1.一種提高大口徑菲涅耳波帶片衍射效率的方法,其特征在于,包括如下步驟
步驟一、根據(jù)菲涅耳波帶片上區(qū)域i的設(shè)計(jì)線寬Li和光刻機(jī)加工的最小線寬l0確定區(qū)域i對應(yīng)的臺階數(shù)2n:即2n≤Li/l0≤2n+1;
步驟二、在石英玻璃基板上制備光刻膠掩模結(jié)構(gòu);
步驟三、進(jìn)行第一次離子束刻蝕,在對應(yīng)臺階數(shù)為2的區(qū)域加工出2臺階結(jié)構(gòu);
步驟四、清洗光刻膠,進(jìn)行第一次套刻加工;
步驟五、進(jìn)行第二次離子束刻蝕,在對應(yīng)臺階數(shù)為4的區(qū)域加工出4臺階結(jié)構(gòu);
步驟六、清洗光刻膠,進(jìn)行第二次套刻加工;
步驟七、進(jìn)行第三次離子束刻蝕,在對應(yīng)臺階數(shù)為8的區(qū)域加工8臺階結(jié)構(gòu);
步驟八、依次類推,直至所有區(qū)域加工完成為止;
步驟九、刻蝕完成后,去除光刻膠,獲得多臺階混合的多臺階菲涅耳波帶片。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述步驟一中,所述石英玻璃基板為兩面拋光,則在該石英玻璃基板上制備光刻膠掩模結(jié)構(gòu)的方法具體為:在所述石英玻璃基板上旋涂一層光刻膠,然后進(jìn)行前烘處理,接著,使用激光直寫機(jī)在光刻膠表面曝光所設(shè)計(jì)的菲涅耳波帶片圖案,曝光完成后,進(jìn)行顯影操作,顯影完成后,再進(jìn)行后烘堅(jiān)膜處理;
所述光刻膠為適合離子束刻蝕的正性光刻膠。