本發(fā)明涉及電子照相感光體，詳細而言，涉及耐強曝光特性提高且耐磨耗性及耐成膜性等機械特性、以及耐氣體性也優(yōu)良的電子照相感光體。
背景技術(shù)：
：近年的電子照相感光體對電特性方面及機械特性方面這兩方面比以前更要求耐久性。其中，在機械特性方面，為了應對長期使用而提高感光體最外層表面的耐磨耗性成為課題之一。另外，為了使使用期間內(nèi)所必需的設備維護等容易進行，抑制由維護時自然光或熒光燈的漫射光等引起的、對感光體的所謂強曝光暴露所引起的不良影響也是課題之一。其中，就前者的機械特性方面而言，已知通過使保護層中含有金屬氧化物顆粒而提高耐磨耗性等的技術(shù)(專利文獻1)。通過使比感光層薄(1～5μm左右)的保護層中含有金屬氧化物顆粒，可以抑制金屬氧化物顆粒的使用量，是抑制對電特性的不良影響且以機械特性方面的改良為目標的合理方法。另外，將對于后者的由自然光或熒光燈的漫射光等引起的強曝光暴露對感光體的損傷的耐受性稱為耐強曝光特性，作為提高該特性的技術(shù)，已知在感光層中使用具有供電子性的修飾的氨基結(jié)構(gòu)的特定化合物來改良耐強曝光特性的技術(shù)(專利文獻2)。該技術(shù)的本質(zhì)在于，通過使感光層中含有特定化合物而發(fā)揮濾波器作用、抑制這些光給感光體造成的損傷，所述特定化合物具備在與自然光或熒光燈的漫射光相當?shù)牟ㄩL區(qū)具有吸收的供電子性骨架。損傷產(chǎn)生的推定機理如下。由于感光層吸收自然光、熒光燈的漫射光，產(chǎn)生感光層的電荷傳輸物質(zhì)的激發(fā)狀態(tài)、或電荷傳輸物質(zhì)與粘結(jié)劑樹脂間的電荷移動絡合物的激發(fā)狀態(tài)，通過繼而發(fā)生的與氧或臭氧的反應而發(fā)生電荷傳輸物質(zhì)的劣化，這是感光體損傷的原因。通過添加上述特定化合物來抑制感光層中的感光材料對自然光、熒光燈的漫射光等有害光的吸收的方法，作為感光體損傷的抑制對策是合理的?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1：日本特開2002-182416號公報專利文獻2：日本特開2004-206109號公報技術(shù)實現(xiàn)要素：發(fā)明要解決的問題但是，專利文獻2中記載的上述添加特定化合物的技術(shù)中，具有供電子性骨架的特定化合物在電荷傳輸層中為相容化狀態(tài)，因此容易限制電荷傳輸，其結(jié)果是，感光體的強曝光暴露后的電位變化的抑制不充分。本發(fā)明是為了解決這樣的課題而作出的。即，本發(fā)明的目的在于，提供一種強曝光暴露所引起的電特性變動少、機械特性和耐氣體性也優(yōu)良的電子照相感光體以及搭載有上述電子照相感光體的圖像形成裝置。用于解決問題的方案本發(fā)明人朝著通過在感光層中利用非相容的材料來解決課題的方向進行了深入研究，完成了提供感光體的耐強曝光特性良好、且機械特性和耐氣體性也優(yōu)良的感光體的技術(shù)。即，本發(fā)明的主旨在于以下＜1＞～＜12＞。＜1＞一種電子照相感光體，其特征在于，其在導電性基體上具備電荷產(chǎn)生層、及膜厚為15μm以上且40μm以下的電荷傳輸層，該電荷傳輸層為最外層，該電荷傳輸層含有無機填料和下述通式(1)所示的烴化合物，通式(1)＜2＞根據(jù)＜1＞所述的電子照相感光體，其中，所述無機填料為二氧化硅。＜3＞根據(jù)＜2＞所述的電子照相感光體，其中，所述二氧化硅進行了表面修飾。＜4＞根據(jù)＜1＞～＜3＞中的任一種所述的電子照相感光體，其中，所述無機填料的平均一次粒徑為0.01μm以上且1μm以下。＜5＞根據(jù)＜1＞～＜4＞中的任一種所述的電子照相感光體，其中，所述電荷傳輸層含有粘結(jié)劑樹脂，所述無機填料的含量相對于該粘結(jié)劑樹脂為5質(zhì)量％以上且30質(zhì)量％以下。＜6＞根據(jù)＜1＞～＜5＞中的任一種所述的電子照相感光體，其中，所述通式(1)所示的烴化合物的比例相對于所述無機填料為10質(zhì)量％以上且100質(zhì)量％以下。＜7＞根據(jù)＜1＞～＜6＞中的任一種所述的電子照相感光體，其中，所述電荷傳輸層含有通式(2)所示的化合物作為吸電子性化合物，通式(2)通式(2)中，x1，x2，x3，x4，y1，y2，y3，y4表示氫原子、烷基、芳基、酰基或2價的有機基團，可以形成含有x1和x2的環(huán)結(jié)構(gòu)、含有x3和x4的環(huán)結(jié)構(gòu)、含有y1和y2的環(huán)結(jié)構(gòu)、含有y3和y4的環(huán)結(jié)構(gòu)。＜8＞根據(jù)＜7＞所述的電子照相感光體，其中，所述通式(2)所示的吸電子性化合物為下述通式(2a)～(2d)所示的化合物中的任一種，通式(2a)通式(2b)通式(2c)通式(2d)＜9＞根據(jù)＜7＞或＜8＞所述的電子照相感光體，其中，所述通式(2)所示的吸電子性化合物的含有比例相對于所述二氧化硅為2質(zhì)量％以上且50質(zhì)量％以下。＜10＞根據(jù)＜1＞～＜9＞中的任一種所述的電子照相感光體，其中，所述電荷產(chǎn)生層含有d型(y型)氧鈦酞菁，所述d型(y型)氧鈦酞菁在cukα特性x射線衍射光譜中、在布拉格角2θ(±0.2゜)為27.1゜以上且27.3゜以下顯示出明顯的峰。＜11＞根據(jù)＜1＞～＜10＞中的任一種所述的電子照相感光體，其中，所述電荷產(chǎn)生層含有d型(y型)氧鈦酞菁，所述d型(y型)氧鈦酞菁在cukα特性x射線衍射光譜中、至少在布拉格角2θ±0.2゜＝27.2゜具有最大峰且在26.2゜不具有峰，并且，在差示掃描量熱分析中除了伴隨吸附水氣化的峰以外，在50℃～400℃不具有因溫度變化而產(chǎn)生的峰。＜12＞根據(jù)＜1＞～＜11＞中的任一種所述的電子照相感光體，其具備阻擋層。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，提供一種強曝光暴露所引起的電特性變動少、機械特性和耐氣體性也優(yōu)良的電子照相感光體。附圖說明[圖1]圖1為示意性示出本發(fā)明的圖像形成裝置的主要部分結(jié)構(gòu)的一例的圖。[圖2]圖2為本發(fā)明的實施例中使用的電荷產(chǎn)生材料的cukα特性x射線衍射光譜。具體實施方式以下，詳細說明本發(fā)明的實施方式，以下記載的構(gòu)成要件的說明是本發(fā)明的實施方式的代表例，可以在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)進行適當變形而實施。需要說明的是，本說明書中，me表示甲基，et表示乙基，tbu表示叔丁基。<<電子照相感光體>>以下說明本發(fā)明的電子照相感光體的構(gòu)成。