1.一種激光對(duì)焦測(cè)試裝置，其特征在于，所述裝置包括：
固定件，用于固定所述待測(cè)試產(chǎn)品，所述待測(cè)試產(chǎn)品用于發(fā)射和接收激光；
第一反射板，所述第一反射板位于所述激光發(fā)射的路徑上，用于將所述待測(cè)試產(chǎn)品發(fā)射的激光進(jìn)行反射形成第一反射激光并反射給所述待測(cè)試產(chǎn)品；
第二反射板，與所述第一反射板間隔設(shè)置并位于所述激光發(fā)射的路徑上，用于將所述待測(cè)試產(chǎn)品發(fā)射的激光進(jìn)行反射形成第二反射激光并反射給所述待測(cè)試產(chǎn)品；
旋轉(zhuǎn)裝置，用于驅(qū)動(dòng)所述第一反射板、第二反射板旋轉(zhuǎn)，以使所述第一反射板與所述第二反射板中任意一者位于所述激光發(fā)射的路徑上以反射所述待測(cè)試產(chǎn)品所發(fā)射的激光，另一者偏移至所述激光發(fā)射的路徑外以不能反射所述待測(cè)試產(chǎn)品所發(fā)射的激光；
處理模組，根據(jù)所述第一反射激光、所述第二反射激光、所述待測(cè)試產(chǎn)品與所述第一反射板之間的距離、所述待測(cè)試產(chǎn)品與所述第二反射板之間的距離檢測(cè)出所述待測(cè)試產(chǎn)品是否對(duì)焦。
2.如權(quán)利要求1所述的激光對(duì)焦測(cè)試裝置，其特征在于，所述待測(cè)試產(chǎn)品為移動(dòng)終端。
3.如權(quán)利要求1所述的激光對(duì)焦測(cè)試裝置，其特征在于，所述裝置包括箱體，所述第一反射板和所述第二反射板平行設(shè)置于所述箱體內(nèi)，所述第一反射板位于所述激光發(fā)射的路徑上，當(dāng)所述第一反射板旋轉(zhuǎn)90度時(shí)，所述第一反射板偏移至所述激光發(fā)射路徑外以使所述第二反射板位于所述激光發(fā)射的路徑上。
4.如權(quán)利要求3所述的激光對(duì)焦測(cè)試裝置，其特征在于，所述箱體的內(nèi)表面設(shè)置有吸光件，所述吸光件為吸光膠。
5.如權(quán)利要求3所述的激光對(duì)焦測(cè)試裝置，其特征在于，所述箱體包括頂板、兩個(gè)側(cè)板，兩個(gè)側(cè)板相對(duì)設(shè)置并分別與所述頂板相固定，所述兩個(gè)側(cè)板用于支撐所述頂板，所述待測(cè)試產(chǎn)品設(shè)置所述側(cè)板的頂面，所述頂面遠(yuǎn)離所述兩個(gè)側(cè)板，所述頂板設(shè)有通孔；所述第一反射板和所述第二反射板連接于所述兩個(gè)側(cè)板之間；所述待測(cè)試產(chǎn)品發(fā)射的激光通過所述通孔投射到所述第一反射板或者所述第二反射板上。
6.如權(quán)利要求4所述的激光對(duì)焦測(cè)試裝置，其特征在于，所述第一反射板和所述第二反射板通過第一樞軸和第二樞軸連接于所述側(cè)板上，所述旋轉(zhuǎn)裝置驅(qū)動(dòng)所述第一樞軸或者第二樞軸旋轉(zhuǎn)。
7.如權(quán)利要求5所述的激光對(duì)焦測(cè)試裝置，其特征在于，處理模組包括控制單元，所述控制單元若獲取到第一反射激光，控制所述第一反射板旋轉(zhuǎn)至90度；若所述控制單元若獲取到第二反射激光，控制所述第一反射板旋轉(zhuǎn)以復(fù)位。
8.如權(quán)利要求1所述的激光對(duì)焦測(cè)試裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)裝置包括：
驅(qū)動(dòng)電機(jī)，用于提供驅(qū)動(dòng)動(dòng)力；
支撐板，用于支撐所述第一反射板或者所述第二反射板；
連接軸，用于連接所述支撐板與所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)。
9.如權(quán)利要求1所述的激光對(duì)焦測(cè)試裝置，其特征在于，所述處理模組包括：
檢測(cè)單元，用于根據(jù)所述第一反射激光檢測(cè)所述待測(cè)試產(chǎn)品與所述第一反射板之間的第一測(cè)試距離，還用于根據(jù)所述第二反射激光檢測(cè)所述待測(cè)試產(chǎn)品與所述第二反射板的第二測(cè)試距離；
計(jì)算單元，用于計(jì)算所述第一測(cè)試距離和所述第二測(cè)試距離之間的差值；
比較單元，將所述計(jì)算出差值與實(shí)際差值進(jìn)行比較，若差異值大于預(yù)設(shè)閾值，所述待測(cè)試產(chǎn)品對(duì)焦不合格；
所述實(shí)際差值為所述待測(cè)試產(chǎn)品與所述第一反射板之間的第一實(shí)際距離和所述待測(cè)試產(chǎn)品與所述第二反射板之間的第二實(shí)際距離的差值。
10.如權(quán)利要求1所述的激光對(duì)焦測(cè)試裝置，其特征在于，所述處理模組包括：
檢測(cè)單元，用于根據(jù)所述第一反射光檢測(cè)所述待測(cè)試產(chǎn)品與所述第一反射板之間第一測(cè)試距離，還用于根據(jù)所述第二反射光檢測(cè)所述待測(cè)試產(chǎn)品與所述第二反射板的第二測(cè)試距離；
計(jì)算單元，用于計(jì)算所述第一測(cè)試距離和所述第一實(shí)際距離的差值以及第二測(cè)試距離和所述第二實(shí)際距離的差值；所述第一實(shí)際距離為所述待檢測(cè)裝置與所述第一反射板之間的距離，所述第二實(shí)際距離為所述待檢測(cè)裝置與所述第二反射板之間的距離；
比較單元，將所述計(jì)算出差值與實(shí)際差值進(jìn)行比較，若差異值大于預(yù)設(shè)閾值，所述待測(cè)試產(chǎn)品對(duì)焦不合格。