本發(fā)明涉及檢測設(shè)備、曝光設(shè)備以及制造設(shè)備的方法。

背景技術(shù)：

在作為用于半導(dǎo)體設(shè)備等的制造工藝之一的光刻工藝中，使用曝光裝置，該曝光裝置經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)將原版(original)的圖案轉(zhuǎn)印到基板上的曝光區(qū)域上。為了正確地轉(zhuǎn)印圖案，必須正確地檢測基板的表面(曝光區(qū)域)在投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上的高度。因此，曝光裝置包括檢測基板的表面的高度的檢測系統(tǒng)(檢測設(shè)備)。

檢測系統(tǒng)包括將檢測光投影到基板的表面上的投影系統(tǒng)以及接收來自基板的反射光的光接收系統(tǒng)。如果透射檢測光的透明基板(例如，玻璃)被用作基板，則來自基板的表面的反射光與來自基板的背面的反射光相互重疊，并因此會使檢測精度劣化。這種不便隨著近年來對更輕更薄的基板的需求而變得突出。日本專利特開no.2004-273828公開了從以上兩種反射光中指定來自表面的反射光的方法。日本專利特開no.2010-271603公開了將具有與基板相同的折射率的流體置于基板的正下方以使光接收系統(tǒng)不接收來自背面的反射光的裝置。

但是，依賴于透明基板的厚度，日本專利特開no.2004-273828中所公開的方法以及日本專利特開no.2010-271603中所公開的裝置可能難以區(qū)分這兩種反射光。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

例如，本發(fā)明是要提供在基板表面的高度的檢測方面有利的檢測方法。

本發(fā)明是如下的檢測設(shè)備：該檢測設(shè)備具有從相對于待檢測物體的待檢測表面的法線的傾斜方向投影檢測光的投影系統(tǒng)以及接收由待檢測物體反射的反射光的光接收系統(tǒng)，該檢測設(shè)備基于光接收系統(tǒng)所獲得的數(shù)據(jù)來檢測待檢測表面的位置，反射光包括在待檢測表面上反射的表面反射光以及透射通過待檢測表面并在待檢測物體的背面上反射的背面反射光，光接收系統(tǒng)包括將反射光分離成第一偏振光分量和第二偏振光分量的偏振光分離單元，以及檢測第一偏振光分量和第二偏振光分量的檢測單元，投影系統(tǒng)或光接收系統(tǒng)被配置成使得由檢測單元獲得的背面反射光的第一偏振光分量與背面反射光的第二偏振光分量相等，并且包括基于由檢測單元獲得的示出第一偏振光分量的數(shù)據(jù)與示出第二偏振光分量的數(shù)據(jù)之間的差分?jǐn)?shù)據(jù)來計算所述位置的計算單元。