本發(fā)明的電子照相感光體是層疊型電子照相感光體，其在導電性支承體上(在設置陽極氧化覆膜、樹脂層等阻擋層的情況下，在阻擋層上)具備電荷產(chǎn)生層及膜厚15μm以上且40μm以下的電荷傳輸層，該電荷傳輸層為最外層，電荷傳輸層含有電荷傳輸物質(zhì)、粘結(jié)劑樹脂、無機填料和通式(1)所示的化合物，另外還可以根據(jù)需要含有抗氧化劑、流平劑、其它添加物。＜導電性支承體＞關(guān)于導電性支承體，對其材質(zhì)沒有特別限制，主要列舉例如：鋁、鋁合金、不銹鋼、銅及鎳等金屬材料；添加金屬、碳及氧化錫等導電性粉體從而賦予了導電性的樹脂材料，以及在其表面蒸鍍或涂布有鋁、鎳及ito(氧化銦氧化錫)等導電性材料的樹脂、玻璃以及紙等。這些可以單獨使用1種，也可以以任意組合及比率組合使用2種以上。作為導電性支承體的形態(tài)，可以列舉例如：筒狀、片狀或帶狀等形態(tài)。進而，也可以使用為了導電性和表面性等的控制、覆蓋缺陷而在金屬材料的導電性支承體上涂布了具有適當電阻值的導電性材料的形態(tài)。另外，使用鋁合金等金屬材料作為導電性支承體時，可以施加陽極氧化覆膜后使用。在施加了陽極氧化覆膜的情況下，優(yōu)選通過公知的方法實施封孔處理。支承體表面可以為平滑的表面，也可以通過使用特別的切削方法或?qū)嵤┐置婊幚韥磉M行粗面化。另外，也可以通過在構(gòu)成支承體的材料中混合適當粒徑的顆粒來進行粗面化。另外，為了降低成本，也可以不實施切削處理而直接使用拉拔管。＜阻擋層＞本發(fā)明的電子照相感光體可以具有阻擋層。在引入阻擋層的情況下，例如，可以通過以下方式引入：在導電性支承體的金屬管坯的表面設置氧化覆膜，在金屬管坯的表面或者片狀感光體的金屬蒸鍍面上設置含有樹脂成分的層。在引入含有樹脂成分的層的情況下，可以僅為樹脂，也可以含有無機填料，從優(yōu)選濕度依賴性少的觀點考慮，優(yōu)選含有金屬氧化物顆粒作為無機填料的樹脂層。作為金屬氧化物顆粒，優(yōu)選涂布液的分散穩(wěn)定性高的物質(zhì)，具體而言，可以列舉例如：二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、鈦酸鋇、氧化鋅、氧化鉛及氧化銦那樣的物質(zhì)，這些之中，優(yōu)選顯示n型半導體特性的金屬氧化物顆粒，更優(yōu)選氧化鈦、氧化鋅及氧化錫，特別優(yōu)選氧化鈦。對于氧化鈦，結(jié)晶質(zhì)、非晶質(zhì)均可以使用，在結(jié)晶質(zhì)的情況下，其晶型可以為銳鈦礦型、金紅石型或板鈦礦型中的任意種，從吸水性、表面處理的效率等理由出發(fā)，通常使用銳鈦礦型或金紅石型。特別優(yōu)選的是使用金紅石型。就金屬氧化物顆粒的粒徑而言，從在涂布液中的分散穩(wěn)定性的理由出發(fā)，通常優(yōu)選其平均粒徑為100nm以下、特別優(yōu)選為10～60nm。涂布液中使用的顆粒的粒徑可以均勻，另外，也可以為不同粒徑的復合體系。在不同粒徑的復合體系的情況下，優(yōu)選具有粒徑的最大峰處于150nm附近、最小粒徑為約30nm到約500nm的粒徑分布，例如可以混合使用平均粒徑為0.1μm的顆粒與0.03μm的顆粒。作為阻擋層所含有的粘結(jié)劑樹脂，可以列舉例如：聚乙烯醇縮醛、聚酰胺、酚醛樹脂、聚酯、環(huán)氧樹脂、聚氨酯及聚丙烯酸等樹脂材料。其中，優(yōu)選支承體的粘接性優(yōu)良、對電荷產(chǎn)生層涂布液中使用的溶劑的溶解性小的聚酰胺樹脂。其中，更優(yōu)選在處理方面也優(yōu)良的在醇系溶劑中也能使用的聚酰胺。作為那樣的聚酰胺，可以列舉例如：東麗株式會社制的amilancm4000、cm8000等3元體系(6-66-610)或4元體系(6-66-610-12)共聚聚酰胺，nagasechemtexcorporation制的toresinf-30k、mf-30、ef-30t，namariichico.,ltd.制的finelexfr-101、fr-104、fr-105、fr-301等甲氧基甲基化尼龍樹脂，t&ktokaco.,ltd制的pa-100、pa-100a、pa-102a、pa-105a、pa-200、pa-201等聚合脂肪酸系聚酰胺，t&ktokaco.,ltd制的tpae-12及tpae-32等聚合脂肪酸系聚酰胺嵌段共聚物等市售聚酰胺；以及具有下述結(jié)構(gòu)式1所示的二胺成分作為構(gòu)成材料的醇溶性共聚聚酰胺樹脂。結(jié)構(gòu)式1就金屬氧化物顆粒與粘結(jié)劑樹脂的比率而言，從電特性方面出發(fā)，相對于粘結(jié)劑樹脂100質(zhì)量份通常為50質(zhì)量份以上，優(yōu)選為200質(zhì)量份以上。從液體穩(wěn)定性、涂布性的觀點出發(fā)，通常為800質(zhì)量份以下，優(yōu)選為500質(zhì)量份以下。阻擋層的膜厚過薄時，對于局部性帶電不良的效果不充分；此外，相反地，過厚時，則成為殘余電位上升、或?qū)щ娦曰w與感光層之間的粘接強度降低的原因。阻擋層的膜厚通常為0.1μm以上、優(yōu)選為0.5μm以上、更優(yōu)選為1μm以上，通常為20μm以下、優(yōu)選為10μm以下、更優(yōu)選為6μm以下。阻擋層的體積電阻值通常為1×1011ω·cm以上、優(yōu)選為1×1012ω·cm以上；通常為1×1014ω·cm以下、優(yōu)選為1×1013ω·cm以下。為了得到含有金屬氧化物顆粒和粘結(jié)劑樹脂的阻擋層涂布液，在用行星磨、球磨機、砂磨機、珠磨機、油漆攪拌器、磨碎機或者超聲波等粉碎或分散處理裝置處理過的金屬氧化物顆粒的漿料中混合粘結(jié)劑樹脂、或?qū)⒄辰Y(jié)劑樹脂溶解于適當?shù)娜軇┲卸玫降娜芙庖?、并進行溶解及攪拌處理即可。相反，也可以在粘結(jié)劑樹脂溶解液中添加金屬氧化物顆粒，用如上所述的分散裝置進行粉碎或分散處理。＜電荷產(chǎn)生層＞電荷產(chǎn)生層是通過用粘結(jié)劑樹脂將電荷產(chǎn)生物質(zhì)粘結(jié)而形成的。作為電荷產(chǎn)生物質(zhì)，可以列舉例如：硒及其合金、以及硫化鎘等無機系光導電材料，和有機顏料等有機系光導電材料，優(yōu)選有機系光導電材料，特別優(yōu)選有機顏料。作為有機顏料，可以列舉例如：酞菁顏料、偶氮顏料、二硫代酮吡咯并吡咯顏料、角鯊烯(方酸鎓)顏料、喹吖啶酮顏料、靛藍顏料、苝顏料、多環(huán)醌顏料、蒽嵌蒽醌顏料及苯并咪唑顏料等。這些之中，特別優(yōu)選酞菁顏料或偶氮顏料。使用有機顏料作為電荷產(chǎn)生物質(zhì)時，通常以將這些有機顏料的微粒用各種粘結(jié)劑樹脂粘結(jié)而得到的分散層的形式使用。使用無金屬酞菁化合物、含金屬酞菁化合物作為電荷產(chǎn)生物質(zhì)時，能得到對波長較長的激光、例如具有780nm附近的波長的激光靈敏度高的感光體。