驅(qū)動下，帶動所述攪拌圈在所述容納空間內(nèi)轉(zhuǎn)動，使所述攪拌圈攪拌所述泡奶機(jī)中的液體；
其中，所述底盤上設(shè)有定位凸起，所述攪拌圈的底部設(shè)有能夠與所述定位凸起相適配的定位凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攪拌裝置，其特征在于，
所述攪拌圈的頂部也設(shè)有能夠與所述定位凸起相適配的定位凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的攪拌裝置，其特征在于，
兩個所述定位凹槽沿軸向相互對稱。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的攪拌裝置，其特征在于，
所述定位凸起設(shè)置在所述底盤的中部，所述定位凹槽設(shè)置在所述攪拌圈的中部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的攪拌裝置，其特征在于，
所述定位凸起為弧形凸起，所述定位凹槽為弧形凹槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的攪拌裝置，其特征在于，
所述攪拌架上設(shè)有限位凸起，所述限位凸起位于所述容納空間內(nèi)，并位于所述攪拌圈的上方，且與所述攪拌圈頂部的定位凹槽相對設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的攪拌裝置，其特征在于，
所述限位凸起整體呈圓柱狀，且其端面為弧形面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的攪拌裝置，其特征在于，所述攪拌架還包括：
連接柱，所述連接柱的一端與多個所述連接臂遠(yuǎn)離所述底盤的一端相連，所述連接柱的另一端向背離所述底盤的方向延伸。
9.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的攪拌裝置，其特征在于，所述攪拌圈包括：
第一扣合件，所述第一扣合件的頂部設(shè)有所述定位凹槽，所述第一扣合件的底部設(shè)有第一扣合部；和
第二扣合件，所述第二扣合件的底部設(shè)有所述定位凹槽，所述第二扣合件的頂部設(shè)有第二扣合部；
其中，所述第二扣合部與所述第一扣合部相配合，使所述第一扣合件和所述第二扣合件扣合在一起形成所述攪拌圈。
10.一種泡奶機(jī)，其特征在于，包括：
內(nèi)膽；
如權(quán)利要求1至9中任一項所述的攪拌裝置，設(shè)置在所述內(nèi)膽內(nèi)；和
驅(qū)動裝置，包括驅(qū)動部件和與所述驅(qū)動部件相連接的第二磁鐵裝置，所述第二磁鐵裝置與所述攪拌裝置的第一磁鐵裝置相吸合，所述驅(qū)動部件能夠帶動所述第二磁鐵裝置轉(zhuǎn)動，使所述第二磁鐵裝置驅(qū)動所述第一磁鐵裝置轉(zhuǎn)動。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的泡奶機(jī)，其特征在于，所述攪拌裝置的攪拌架還包括：
多個支腳，連接在所述攪拌架的底盤上，并向所述底盤的四周放射狀延伸。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的泡奶機(jī)，其特征在于，
所述支腳傾斜設(shè)置，且所述支腳遠(yuǎn)離所述底盤的一端與所述內(nèi)膽的底壁之間具有間隙。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的泡奶機(jī)，其特征在于，
所述支腳遠(yuǎn)離所述底盤的一端與所述內(nèi)膽的底壁之間的距離為0.5mm-3mm。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的泡奶機(jī)，其特征在于，
所述支腳遠(yuǎn)離所述底盤的一端與所述內(nèi)膽的側(cè)壁之間具有間隙。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的泡奶機(jī)，其特征在于，
所述支腳遠(yuǎn)離所述底盤的一端與所述內(nèi)膽的側(cè)壁之間的距離為0.5mm-10mm。