本發(fā)明的進一步的特征根據(jù)下面參照附圖對示例性實施例的描述將變得清楚。

附圖說明

圖1是示出了包括根據(jù)第一實施例的檢測設(shè)備的曝光裝置的配置的示意圖。

圖2是示出了在基板的表面上反射的光的路徑以及在基板的背面上反射的光的路徑的示意圖。

圖3是解釋位置傳感器不受背面反射光影響的情況的示意圖。

圖4示出了在圖3的情況下由位置傳感器輸出的光強度分布。

圖5是解釋位置傳感器受背面反射光影響的情況的示意圖。

圖6示出了在圖5的情況下由位置傳感器輸出的光強度分布。

圖7示出了檢測光到基板的入射角與p偏振光的反射率以及s偏振光的反射率之間的關(guān)系。

圖8示出了在入射角為78度時由位置傳感器輸出的s偏振光的光強度分布。

圖9示出了在入射角為78度時由位置傳感器輸出的p偏振光的光強度分布。

圖10示出了由計算單元對兩個輸出信號執(zhí)行差分處理的結(jié)果。

圖11是示出了根據(jù)第二實施例的檢測設(shè)備的配置的示意圖。

圖12示出了由位置傳感器輸出的s偏振光的光強度分布。

圖13示出了由位置傳感器輸出的p偏振光的光強度分布。

圖14示出了由計算單元對兩個輸出信號執(zhí)行差分處理的結(jié)果。

圖15示出了在調(diào)整了偏振光狀態(tài)之后由位置傳感器輸出的s偏振光的光強度分布。

圖16示出了在調(diào)整了偏振光狀態(tài)之后由位置傳感器輸出的p偏振光的光強度分布。

圖17示出了在調(diào)整了偏振光狀態(tài)之后由計算單元對兩個輸出信號執(zhí)行差分處理的結(jié)果。

圖18示出了檢測光到基板的入射角與p偏振光的反射率以及s偏振光的反射率之間的關(guān)系。

圖19示出了在入射角為70度時由位置傳感器輸出的s偏振光的光強度分布。

圖20示出了在入射角為70度時由位置傳感器輸出的p偏振光的光強度分布。

圖21示出了在入射角為86度時由位置傳感器輸出的s偏振光的光強度分布。

圖22示出了在入射角為86度時由位置傳感器輸出的p偏振光的光強度分布。

圖23示出了在入射角為80度時由位置傳感器輸出的s偏振光的光強度分布。

圖24示出了在入射角為80度時由位置傳感器輸出的p偏振光的光強度分布。

圖25示出了在由計算單元對兩個信號執(zhí)行差分處理之前的光強度分布。

圖26示出了在使p偏振光的信號在+t方向上移位的同時執(zhí)行差分處理的結(jié)果。

圖27示出了在使p偏振光的信號在-t方向上移位的同時執(zhí)行差分處理的結(jié)果。

具體實施方式

下面，將參照附圖等給出本發(fā)明的優(yōu)選實施例的詳細(xì)描述。

(第一實施例)

圖1是包括根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的檢測設(shè)備的曝光裝置的示意圖。曝光裝置包括照明光學(xué)系統(tǒng)3、投影光學(xué)系統(tǒng)4和基板臺7。照明光學(xué)系統(tǒng)3照明由對準(zhǔn)機構(gòu)(未示出)定位于曝光裝置主體2的原版1。原版1為例如其上繪制待曝光的精細(xì)圖案(例如，電路圖案)的玻璃原版?；迮_7包括保持基板5的基板保持單元6，并且在垂直于投影光學(xué)系統(tǒng)4的光軸(z軸)的xy平面上移動?；?為例如玻璃基板。原版1的圖案經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)4轉(zhuǎn)印到基板5上的曝光區(qū)域上?；迮_7可在z方向以及x方向和y方向上移動，并且還用作用于聚焦基板5和原版1的驅(qū)動系統(tǒng)。另外，鏡子8被放置于基板臺7上，并且通過使用激光干涉儀9來控制在x方向上的驅(qū)動。此外，關(guān)于y方向，采用與x方向上的配置相似的配置(未示出)，并且執(zhí)行在xy平面上的精確驅(qū)動控制。

檢測設(shè)備包括投影系統(tǒng)22和光接收系統(tǒng)23。投影系統(tǒng)22包括光源10、測量狹縫11、偏振光調(diào)整單元12和光投影透鏡13。光接收系統(tǒng)23包括光接收透鏡14、偏振光分束器(偏振光分離單元)15、位置傳感器(檢測單元)16和17以及計算單元18。光源10發(fā)出具有p偏振光分量和s偏振光分量的光，諸如自然偏振光或圓偏振光，光光具有大約500～1200nm的波長。從光源10發(fā)出的檢測光19通過會聚透鏡(未示出)、測量狹縫11、偏振光調(diào)整單元12和光投影透鏡13按照與基板(待檢測的物體)5的法線成θ的入射角來引導(dǎo)。檢測光19在基板5的表面(待檢測的表面)上被反射，通過光接收透鏡14入射到偏振光分束器15(該反射光被用作接收光20)，并且被分離成p偏振光和s偏振光。隨后，p偏振光的光被引導(dǎo)至位置傳感器16，并且s偏振光的光被引導(dǎo)至位置傳感器17。兩個位置傳感器16和17之間的位置關(guān)系被預(yù)先通過已知的方法(諸如基準(zhǔn)物體的測量)校正，來自這兩個傳感器的信號輸出(數(shù)據(jù))被傳輸?shù)接嬎銌卧?8，并且執(zhí)行計算處理。注意，在圖1中，盡管計算單元18被設(shè)置于光接收系統(tǒng)23中，但是它也可以被設(shè)置于光接收系統(tǒng)23之外。

