技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種反射鏡裝置(29)，其包括至少一個(gè)導(dǎo)電屏蔽元件(25)，其形成在與反射鏡體(35)的至少一個(gè)側(cè)表面(22)和/或后側(cè)(21)相鄰的區(qū)域中產(chǎn)生電場(chǎng)的機(jī)構(gòu)。

技術(shù)研發(fā)人員：Y.薩羅夫;M.霍爾茲;F.哈克;M.C.溫格勒;M.豪夫
受保護(hù)的技術(shù)使用者：卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日：2015.12.15
技術(shù)公布日：2017.08.29