技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本披露涉及新穎的兩步光致抗蝕劑組合物和工藝。這些工藝涉及在步驟一中移除對(duì)酸敏感的基團(tuán)以及在步驟二中使該剩余的材料與它們自身或添加的交聯(lián)體系交聯(lián)。將多步途徑結(jié)合到抗蝕劑催化鏈中增加了在接收低劑量輻射的區(qū)域中的化學(xué)梯度，有效地充當(dāng)內(nèi)置的取決于劑量的淬火模擬，并且從而提高化學(xué)梯度以及因此的分辨率。這些光致抗蝕劑組合物以及方法對(duì)于使用例如紫外線輻射、超越極端紫外線輻射、極端紫外線輻射、X射線和帶電粒子射線的精細(xì)圖案處理是理想的。還披露了雙官能光敏組合物以及方法。

技術(shù)研發(fā)人員：亞歷克斯·菲利普·格雷厄姆·羅賓遜;艾倫·布朗;安德烈亞斯·弗羅姆霍爾德;湯姆·拉達(dá)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：亞歷克斯·菲利普·格雷厄姆·羅賓遜;艾倫·布朗;安德烈亞斯·弗羅姆霍爾德;湯姆·拉達(dá)
技術(shù)研發(fā)日：2015.12.15
技術(shù)公布日：2017.08.22