圖2是示出在基板5的表面(待檢測表面)上反射的光的路徑以及在基板5的背面上反射的光的路徑的示意圖，其中光由圖1的檢測設(shè)備接收。接收光(前表面反射光)20是在基板5的前表面上反射的光，并且接收光(背面反射光)21是在基板5的背面上反射的光。這兩個光被引導(dǎo)至光接收系統(tǒng)23。前表面反射光20由偏振光分束器15分離成p偏振光和s偏振光，p偏振光的光入射到位置傳感器16上的點ap的位置，并且s偏振光的光入射到位置傳感器17上的點as的位置。投影光學(xué)系統(tǒng)4的焦點位置(基板5的法線方向上的表面位置)基于點ap和點as來確定。

但是，在取決于基板5的厚度和入射角的背面反射光21的影響下，位置傳感器16和17可能難以正確地測量點ap和點as。如圖2中所示，背面反射光21類似于前表面反射光20那樣由偏振光分束器15分離成p偏振光和s偏振光，p偏振光的光入射到位置傳感器16上的點bp的位置，并且s偏振光的光入射到位置傳感器17上的點bs的位置。

圖3是解釋位置傳感器16和17不受背面反射光21影響的情況的示意圖。在圖3中所示的基板5的厚度和入射角θ的情況下，點ap(點as)和點bp(點bs)變?yōu)楸舜朔蛛x距離“d”的位置關(guān)系。位置傳感器16和17的輸出對應(yīng)于由測量狹縫11形成的光強度分布。在此，一個狹縫被設(shè)置于測量狹縫11中以便簡化描述。圖4示出了圖3的情況下的由位置傳感器16或17輸出的光強度分布。水平軸表示在位置傳感器16或17的光接收表面上的位置，而垂直軸表示待接收的光強度。如圖4中所示，前表面反射光20的p偏振光(s偏振光)在位置傳感器16(17)的光接收表面上的光強度分布的強度峰值是點ap(as)。這同樣適用于背面反射光21。在圖3的基板5的厚度和入射角θ的情況下，前表面反射光20和背面反射光21的光強度分布不重疊，并且位置傳感器16和17可以檢測點ap和點as，而不受背面反射光21的影響。

圖5是解釋位置傳感器16和17受背面反射光21影響的情況的示意圖。圖5中所示的基板5比圖3的基板5薄(例如，30μm)，并且入射角θ與圖3中的入射角θ相同。在這種情況下，距離d比圖3中的距離d窄。圖6示出了在圖5的情況下由位置傳感器16或17輸出的光強度分布。如圖6中所示，在圖5的基板5的厚度和入射角θ的情況下，前表面反射光20和背面反射光21的光強度分布重疊。因此，由于背面反射光21的影響，位置傳感器16和17可能難以正確地測量點ap和點as。

圖7示出了檢測光19到基板5的入射角與p偏振光的反射率和s偏振光的反射率之間的關(guān)系。前表面反射光20的p偏振光由黑色輪廓的圓示出，前表面反射光20的s偏振光由黑色實心圓示出，背面反射光21的p偏振光由黑色輪廓的三角形示出，并且背面反射光21的s偏振光由黑色實心三角形示出。從圖7中可以看出，在78度的入射角附近，背面反射光21的p偏振光的反射率與背面反射光21的s偏振光的反射率相等，并且前表面反射光20的s偏振光的反射率與前表面反射光20的p偏振光的反射率相等或者大于其兩倍。

圖8示出了當(dāng)入射角被設(shè)置為78度并且使得基板5的厚度如圖6中所示的那樣薄時從位置傳感器17輸出的s偏振光(波形數(shù)據(jù))的光強度分布。由位置傳感器17輸出的信號c1是通過將示出前表面反射光20的s偏振光的信號a1與示出背面反射光21的s偏振光的信號b1組合而獲得的信號。圖9示出了當(dāng)入射角被設(shè)置為78度并且使得基板5的厚度如圖6中所示的那樣薄時由位置傳感器16輸出的p偏振光的光強度分布。由位置傳感器16輸出的信號c1’是通過將示出前表面反射光20的p偏振光的信號a1’與示出背面反射光21的p偏振光的信號b1’組合而獲得的信號。