另外，在使用單偶氮、二偶氮或三偶氮等偶氮顏料的情況下，能得到對白色光、具有660nm附近的波長的激光、或者波長較短的激光例如具有450nm或400nm附近的波長的激光具有充分的靈敏度的感光體。使用酞菁顏料作為電荷產(chǎn)生物質(zhì)時，具體而言，可以列舉例如：無金屬酞菁、具有配位有銅、銦、鎵、錫、鈦、鋅、釩、硅、鍺及鋁等金屬或其氧化物、鹵化物、氫氧化物、醇鹽等的酞菁類的各晶型的物質(zhì)，以及將氧原子等作為交聯(lián)原子而使用的酞菁二聚物類等。特別優(yōu)選作為靈敏度高的晶型的x型或τ型的無金屬酞菁、a型(別名β型)、b型(別名α型)或d型(別名y型)等氧鈦酞菁(titanylphthalocyanine)(別名：oxytitaniumphthalocyanine)、氧釩酞菁、氯銦酞菁、羥基銦酞菁、ii型等的氯鎵酞菁、v型等的羥基鎵酞菁、g型或i型等的μ-氧代-鎵酞菁二聚體或ii型等的μ-氧代-鋁酞菁二聚體。另外，這些酞菁之中，更優(yōu)選a型(別名β型)、b型(別名α型)、及特征為在粉末x射線衍射的衍射角2θ(±0.2゜)為27.1゜、27.2゜、或者27.3゜處顯示出明顯的峰的d型(y型)氧鈦酞菁、ii型氯鎵酞菁、v型及特征為在28.1゜具有最強的峰、或者在26.2゜沒有峰而在28.1゜具有明顯的峰并且25.9゜的半峰寬w為0.1゜≤w≤0.4゜的羥基鎵酞菁或g型μ-氧代-鎵酞菁二聚體等。從靈敏度及電特性的穩(wěn)定性的觀點出發(fā)，進一步優(yōu)選在cukα特性x射線衍射光譜中，至少在布拉格角2θ±0.2゜＝27.2゜處具有最大峰、同時在26.2゜沒有峰、并且在差示掃描量熱分析中除了伴隨吸附水氣化的峰以外在50℃至400℃不具有因溫度變化而產(chǎn)生的峰的d型(y型)氧鈦酞菁。酞菁化合物可以使用單一的化合物，也可以使用幾種的混合或混晶狀態(tài)的化合物。作為此處的酞菁化合物和結(jié)晶狀態(tài)下的混合狀態(tài)，可以使用之后將各個構(gòu)成要素混合而得到的化合物，可以為在合成、顏料化、結(jié)晶化等酞菁化合物的制造和/或處理工序中產(chǎn)生混合狀態(tài)的化合物。作為這樣的處理，已知有酸糊劑處理、磨碎處理、溶劑處理等。為了產(chǎn)生混晶狀態(tài)，可以舉出：如日本特開平10-48859號公報所記載的，將2種結(jié)晶在混合后進行機械磨碎、不定形化后，通過溶劑處理轉(zhuǎn)變?yōu)樘囟ǖ慕Y(jié)晶狀態(tài)的方法。使用偶氮顏料作為電荷產(chǎn)生物質(zhì)時，適合使用各種雙偶氮顏料、三偶氮顏料。在使用有機顏料作為電荷產(chǎn)生物質(zhì)的情況下，可以單獨使用1種，也可以混合使用2種以上顏料。在這種情況下，優(yōu)選組合使用在可見光區(qū)域和近紅外區(qū)域的不同光譜區(qū)域下具有光譜靈敏度特性的2種以上電荷產(chǎn)生物質(zhì)，其中更優(yōu)選組合使用雙偶氮顏料、三偶氮顏料和酞菁顏料。對電荷產(chǎn)生層中使用的粘結(jié)劑樹脂沒有特別限制，可以列舉例如：聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、縮丁醛的一部分被縮甲醛或縮乙醛等改性后的部分縮醛化聚乙烯醇縮丁醛樹脂等聚乙烯醇縮醛系樹脂，聚芳酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、改性醚系聚酯樹脂、苯氧基樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏氯乙烯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、丙烯酸系樹脂、甲基丙烯酸系樹脂、聚丙烯酰胺樹脂、聚酰胺樹脂、聚乙烯基吡啶樹脂、纖維素系樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、硅樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚乙烯基吡咯烷酮樹脂、酪蛋白、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、羥基改性氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、羧基改性氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物及氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐共聚物等氯乙烯-乙酸乙烯酯系共聚物，苯乙烯-丁二烯共聚物、偏氯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-醇酸樹脂、硅-醇酸樹脂及苯酚-甲醛樹脂等絕緣性樹脂，聚-n-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽及聚乙烯基苝等有機光導電性聚合物等。這些粘結(jié)劑樹脂可以單獨使用任1種，也可以以任意組合混合使用2種以上。具體而言，電荷產(chǎn)生層例如如下形成：在將上述粘結(jié)劑樹脂溶解于有機溶劑而得的溶液中分散電荷產(chǎn)生物質(zhì)，從而制備涂布液，將其涂布在導電性支承體上(在設置阻擋層的情況下，在阻擋層上)，由此形成。就電荷產(chǎn)生層中粘結(jié)劑樹脂和電荷產(chǎn)生物質(zhì)的配混比(質(zhì)量)而言，相對于粘結(jié)劑樹脂100質(zhì)量份，電荷產(chǎn)生物質(zhì)通常為10質(zhì)量份以上、優(yōu)選為30質(zhì)量份以上；另外，通常為1000質(zhì)量份以下、優(yōu)選為500質(zhì)量份以下的范圍，其膜厚通常為0.1μm以上、優(yōu)選為0.15μm以上；另外，通常為10μm以下、優(yōu)選為0.6μm以下的范圍。電荷產(chǎn)生物質(zhì)的比率過高時，有由于電荷產(chǎn)生物質(zhì)的凝聚等而涂布液的穩(wěn)定性降低之虞；而電荷產(chǎn)生物質(zhì)的比率過低時，有導致作為感光體的靈敏度降低之虞。作為使電荷產(chǎn)生物質(zhì)分散的方法，可以列舉例如：球磨機分散法、磨碎機分散法、砂磨機分散法、珠磨機分散等公知的分散法。此時，將顆粒微細化至通常0.5μm以下、優(yōu)選為0.3μm以下、更優(yōu)選為0.15μm以下的范圍的顆粒尺寸是有效的。＜電荷傳輸層＞就本發(fā)明的電荷傳輸層而言，可以制備除了電荷傳輸物質(zhì)等和粘結(jié)劑樹脂以外還溶解或分散、混合無機填料和通式(1)所示的烴化合物而得的涂布液，將其涂布在電荷產(chǎn)生層上并干燥而得到。就電荷傳輸層的膜厚而言，從電特性的觀點出發(fā)為15μm以上，從耐強曝光特性的觀點出發(fā)優(yōu)選為17μm以上。