1.一種清潔設備,其特征在于,包括
殼體;
清潔組件,設置于所述殼體,用于清潔待清潔面,所述清潔組件包括至少一個第一清潔子組件,所述第一清潔子組件包括安裝件、防纏繞件及至少一個個清掃構件,所述安裝件能夠繞一從所述殼體伸出的旋轉軸旋轉,所述防纏繞件設置于所述安裝件的邊緣,并且從所述安裝件的邊緣向所述殼體延伸,每個所述清掃構件均從所述安裝件向外延伸,所述清掃構件能夠隨所述安裝件的旋轉而轉動。
2.如權利要求1所述的清潔設備,其特征在于,所述防纏繞件與所述殼體接觸。
3.如權利要求1所述的清潔設備,其特征在于,所述防纏繞件與所述旋轉軸成一夾角,所述夾角在大于0°且小于或等于90°的范圍內。
4.如權利要求1所述的清潔設備,其特征在于,所述防纏繞件與所述旋轉軸成一夾角,所述夾角在大于或等于30°且小于或等于80°的范圍內。
5.如權利要求1所述的清潔設備,其特征在于,所述殼體包括底盤,所述底盤的底面設置有凹腔,所述防纏繞件與所述凹腔的表面接觸。
6.如權利要求5所述的清潔設備,其特征在于,所述安裝件包括中央部和從中央部延伸出來的多個包覆部,每個所述包覆部包覆一個所述清掃構件的靠近所述中央部的部位,所述包覆部至少部分收容于所述凹腔,所述包覆部與所述凹腔的邊緣相互配合以防條狀物或線狀物纏繞所述第一清潔子組件。
7.如權利要求6所述的清潔設備,其特征在于,所述防纏繞件從所述中央部向外延伸。
8.如權利要求5所述的清潔設備,其特征在于,所述凹腔的內壁設置有第一凸環(huán)和第三凸環(huán),所述安裝件的靠近所述底盤的表面設置有第二凸環(huán),所述第二凸環(huán)位于所述第一凸環(huán)與所述第三凸環(huán)之間,所述第一凸環(huán)、所述第二凸環(huán)及所述第三凸環(huán)相互配合,以阻擋外界環(huán)境中的物體進入或纏繞所述安裝件及所述旋轉軸。
9.如權利要求8所述的清潔設備,其特征在于,所述防纏繞件位于所述第三凸環(huán)外側。
10.如權利要求1至9任一項所述的清潔設備,其特征在于,所述防纏繞件是一束刷毛或彈性件。
11.一種清潔設備,其特征在于,包括:
殼體;
清潔組件,設置于所述殼體,用于清潔待清潔面,所述清潔組件包括至少一個第一清潔子組件,所述第一清潔子組件包括安裝件、防纏繞件及至少一個清掃構件,所述安裝件能夠繞一從殼體伸出的旋轉軸旋轉,所述防纏繞件設置于所述殼體的底面,并且所述防纏繞件與所述安裝件接觸,每個所述清掃構件均從所述安裝件向外延伸,所述清掃構件能夠隨所述安裝件的旋轉而轉動;
其中,所述安裝件旋轉時,所述防纏繞件清掃所述安裝件。