由位置傳感器16和17檢測的背面反射光21的反射率相等的事實意味著偏振光信號b1和b1’相等，因為從光源10發(fā)出的光通過同一路線到達偏振光分束器15。圖10示出了由計算單元18執(zhí)行位置傳感器17的輸出信號c1與位置傳感器16的輸出信號c1’之間的差分處理的結(jié)果。因為信號b1和信號b1’相等，所以在差分處理之后保留的信號c1-c1’(差分?jǐn)?shù)據(jù))表示示出前表面反射光20的p偏振光的信號a1與示出前表面反射光20的s偏振光的信號a1’之間的差a1-a1’。

因為信號a1和信號a1’為取決于彼此間的反射率差的相似關(guān)系，所以每個信號的差分信號和每個信號的重心的位置不改變。因此，獲得差分信號(a1-a1’)的重心的位置相當(dāng)于獲得基板5的表面的位置。(但是，假設(shè)a1-a1’≠0。)

如上所述，本實施例的檢測設(shè)備(檢測方法)可以精確地檢測基板5的表面位置，而不管基板5的厚度如何，并且根據(jù)本實施例，可以提供在檢測基板表面的高度方面有利的檢測方法。

(第二實施例)

接下來，將給出對根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的檢測方法的描述。以上所描述的第一實施例假設(shè)入射角可以被設(shè)置為使得背面反射光21的偏振光信號中的每個相等。相比之下，本實施例可以處理在設(shè)置入射角方面沒有靈活性的情況，或者背面反射光21的偏振光信號由于發(fā)生組分(材料)、組裝、調(diào)整等的誤差而無法相等的情況。

例如，在圖7中，考慮入射角被設(shè)置為θ1的情況。在這種情況下，背面反射光21的p偏振光的反射率和背面反射光21的s偏振光的反射率不相等，并且在這種狀態(tài)下即使執(zhí)行差分處理，也不可能精確地獲得基板5的表面位置。

因此，在本實施例中，光的偏振光狀態(tài)通過使用圖2中所示的投影系統(tǒng)22的偏振光調(diào)整單元12或者設(shè)置于圖11中所示的檢測設(shè)備中的光接收系統(tǒng)23的偏振光調(diào)整單元12被調(diào)整為使得由位置傳感器16和17輸出的p偏振光的信號和s偏振光的信號相等。偏振光調(diào)整單元12可以是具有包括諸如偏振片、λ板或各向異性光學(xué)晶體之類的光學(xué)構(gòu)件的調(diào)整機構(gòu)的偏振光調(diào)整單元。如果它被設(shè)置于光接收系統(tǒng)23中，則希望使用諸如nd濾光器(filter)之類的光量調(diào)整光學(xué)構(gòu)件。

執(zhí)行光的偏振光狀態(tài)的調(diào)整以使得前表面反射光20的偏振光信號中的每個的反射率具有足夠的差異，并維持相似關(guān)系。另外，在調(diào)整之前，在入射角θ1的情況下的前表面反射光20和背面反射光21的偏振光的反射率被記錄，或者由位置傳感器16和17測量。通過以上的調(diào)整，執(zhí)行與在第一實施例中的差分處理相同的差分處理，并因此，可以獲得與第一實施例中的效果相似的效果。

圖12示出了當(dāng)入射角被設(shè)置為θ1時由位置傳感器17輸出的s偏振光的光強度分布。由位置傳感器17輸出的信號c2是通過將示出前表面反射光20的s偏振光的信號a2與示出背面反射光21的s偏振光的信號b2組合而獲得的信號。圖13示出了在相同情況下由位置傳感器16輸出的p偏振光的光強度分布。由位置傳感器16輸出的信號c2’是通過將示出前表面反射光20的p偏振光的信號a2’與示出背面反射光21的p偏振光的信號b2’組合而獲得的信號。

圖14示出了由計算單元18執(zhí)行位置傳感器17的輸出信號c2與位置傳感器16的輸出信號c2’之間的差分處理的結(jié)果。因為信號b2和信號b2’是不同的，所以差分處理信號(c2-c2’)成為前表面反射光的偏振光差分信號(a2-a2’)與背面反射光的偏振光差分信號(b2-b2’)的混合信號。因而，不可能精確地獲得基板5的表面位置。