從圖像穩(wěn)定性、分辨率的觀點出發(fā)，為40μm以下，優(yōu)選為35μm以下。我們認為，在感光層中，非相容的無機填料不參與電荷移動，由于其的存在，電荷移動路徑受到限制；而對于感光體的電特性，感光層的膜厚是支配著靈敏度及殘余電位的重要控制因子，根據(jù)其平衡關(guān)系，結(jié)果是在上述膜厚范圍內(nèi)可獲得優(yōu)選的耐強曝光特性。為了提高電荷傳輸層的成膜性、撓性、涂布性、耐污染性、耐氣體性及耐光性等或為了進一步提高感光層的機械強度，還可以含有熟知的增塑劑、潤滑劑、分散輔助劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、吸電子性化合物、染料、顏料、敏化劑、流平劑、穩(wěn)定劑、流動性賦予劑及交聯(lián)劑等添加物。作為抗氧化劑，可以列舉例如：受阻酚化合物及受阻胺化合物等。另外，作為染料或顏料，可以列舉例如：各種色素化合物及偶氮化合物等。作為流平劑，可以列舉例如：硅油及氟系表面活性劑等。[無機填料]作為本發(fā)明中使用的無機填料，可以列舉例如：氧化鈦、氧化硅(二氧化硅)、氧化錫、氧化鋁(alumina)、氧化鋯、氧化銦、氮化硅、氧化鈣、氧化鋅、硫酸鋇及鈦酸鋇等典型元素及過渡元素的氧化物、氮化物或復合氧化物。這些之中，從在涂布液中的分散效率和電特性方面出發(fā)，優(yōu)選二氧化硅。二氧化硅通過氣相法或液相法來制造，優(yōu)選二氧化硅表面通過反應性有機硅化合物進行了表面修飾。上述進行了表面修飾的二氧化硅可以通過干式法及濕式法來制造。在干式法的情況下，可以將表面處理劑與金屬氧化物顆?；旌?，從而覆蓋金屬氧化物顆粒，根據(jù)需要進行加熱處理，從而制造。在濕式法的情況下，可以如下制作：對金屬氧化物顆粒和在適當?shù)娜軇┲谢旌媳砻嫣幚韯┒玫囊后w充分攪拌至均勻附著為止；或者通過介質(zhì)進行混合，而后干燥，根據(jù)需要進行加熱處理。作為反應性有機硅化合物，可以列舉例如：硅烷偶聯(lián)劑、硅烷處理劑及硅氧烷化合物等。這些之中，從對顆粒狀有機硅化合物的反應性、另外從抑制容易殘留未反應位點的反應性聚集顆粒的生成的觀點出發(fā)，優(yōu)選硅烷處理劑。硅烷處理劑之中，優(yōu)選具有碳數(shù)為1～3的烷基的硅烷處理劑。作為那樣的硅烷處理劑，可以列舉例如：六甲基二硅氮烷、三甲基甲氧基硅烷、三甲基乙氧基硅烷、三甲基氯硅烷、二甲基二氯硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基乙氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷及甲基三乙氧基硅烷等。從耐裂紋的觀點出發(fā)，上述二氧化硅的球度通常為0.95以上、優(yōu)選為0.96以上、更優(yōu)選為0.98以上。球度越大，二氧化硅的表面積越小，成為裂紋的原因的界面越少，因此不易產(chǎn)生裂紋。從抑制裂紋的觀點、耐裂紋的觀點出發(fā)，上述二氧化硅的密度通常為1.5g/cm3以上、優(yōu)選為1.8g/cm3以上、更優(yōu)選為2.0g/cm3以上。另外，通常為3.0g/cm3以下、優(yōu)選為2.8g/cm3以下、更優(yōu)選為2.5g/cm3以下。從涂布液穩(wěn)定性的觀點出發(fā)，上述無機填料的平均一次粒徑優(yōu)選為1.0μm以下，更優(yōu)選為0.8μm以下。另一方面，從耐磨耗性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為0.01μm以上。另外，從耐成膜性的觀點出發(fā)，更優(yōu)選為0.1μm以上，進一步優(yōu)選為0.3μm以上。平均一次粒徑可以通過利用掃描型電子顯微鏡(sem)或透射型電子顯微鏡(tem)測定來把握。上述無機填料的含量相對于電荷傳輸層中的粘結(jié)劑樹脂優(yōu)選為5質(zhì)量％以上，從耐成膜的觀點出發(fā)，更優(yōu)選為6質(zhì)量％以上。另一方面，為了保持強度以避免感光體變脆，上述無機填料的含量優(yōu)選為30質(zhì)量％以下，從電荷傳輸層中的分散性及電特性的觀點出發(fā)，更優(yōu)選為25質(zhì)量％以下。[烴化合物]本發(fā)明中，電荷傳輸層中含有通式(1)所示的烴化合物。從無機填料的感光層內(nèi)分散性的觀點出發(fā)，通式(1)所示的烴化合物在電荷傳輸層中的含有比例相對于無機填料優(yōu)選為10質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為20質(zhì)量％以上，從感光層的機械性質(zhì)的觀點出發(fā)，優(yōu)選為100質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為80質(zhì)量％以下。[電荷傳輸物質(zhì)]本發(fā)明中使用的電荷傳輸物質(zhì)包括通常使用的公知的電荷傳輸物質(zhì)，可以將所有的電荷傳輸物質(zhì)單獨使用或?qū)?種以上組合而使用。另外，就所使用的電荷傳輸物質(zhì)相對于電荷傳輸層中所使用的粘結(jié)劑樹脂的比例而言，從電特性的觀點出發(fā)，相對于粘結(jié)劑樹脂100重量份通常為30重量份以上、優(yōu)選為35重量份以上、更優(yōu)選為40重量份以上；從耐磨耗性的觀點出發(fā)，通常為100重量份以下、優(yōu)選為90重量份以下、更優(yōu)選為85重量份以下。以下例示出適合于本發(fā)明的電荷傳輸物質(zhì)的結(jié)構(gòu)。以下結(jié)構(gòu)是為了使本發(fā)明更為具體而例示的，只要沒有脫離本發(fā)明的主旨則不受下述結(jié)構(gòu)限定。[粘結(jié)劑樹脂]以上述無機填料、通式(1)所示的烴化合物及電荷傳輸物質(zhì)粘結(jié)在粘結(jié)劑樹脂上的形態(tài)形成電荷傳輸層。作為電荷傳輸層中使用的粘結(jié)劑樹脂，可以列舉例如：聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯等乙烯基聚合物及其共聚物、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、聚酯碳酸酯、聚砜、聚酰亞胺、苯氧樹脂、環(huán)氧樹脂、有機硅樹脂等，另外，也可以使用它們的部分交聯(lián)固化物。上述粘結(jié)劑樹脂之中，從感光體的電特性的觀點出發(fā)，特別優(yōu)選聚碳酸酯樹脂、聚芳酯樹脂。這些樹脂可以單獨使用，也可以混合使用多種。以下示出上述粘結(jié)劑樹脂的合適結(jié)構(gòu)的具體例。這些具體例是為了例示而示出的，只要不違反本發(fā)明的主旨，可以混合使用任何公知的粘結(jié)劑樹脂。