技術(shù)特征：

1.一種抗氧化燙印箔，其特征在于：在基材薄膜（1）之上，依次均勻涂覆有離型層（2）、色層（3）、真空鍍鋁層（4）、抗氧化層（5）和粘結(jié)層（6），抗氧化層（5）介于真空鍍鋁層（4）和粘結(jié)層（6）之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求１所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述基材薄膜（1）厚度在8～20μm之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述基材薄膜（1）厚度為12～15μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求１所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述離型層（2）厚度在0.1～0.8μm之間，涂布干量在0.05±0.004 g/m²。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述離型層（2）厚度為0.5±0.02μm、涂布干量0.05±0.002 g/m²。

6.根據(jù)權(quán)利要求１所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述色層（3）厚度在0.2～1.0μm之間，涂布干量在0.8～1.5 g/m²之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述色層（3）厚度為0.5～0.8μm，涂布干量在1.0±0.02 g/m²。

8.根據(jù)權(quán)利要求１所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述真空鍍鋁層（4）厚度在5～15μm之間。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述真空鍍鋁層（4）厚度在12±1μm之間。

10.根據(jù)權(quán)利要求１所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述抗氧化層（5）為聚4,4-硫代雙-( 5-甲基-2-叔丁基苯酚)、TDI-PB-SBHPP、PBHA、PTBHQ或PHBA ，所述抗氧化層（5）涂層厚度在2～10μm之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述抗氧化層（5）為8±0.5μm的TDI-PB-SBHPP。

12. 根據(jù)權(quán)利要求１所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述粘結(jié)層（6）由熱塑性樹脂與二氧化硅粉末構(gòu)成，涂布干量在1.3±0.5 g/m²之間。

13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的抗氧化燙印箔，其特征在于：所述粘結(jié)層（6）由熱塑性樹脂與二氧化硅粉末構(gòu)成，涂布干量在1.3±0.2 g/m²之間。