偏振光調(diào)整單元12基于如同上文所描述的那樣已經(jīng)預(yù)先記錄的反射率來調(diào)整每個反射光的偏振光狀態(tài)，使得背面反射光21的偏振光信號b2和b2’相等，并且前表面反射光20的偏振光信號a2和a2’變?yōu)橄嗨?。圖15示出了在調(diào)整了偏振光狀態(tài)之后由位置傳感器17輸出的s偏振光的光強度分布。圖16示出了在調(diào)整了偏振光狀態(tài)之后由位置傳感器16輸出的p偏振光的光強度分布。如圖15中所示，通過將圖12中所示的每個信號設(shè)置為α倍來執(zhí)行調(diào)整，并且如圖16中所示，通過將圖13中所示的每個信號設(shè)置為β倍來執(zhí)行調(diào)整。每個信號在調(diào)整之后被表示如下：g＝αa2，h＝αb2，i＝αc2，g’＝βa2’，h’＝βb2’，i’＝βc2’。

圖17示出了在偏振光的調(diào)整之后由計算單元18執(zhí)行位置傳感器17的輸出信號i與位置傳感器16的輸出信號i’之間的差分處理的結(jié)果?；谄窆獾恼{(diào)整，背面反射光21的偏振光信號被表示如下：h＝h’，即，αb2＝βb2’；并且另外被表示如下：i-i’＝αc2-βc2’＝αa2-βa2’≠0。因此，在差分處理之后保留的信號i-i’表示示出前表面反射光20的p偏振光的信號a2與示出前表面反射光20的s偏振光的信號a2’之差a2-a2’。

因為信號a2和信號a2’為取決于彼此間的反射率差的相似關(guān)系，所以每個信號的差分信號和每個信號的重心的位置不改變。因此，獲得差分信號(a2-a2’)的重心的位置相當(dāng)于獲得基板5的表面位置。如上所述，本實施例的檢測方法也獲得與第一實施例中的效果類似的效果。

(第三實施例)

接下來，將給出根據(jù)本發(fā)明的第三實施例的檢測方法的描述。在第一實施例中，背面反射光21的p偏振光和s偏振光的條件被設(shè)置為相等。在本實施例中，基板5的表面位置可以通過設(shè)置如下的條件而精確地檢測：在該條件中，背面反射光21的p偏振光與前表面反射光20的s偏振光相等，并且背面反射光21的s偏振光與前表面反射光20的p偏振光相等。

圖18示出了檢測光19到基板5的入射角與p偏振光和s偏振光的反射率之間的關(guān)系。前表面反射光20的p偏振光由黑色輪廓的圓示出，s偏振光由黑色實心圓示出，背面反射光21的p偏振光由黑色三角形示出，并且背面反射光21的s偏振光由黑色實心三角形示出。從圖18可以看出，在80度的入射角附近，背面反射光21的p偏振光的反射率與前表面反射光20的s偏振光的反射率相等，并且背面反射光21的s偏振光的反射率與前表面反射光20的p偏振光的反射率相等。

圖19示出了當(dāng)入射角被設(shè)置為70度并且使得基板5的厚度薄時(如圖6中所示)由位置傳感器17輸出的s偏振光的光強度分布。由位置傳感器17輸出的信號c3是通過將示出前表面反射光20的s偏振光的信號a3與示出背面反射光21的s偏振光的信號b3組合而獲得的信號。圖20示出了當(dāng)入射角被設(shè)置為70度并且使得基板5的厚度薄時(如圖6所示)由位置傳感器16輸出的p偏振光的光強度分布。由位置傳感器16輸出的信號c3’是通過將示出前表面反射光20的p偏振光的信號a3’與示出背面反射光21的p偏振光的信號b3’組合而獲得的信號。注意，在由每個位置傳感器檢測的信號中，在這些圖中的波形被歸一化(normalized)為具有大輸入的信號的峰值。也就是，b3＝b3’成立。圖19的信號c3和圖20的信號c3’不是彼此間具有對稱關(guān)系的信號。