粘均分子量(mv)通常為20,000以上、優(yōu)選為30,000以上、進一步優(yōu)選為40,000以上。另外，通常為200,000以下、優(yōu)選為100,000以下、進一步優(yōu)選為80,000以下。粘均分子量(mv)過小時，有形成感光體等以膜形式得到時的機械強度降低的傾向。另外，粘均分子量(mv)過大時，作為涂布液的粘度上升，有難以涂布成適當?shù)哪ず竦膬A向，存在無機填料的分散性變差的可能性。[吸電子性化合物]本發(fā)明中，為了進一步提高抑制光疲勞的效果，還可以使用吸電子性化合物。作為吸電子性化合物，可以列舉例如：四氰基醌二甲烷、二氰基醌甲烷或具有二氰基醌乙烯基的芳香族酯類等氰基化合物、2,4,6-三硝基芴酮等硝基化合物、苝等縮合多環(huán)芳香族化合物、聯(lián)苯醌衍生物、醌類、醛類、酮類、酯類、酸酐、苯酞類、取代及未取代水楊酸的金屬絡合物、取代及未取代水楊酸的金屬鹽、芳香族羧酸的金屬絡合物以及芳香族羧酸的金屬鹽，其中，從電特性方面出發(fā)，優(yōu)選通式(2)所示的聯(lián)苯醌衍生物、醌衍生物。通式(2)通式(2)中，x1、x2、x3、x4、y1、y2、y3、y4表示氫原子、烷基、芳基、?；?價的有機基團，x1和x2之間、x3和x4之間、y1和y2之間、y3和y4之間可以具有環(huán)結(jié)構(gòu)。作為烷基，可以列舉例如：甲基、乙基、正丙基、正丁基、正己基及正辛基等直鏈狀烷基，異丙基、乙基己基及叔丁基等支鏈狀烷基，以及環(huán)己基等環(huán)狀烷基。這些之中，從電特性的觀點出發(fā)，優(yōu)選直鏈狀烷基或支鏈狀烷基。作為芳基，可以列舉例如：苯基、萘基、聯(lián)苯基、蒽基、菲基、甲苯基及茴香基等。這些之中，從電特性的觀點出發(fā)，優(yōu)選苯基。以下例示出通式(2)所示的化合物。這些之中，具有烷基取代基的下述結(jié)構(gòu)容易獲得，是優(yōu)選使用的。從耐強曝光特性的觀點出發(fā)，吸電子性化合物相對于電荷傳輸層中含有的無機填料通常為2質(zhì)量％以上、優(yōu)選為4質(zhì)量％以上，從帶電性及表面電位的觀點出發(fā)，通常為50質(zhì)量％以下、優(yōu)選為40質(zhì)量％以下。[有機溶劑]作為電荷傳輸層形成用涂布液中使用的有機溶劑，可以使用例如四氫呋喃、1,4-二氧六環(huán)及二甲氧基乙烷等醚類，甲酸甲酯及乙酸乙酯等酯類，丙酮、甲乙酮及環(huán)己酮等酮類，苯、甲苯及二甲苯等芳香族烴類，二氯甲烷、氯仿、1,2-二氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、四氯乙烷、1,2-二氯丙烷及三氯乙烯等氯化烴類，正丁胺、異丙醇胺、二乙胺、三乙醇胺、乙二胺及三亞乙基二胺等含氮化合物類，以及乙腈、n-甲基吡咯烷酮、n,n-二甲基甲酰胺及二甲基亞砜等非質(zhì)子性極性溶劑類等。這些之中，從抑制磨刷(brushing)的觀點出發(fā)，優(yōu)選以沸點為90℃以下的醚為主成分、進一步含有5質(zhì)量％～50質(zhì)量％的沸點為120℃以上的醚的有機溶劑。作為沸點為90℃以下的醚，從耐磨刷的方面及安全性的方面出發(fā)，優(yōu)選沸點為50℃以上的醚、更優(yōu)選為60℃以上。作為那樣的醚，可以列舉例如：四氫呋喃、二甲氧基乙烷、二氧戊環(huán)、甲基四氫呋喃、四氫吡喃等。這些之中，從粘結(jié)劑樹脂的溶解性的方面等出發(fā)，優(yōu)選環(huán)狀醚、特別優(yōu)選四氫呋喃。沸點為90℃以下的醚的含量在全部有機溶劑中優(yōu)選為50質(zhì)量％以上，從涂布膜的干燥速度的方面出發(fā)，更優(yōu)選為60質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為75質(zhì)量％以上。另一方面，從耐磨刷的方面出發(fā)，優(yōu)選為90質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為85質(zhì)量％以下。作為沸點為120℃以上的醚，從干燥速度及殘留溶劑的方面出發(fā)，優(yōu)選沸點為200℃以下的醚、更優(yōu)選170℃以下。作為那樣的醚，可以列舉例如：二乙氧基乙烷、茴香醚及2,2-二四氫糠基丙烷等，優(yōu)選芳香族醚、特別優(yōu)選茴香醚。從耐磨刷的方面出發(fā)，沸點為120℃以上的醚的含量在全部有機溶劑中優(yōu)選為10質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為15質(zhì)量％以上。另一方面，從涂布膜的干燥速度的方面出發(fā)，優(yōu)選為30質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為25質(zhì)量％以下。除了沸點為90℃以下的醚和沸點為120℃以上的醚以外，還可以在沒有粘結(jié)劑樹脂析出的范圍內(nèi)混合任意的有機溶劑。作為那樣的有機溶劑，可以列舉例如：沸點為90℃以上且120℃以下的醚及甲乙酮等酮，以及碳數(shù)為4以上的醇等。有機溶劑相對于涂布液整體優(yōu)選為60～95質(zhì)量％、更優(yōu)選為70～90質(zhì)量％、特別優(yōu)選為75～85質(zhì)量％。＜各層的形成方法＞就構(gòu)成感光體的各層而言，在支承體上通過浸漬涂布、噴霧涂布、噴嘴涂布、棒涂、輥涂或刮刀涂布等公知的方法，將使各層中含有的物質(zhì)溶解或分散于溶劑中而得到的涂布液對各層依次重復涂布及干燥工序，從而形成。對使用的溶劑或分散介質(zhì)沒有特別限制，作為具體例，可以舉出：四氫呋喃、1,4-二氧六環(huán)及二甲氧基乙烷等醚類，甲酸甲酯及乙酸乙酯等酯類，丙酮、甲乙酮及環(huán)己酮等酮類，苯、甲苯及二甲苯等芳香族烴類，二氯甲烷、氯仿、1,2-二氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、四氯乙烷、1,2-二氯丙烷及三氯乙烯等氯化烴類，正丁胺、異丙醇胺、二乙胺、三乙醇胺、乙二胺及三亞乙基二胺等含氮化合物類，以及乙腈、n-甲基吡咯烷酮及n,n-二甲基甲酰胺、二甲基亞砜等非質(zhì)子性極性溶劑類等。另外，這些可以單獨使用1種，也可以以任意的組合及種類組合使用2種以上。對溶劑或分散介質(zhì)的用量沒有特別限制，優(yōu)選考慮各層的目的、所選擇的溶劑或分散介質(zhì)的性質(zhì)，以涂布液的固體成分濃度、粘度等物性達到期望的范圍的方式進行適宜調(diào)整。在電荷傳輸層的情況下，涂布液的固體成分濃度通常設為5質(zhì)量％以上、優(yōu)選設為10質(zhì)量％以上，并且，通常設為40質(zhì)量％以下，優(yōu)選為35質(zhì)量％以下的范圍。