技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種感光體的強(qiáng)曝光暴露后的電位變化得到抑制、成膜及耐磨耗性的機(jī)械特性提高的電子照相感光體、盒、圖像形成裝置。本發(fā)明涉及一種電子照相感光體，其特征在于，其在導(dǎo)電性基體上具有電荷產(chǎn)生層及膜厚為15μm以上且40μm以下的電荷傳輸層，該電荷傳輸層為最外層，該電荷傳輸層含有無(wú)機(jī)填料和下述通式(1)所示的烴化合物。

技術(shù)研發(fā)人員：井田和孝
受保護(hù)的技術(shù)使用者：三菱化學(xué)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：2015.11.26
技術(shù)公布日：2017.08.29