另外，通常將涂布液的粘度設為10cps以上，優(yōu)選設為50cps以上，并且，通常設為500cps以下，優(yōu)選設為400cps以下的范圍。在電荷產(chǎn)生層的情況下，涂布液的固體成分濃度通常設為0.1質(zhì)量％以上、優(yōu)選設為1質(zhì)量％以上，并且，通常設為15質(zhì)量％以下、優(yōu)選設為10質(zhì)量％以下的范圍。另外，涂布液的粘度通常設為0.01cps以上、優(yōu)選設為0.1cps以上，另外，通常設為20cps以下、優(yōu)選設為10cps以下的范圍。作為涂布液的涂布方法，可以列舉例如：浸漬涂布法、噴霧涂布法、旋轉(zhuǎn)涂布法、珠涂(beadcoating)法、線棒涂布法、刮刀涂布法、輥涂布法、氣刀涂布法及簾涂法等，也可以使用其他公知的涂布法。<<圖像形成裝置>>使用本發(fā)明的電子照相感光體的復印機、打印機等圖像形成裝置至少含有帶電、曝光、顯影、轉(zhuǎn)印、清潔的各程序，任一程序均可以使用通常使用的方法中的任一種。作為帶電方法(帶電機)，除了例如利用電暈放電的電暈器、柵控電暈器(scorotron)帶電以外，還可以使用使施加了電壓的直接帶電構(gòu)件接觸感光體表面而使其帶電的直接帶電手段。作為直接帶電手段，可以使用利用導電性輥或刷或者膜等的接觸帶電等中的任意者，還可以是伴隨氣體放電的手段、或不伴隨氣體放電的注入帶電的手段中的任一者。其中，在使用電暈放電的帶電方法中，為了使暗區(qū)電位保持恒定，優(yōu)選柵控電暈帶電。作為使用導電性輥等的接觸帶電裝置時的帶電方式，可以使用直流帶電或交流疊加直流帶電。作為曝光光，可以列舉例如：鹵素燈、熒光燈、激光(半導體、he-ne)、led、感光體內(nèi)部曝光方式等，作為數(shù)字式電子照相方式，優(yōu)選使用激光、led或光柵陣列(opticalshutterarray)等。作為波長，除了780nm的單色光以外，還可以使用600～700nm范圍的稍微偏短波長的單色光、及380～500nm范圍的短波長單色光。作為調(diào)色劑，除了粉碎的調(diào)色劑以外，還可以使用懸浮聚合、乳液聚合凝聚法等聚合調(diào)色劑。特別是聚合調(diào)色劑的情況下，使用平均粒徑4～8μm左右的小粒徑調(diào)色劑，從形狀也接近球形的調(diào)色劑到馬鈴薯狀的偏離了球形的形狀的調(diào)色劑均可使用。聚合調(diào)色劑的帶電均勻性及轉(zhuǎn)印性優(yōu)良，適用于高畫質(zhì)化。轉(zhuǎn)印工序使用電暈轉(zhuǎn)印、輥轉(zhuǎn)印或帶轉(zhuǎn)印等靜電轉(zhuǎn)印法、壓力轉(zhuǎn)印法或粘合轉(zhuǎn)印法。定影使用熱輥定影、閃光定影、烘箱定影或壓力定影等。作為清潔，可以列舉例如：刷清潔器、磁刷清潔器、靜電刷清潔器、磁輥清潔器及刮刀清潔器等。除電工序多數(shù)情況下被省略，在使用的情況下，使用熒光燈、led等，作為強度，大多使用曝光光的3倍以上的曝光能量。另外，除了這些程序以外，還可以具有前曝光工序、輔助帶電工序的工藝。關(guān)于使用本發(fā)明的電子照相感光體的圖像形成裝置的實施方式，使用示出裝置的主要部分結(jié)構(gòu)的圖1來進行說明。但是，實施方式不受以下的說明限定，只要不脫離本發(fā)明的主旨則可以任意地變形而實施。如圖1所示，圖像形成裝置具備電子照相感光體1、帶電裝置2、曝光裝置3及顯影裝置4而構(gòu)成，進而，根據(jù)需要設置轉(zhuǎn)印裝置5、清潔裝置6及定影裝置7。電子照相感光體1只要是上述本發(fā)明的電子照相感光體就沒有特別限制，圖1中，作為其一例，示出在圓筒狀的導電性支承體的表面上形成有上述感光層的筒狀的感光體。沿該電子照相感光體1的外周面分別配置有帶電裝置2、曝光裝置3、顯影裝置4、轉(zhuǎn)印裝置5及清潔裝置6。帶電裝置2為使電子照相感光體1帶電的裝置，其使電子照相感光體1的表面均勻地帶電成規(guī)定電位。圖1中，作為帶電裝置2的一例，示出了輥型的帶電裝置(帶電輥)，此外，也常使用電暈器(corotron)、柵控電暈器(scorotron)等電暈帶電裝置、帶電刷等接觸型帶電裝置等。需要說明的是，電子照相感光體1及帶電裝置2大多以具備該兩者的盒(以下有時稱為感光體盒)的形式設計成能從圖像形成裝置的主體卸下來。而且，例如在電子照相感光體1、帶電裝置2劣化的情況下，能夠?qū)⒃摳泄怏w盒自圖像形成裝置主體卸下、并將其它新的感光體盒安裝到圖像形成裝置主體上。另外，關(guān)于后述的調(diào)色劑，大多情況下存儲在調(diào)色劑盒中，設計成能從圖像形成裝置主體上卸下來，在使用的調(diào)色劑盒中的調(diào)色劑變沒有的情況下，能夠?qū)⒃撜{(diào)色劑盒自圖像形成裝置主體卸下、并安裝其它新的調(diào)色劑盒。進而，有時也使用電子照相感光體1、帶電裝置2、調(diào)色劑全部具備的盒。曝光裝置3只要能夠?qū)﹄娮诱障喔泄怏w1進行曝光從而在電子照相感光體1的感光面上形成靜電潛像，就不特別限制其種類。作為具體例，可以舉出鹵素燈、熒光燈、半導體激光及he-ne激光等激光以及l(fā)ed等。另外，可以通過感光體內(nèi)部曝光方式進行曝光。進行曝光時的光為任意的，例如可以用波長為780nm的單色光、波長600nm～700nm的稍微偏短波長的單色光、波長380nm～500nm的短波長的單色光等進行曝光。調(diào)色劑t的種類是任意的，除了粉狀調(diào)色劑以外，還可以采用使用懸浮聚合法或乳液聚合法等的聚合調(diào)色劑等。特別是使用聚合調(diào)色劑的情況下，優(yōu)選粒徑為4～8μm左右的小粒徑的調(diào)色劑，另外，調(diào)色劑的顆粒的形狀也可以是各種各樣的，從接近球形的調(diào)色劑到馬鈴薯狀的偏離了球形的形狀的調(diào)色劑均可使用。聚合調(diào)色劑的帶電均勻性、轉(zhuǎn)印性優(yōu)異，適用于高畫質(zhì)化。對于轉(zhuǎn)印裝置5的種類沒有特別限制，可以使用利用了電暈轉(zhuǎn)印、輥轉(zhuǎn)印或帶轉(zhuǎn)印等靜電轉(zhuǎn)印法、壓力轉(zhuǎn)印法或粘合轉(zhuǎn)印法等任意方式的裝置。此處，轉(zhuǎn)印裝置5由與電子照相感光體1相對配置的轉(zhuǎn)印充電器、轉(zhuǎn)印輥、轉(zhuǎn)印帶等構(gòu)成。該轉(zhuǎn)印裝置5以與調(diào)色劑t的帶電電位相反的極性施加規(guī)定電壓值(轉(zhuǎn)印電壓)，將形成于電子照相感光體1上的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到記錄紙(紙張、介質(zhì))p上。對清潔裝置6沒有特別限制，可以使用刷清潔器、磁刷清潔器、靜電刷清潔器、磁輥清潔器或刮刀清潔器等任意清潔裝置，本發(fā)明中，在刮刀清潔器的情況下容易發(fā)揮效果。清潔裝置6是將附著于感光體1的殘留調(diào)色劑用清潔構(gòu)件刮落并回收殘留調(diào)色劑的裝置。定影裝置7由上部定影構(gòu)件(定影輥)71及下部定影構(gòu)件(定影輥)72構(gòu)成，在定影構(gòu)件71或72的內(nèi)部具備加熱裝置73。需要說明的是，圖1中示出在上部定影構(gòu)件71的內(nèi)部具備有加熱裝置73的例子。上部及下部的各定影構(gòu)件71、72可以使用在不銹鋼或鋁等的金屬管坯上覆蓋有硅橡膠的定影輥、進而用teflon(注冊商標)樹脂覆蓋的定影輥或定影片等公知的熱定影構(gòu)件。進而，各定影構(gòu)件71、72可以制成為了提高脫模性而供給硅油等脫模劑的結(jié)構(gòu)，也可以制成通過彈簧等相互強制施加壓力的結(jié)構(gòu)。被轉(zhuǎn)印至記錄紙p上的調(diào)色劑在被加熱至規(guī)定溫度的上部定影構(gòu)件71和下部定影構(gòu)件72之間通過時，調(diào)色劑被加熱至熔融狀態(tài)，在通過后進行冷卻，從而調(diào)色劑被定影到記錄紙p上。需要說明的是，關(guān)于定影裝置，對其種類也沒有特別限定，以此處使用的種類為代表，可以設計利用熱輥定影、閃光定影、烘箱定影或壓力定影等任意方式的定影裝置。如上所述地構(gòu)成的電子照相裝置中，如下地進行圖像的記錄。即，首先，通過帶電裝置2使感光體1的表面(感光面)帶電成規(guī)定的電位(例如-600v)。此時，可以通過直流電壓使其帶電，也可以通過在直流電壓上疊加交流電壓而使其帶電。然后，根據(jù)將要記錄的圖像，通過曝光裝置3對帶電的感光體1的感光面進行曝光，并在感光面上形成靜電潛像。然后，在顯影裝置4中進行形成于該感光體1的感光面上的靜電潛像的顯影。對于顯影裝置4，利用限制構(gòu)件(顯影刮板)45對通過供給輥43供給的調(diào)色劑t進行薄層化，使其摩擦帶電為規(guī)定的極性，邊負載在顯影輥44上，邊進行輸送，從而與感光體1的表面接觸。若負載于顯影輥44上的帶電調(diào)色劑t與感光體1的表面接觸，則在感光體1的感光面上形成對應于靜電潛像的調(diào)色劑圖像。然后，將該調(diào)色劑圖像通過轉(zhuǎn)印裝置5轉(zhuǎn)印到記錄紙p上。然后，將未轉(zhuǎn)印而殘留在感光體1的感光面上的調(diào)色劑通過清潔裝置6去除。調(diào)色劑圖像被轉(zhuǎn)印到記錄紙p上后，通過定影裝置7將調(diào)色劑圖像熱定影到記錄紙p上，由此得到最終的圖像。需要說明的是，對于圖像形成裝置，除了上述結(jié)構(gòu)，例如還可以制成能夠進行除電工序的結(jié)構(gòu)。除電工序為通過對電子照相感光體進行曝光來進行電子照相感光體的除電的工序，作為除電裝置，使用熒光燈或led等。另外，除電工序中使用的光大多為具有曝光光的3倍以上的曝光能量的強度的光。另外，圖像形成裝置也可以經(jīng)進一步變形而構(gòu)成，例如可以為能夠進行前曝光工序或輔助帶電工序等工序的構(gòu)成，或者為進行膠版印刷的構(gòu)成，進而還可以為使用多種調(diào)色劑的全彩串聯(lián)方式的構(gòu)成。以下列舉具體實施例來進一步詳細說明本發(fā)明。但是，本發(fā)明不受這些例子限定。需要說明的是，實施例中的“份”表示“質(zhì)量份”。實施例＜阻擋層涂布形成用分散液1的制造＞將用甲基二甲氧基硅烷3％處理后的平均一次粒徑40nm的金紅石型白色氧化鈦[石原產(chǎn)業(yè)(株)制、制品名tto55n]在甲醇溶劑中進行5小時的球磨機分散，得到氧化鈦分散漿料。對上述氧化鈦分散漿料、甲醇/1-丙醇/甲苯的混合溶劑、及由組成摩爾比率為60mol％/15mol％/5mol％/15mol％/5mol％的ε-己內(nèi)酰胺[下式(a)所示的化合物]/雙(4-氨基-3-甲基環(huán)己基)甲烷[下式(b)所示的化合物]/六亞甲基二胺[下式(c)所示的化合物]/十亞甲基二羧酸[下式(d)所示的化合物]/十八亞甲基二羧酸[下式(e)所示的化合物]形成的共聚聚酰胺樹脂的料粒一邊加熱一邊攪拌、混合，使聚酰胺料粒溶解后，進行1小時的超聲波分散處理，進而利用孔徑5μm的ptfe制膜濾器(advantec制マイテックスlc)進行過濾，得到氧化鈦/共聚聚酰胺的質(zhì)量比為3/1，甲醇/1-丙醇/甲苯的混合溶劑的質(zhì)量比為7/1/2且所含的固態(tài)成分的濃度為18.0質(zhì)量％的阻擋層涂布形成用分散液1。＜電荷傳輸層形成用涂布液的制造＞(電荷傳輸層用涂布液1-1的制備例)將用六亞甲基二硅氮烷進行表面處理后的平均一次粒徑0.8μm的二氧化硅顆粒(對株式會社日本觸媒制、制品名ke-s100進行表面處理)在四氫呋喃溶劑中進行3小時的超聲波分散，得到二氧化硅顆粒漿料。另一方面，準備將雙酚z型聚碳酸酯樹脂(粘均分子量mv＝40,000)、下述結(jié)構(gòu)的電荷傳輸物質(zhì)(ct1)、下述結(jié)構(gòu)的烴化合物(hc1)、下述結(jié)構(gòu)的吸電子性化合物(ew1)、抗氧化劑(basf公司制、制品名irganox1076)和硅油(信越有機硅公司制制品名kf-96)用四氫呋喃溶劑和茴香醚溶劑溶解而得的液體后，確認上述制作的二氧化硅顆粒漿料為均勻狀態(tài)，然后進行混合。由此制作了最終粘結(jié)劑樹脂/電荷傳輸物質(zhì)/二氧化硅/烴化合物/吸電子性化合物/抗氧化劑/硅油的質(zhì)量比為100/60/10/5/2/4/0.05、四氫呋喃/茴香醚＝9/1、固態(tài)成分濃度22％的電荷傳輸層形成用涂布液(1-1)。電荷傳輸物質(zhì)(ct1)烴化合物(hc1)吸電子性化合物(ew1)(電荷傳輸層用涂布液1-2～1-6)與電荷傳輸層用涂布液1-1的制備例同樣進行，但選擇使用或不使用二氧化硅顆粒(ke-s100)、氧化鋁顆粒、烴化合物(hc1、hc2)、吸電子性化合物(ew1)，按照下述表-1的內(nèi)容來制作電荷傳輸層形成用涂布液1-2～1-6。烴化合物(hc2)[表1]表-1(電荷傳輸層用涂布液2-1的制備例)使用下述的電荷傳輸物質(zhì)ct2代替電荷傳輸層用涂布液1-1中使用的電荷傳輸物質(zhì)ct1，使用下述的聚碳酸酯(pc1)(粘均分子量mv＝20,000)代替雙酚z型聚碳酸酯，除此以外，通過與電荷傳輸層用涂布液1-1同樣的涂布液制備方法制作最終的涂布液組成為粘結(jié)劑樹脂(pc1)/電荷傳輸物質(zhì)(ct2)/二氧化硅(ke-s100)/烴化合物(hc1)/吸電子性化合物(ew1)/抗氧化劑(irganox1076)/硅油(kf-96)的質(zhì)量比為100/55/10/5/2/4/0.05、固態(tài)成分濃度22％的電荷傳輸層形成用涂布液2-1。電荷傳輸物質(zhì)(ct2)聚碳酸酯(pc1)pc1為下述結(jié)構(gòu)pa及pb的共聚聚碳酸酯，pa/pb＝51/49(摩爾比)。papb(電荷傳輸層用涂布液2-2)與電荷傳輸層用涂布液2-1的制備例同樣進行但調(diào)整了溶劑量，制作了固態(tài)成分濃度為28％的電荷傳輸層形成用涂布液。＜感光體的耐強曝光特性的評價＞(評價用電子照相感光體的制作方法)對于本發(fā)明的涂布液，為了進行制成感光體時的耐強曝光特性的評價，首先通過下述方法制作電子照相感光體。在表面蒸鍍有鋁的厚度75μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜上，按照干燥后的膜厚為1.3μm的方式涂布阻擋層涂布形成用分散液1，形成阻擋層。然后，將在利用cukα射線的x射線衍射中、在布拉格角(2θ±0.2)27.3゜顯示強衍射峰且具有圖2所示的粉末x射線衍射光譜的氧鈦酞菁10質(zhì)量份加入1,2-二甲氧基乙烷150質(zhì)量份，用砂磨機進行粉碎分散處理，制作顏料分散液。將這樣得到的160質(zhì)量份的顏料分散液加入聚乙烯醇縮丁醛[電氣化學工業(yè)(株)制、商品名#6000c]的5質(zhì)量％的1,2-二甲氧基乙烷溶液100質(zhì)量份中，加入適量的1,2-二甲氧基乙烷，制作最終固態(tài)成分濃度4.0質(zhì)量％的電荷產(chǎn)生層形成用涂布液。將該電荷產(chǎn)生層形成用涂布液按照干燥后的膜厚為0.4μm的方式用線棒涂布在上述阻擋層上后進行干燥，形成電荷產(chǎn)生層。進而，用分配器將電荷傳輸層用涂布液涂布在上述電荷產(chǎn)生層上，風干后，在125℃下加熱干燥20分鐘，使干燥后的膜厚為下述的規(guī)定膜厚，設置電荷傳輸層。在使用電荷傳輸層用涂布液1-1～1-6的情況下，上述評價用電子照相感光體制作方法中，將電荷傳輸層的膜厚設為27μm而制作電子照相感光體1-1～1-6。[表2]表-2在使用電荷傳輸層用涂布液2-1及2-2的情況下，在上述評價用電子照相感光體制作方法中，將電荷傳輸層的膜厚設為10μm、25μm、45μm而制作電子照相感光體2-1～2-3。[表3]表-3(耐強曝光特性的評價)得到的各感光體的耐強曝光特性的評價通過評價強曝光照射前后的電特性變動而進行。下面說明其評價方法。首先，將按照上述評價用電子照相感光體的制作方法而得到的各感光體安裝在感光體特性試驗裝置[三菱化學(株)制]上，通過帶電、曝光、電位測定、除電的循環(huán)來進行電特性的評價。即，按照感光體的初始表面電位為-700v的方式使其帶電，曝光中，使用將鹵素燈的光通過干涉濾波器制成780nm的單色光的光，測定照射0.4μj/cm2時的表面電位vl。將從曝光到電位測定為止的時間設為200毫秒。然后，作為強曝光，將白色熒光燈(三菱オスラム社制ネオルミスーパーfl20ss·w/18)的光調(diào)整為感光體表面的光強度為2000勒克斯后，對這些感光體照射10分鐘。并且，之后在暗處放置10分鐘后，與上述強曝光照射前所進行的評價同樣進行電特性的評價，進行表面電位vl的測定。將各電子照相感光體的強曝光(白色熒光燈)照射前后的表面電位vl的變化量的絕對值設為δvl。δvl越小則vl的變動越小，因此是優(yōu)選的。(感光體1-1～1-7的評價)對于感光體1-1～1-7，為了進行vl的變化量的絕對值δvl的相對比較，將以感光體1-5的vl的變化量δvl為100％時的、各感光體的δvl的百分比示于下述表-4。[表4]表-4評價感光體δvl(以感光體1-5的δvl為100％時的相對數(shù)值)感光體1-1(實施例1)41％感光體1-2(實施例2)87％感光體1-3(比較例1)92％感光體1-4(比較例2)96％感光體1-5(參考例1)100％感光體1-6(比較例3)96％(感光體2-1～2-3的評價)對于感光體2-1～2-3，為了進行vl的變化量的絕對值δvl的相對比較，將以感光體2-2的vl的變化量δvl為100％時的、各感光體的δvl的百分比示于下述表-5。[表5]表-5由上述結(jié)果可知，本發(fā)明的感光體具有良好的耐強曝光特性。因此，處理中不需要花費特別的工夫，可以適用于圖像形成裝置、及鼓盒(drumcartridge)。感光體的機械特性的評價(涂布液及感光體的制作)與電荷傳輸層用涂布液1-1的制備例同樣進行，但選擇使用或不使用二氧化硅a(將ke-s100用六甲基二硅氮烷進行表面處理、粒徑0.8μm)、烴化合物(hc1)，按照下述表-6的內(nèi)容制作電荷傳輸層形成用涂布液3-1～3-2。需要說明的是，相對于100份聚碳酸酯pc1，將電荷傳輸劑的質(zhì)量份數(shù)設為50份。另外，將二氧化硅顆粒變更為二氧化硅b(evonik公司制r9200、用二甲基二氯硅烷進行表面處理、粒徑12nm)，按照下述表6的內(nèi)容同樣制作電荷傳輸層用涂布液4-1～4-2。同樣地，相對于100份聚碳酸酯pc1，將電荷傳輸劑的質(zhì)量份數(shù)設為50份。使用該電荷傳輸層用涂布液，與制作電子照相感光體1-1～1-2同樣地制作電子照相感光體。即，在蒸鍍有鋁的厚度75μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜上依次制作使用了阻擋層涂布形成用分散液1的1.3μm的阻擋層及含有在利用cukα射線的x射線衍射中、在布拉格角(2θ±0.2)27.3゜顯示強衍射峰且具有圖2所示的粉末x射線衍射光譜的氧鈦酞菁的電荷產(chǎn)生層后，使用電荷傳輸層用涂布液3-1～3-2、及4-1～4-2，將電荷傳輸層的膜厚變更為25μm而制作表-7所示的電子照相感光體。[表6]表-6[表7]表-7(機械特性的評價)對于制作的各電子照相感光體，切成直徑10cm的圓形，用taber磨耗試驗機(taber公司制)進行磨耗評價。試驗條件為23℃、50％rh的氣氛下，使用磨耗輪cs-10f，通過比較試驗前后的質(zhì)量，來測定載荷500g下旋轉(zhuǎn)1000轉(zhuǎn)后的磨耗量。將測定結(jié)果示于表-8。[表8]表-8感光體磨耗量(mg)3-13.493-23.634-14.294-24.14如表8所示，可知使用大粒徑二氧化硅的情況下，比使用小粒徑二氧化硅時的耐磨耗性優(yōu)異，但通過組合使用本申請的烴化合物，可以實現(xiàn)耐磨耗性的進一步改良。用特定方式詳細說明了本發(fā)明，但可以在不脫離本發(fā)明的主旨和范圍的條件下進行各種變更及變形，這對本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是不言自明的。需要說明的是，本申請基于2014年11月28日提出的日本專利申請(日本特愿2014-241987)，通過引用方式而援引其全部內(nèi)容。當前第1頁12