圖21示出了當(dāng)入射角被設(shè)置為86度并且使得基板5的厚度薄時(如圖6所示)由位置傳感器17輸出的s偏振光的光強度分布。由位置傳感器17輸出的信號c4是通過將示出前表面反射光20的s偏振光的信號a4與示出背面反射光21的s偏振光的信號b4組合而獲得的信號。圖22示出了當(dāng)入射角被設(shè)置為86度并且使得基板5的厚度薄時(如圖6所示)由位置傳感器16輸出的p偏振光的光強度分布。由位置傳感器16輸出的信號c4’是通過將示出前表面反射光20的p偏振光的信號a4’與示出背面反射光21的p偏振光的信號b4’組合而獲得的信號。注意，在由每個位置傳感器檢測的信號中，在這些圖中的波形被歸一化為具有大輸出的信號的峰值。也就是，a4＝a4’成立。圖21的信號c4與圖22的信號c4’不是彼此間具有對稱關(guān)系的信號。

圖23示出了當(dāng)入射角被設(shè)置為80度并且使得基板5的厚度薄時(如圖6所示)由位置傳感器17輸出的s偏振光的光強度分布。由位置傳感器17輸出的信號c5是通過將示出前表面反射光20的s偏振光的信號a5與示出背面反射光21的s偏振光的信號b5組合而獲得的信號。圖24示出了當(dāng)入射角被設(shè)置為80度并且使得基板5的厚度薄時(如圖6所示)由位置傳感器16輸出的p偏振光的光強度分布。由位置傳感器16輸出的信號c5’是通過將示出前表面反射光20的p偏振光的信號a5’與示出背面反射光21的p偏振光的信號b5’組合而獲得的信號。注意，在由每個位置傳感器檢測的信號中，在這些圖中的波形被歸一化為輸出較大的信號的峰值。也就是，a5＝b5’成立。在該圖中，a5＝b5’、b5＝a5’成立，使得信號c5和c5’是彼此間具有對稱關(guān)系的信號。

如上所述，示出出了以下特征：取決于入射角θ，使得由位置傳感器16和17檢測的信號形狀彼此間具有對稱關(guān)系的設(shè)置是可能的。注意，這些信號形狀還可以依賴于在基板5與基板保持單元6之間的邊界面中的反射率而改變。另外，反射率還可以依賴于偏振光狀態(tài)而變化。因而，有必要在知道了每種偏振光在基板5與基板保持單元6之間的邊界面上的反射率之后預(yù)先設(shè)置入射角θ。在上面的描述中，假設(shè)對于每種偏振光，在邊界面中的反射率被設(shè)置為100％。當(dāng)入射角θ通過共同改變每種偏振光在邊界面上的反射率或者通過改變每種偏振光的反射率來設(shè)置時，其中由位置傳感器16和17檢測的信號形狀彼此間具有對稱關(guān)系的入射角θ在θ＝60～80度的范圍內(nèi)。

圖25示出了在由計算單元18執(zhí)行由位置傳感器16和17檢測的信號(a5、b5、a5’和b5’)的差分處理之前的信號。s偏振光由實線示出，而p偏振光由虛線示出。另外，p1和p2是與已經(jīng)預(yù)先獲得的每種偏振光對應(yīng)的輸出峰值。通過使p偏振光的信號在+t方向或-t方向上相對于s偏振光的信號移位并且通過從s偏振光的信號減去p偏振光的信號來執(zhí)行差分信號的計算。

圖26示出了在使p偏振光的信號在+t方向上移位的同時基于s偏振光來執(zhí)行p偏振光的信號的差分處理的結(jié)果。在差分處理之后的信號的幅值p等于p1時，極大位置t1變?yōu)榍氨砻娣瓷涔?0入射到位置傳感器17中的位置as，并且如果此時的移位量由δt表示，則t1+δt變?yōu)楸趁娣瓷涔?1入射到位置傳感器17中的位置bs。在此，當(dāng)差分處理之后的信號的幅值p等于p1時，背面反射光21的s偏振光和前表面反射光20的p偏振光相互抵消。

圖27示出了在使p偏振光的信號在-t方向上移位的同時基于s偏振光的信號來執(zhí)行p偏振光的信號的差分處理的結(jié)果。當(dāng)差分處理之后的信號的幅值p等于p2時，極大位置t2變?yōu)楸趁娣瓷涔?1入射到位置傳感器16中的位置bp，并且如果此時的移位量由-δt表示，則t2-δt變?yōu)榍氨砻娣瓷涔?0入射到位置傳感器16中的位置ap。在此，當(dāng)差分處理之后的信號的幅值p等于p2時，背面反射光21的p偏振光和前表面反射光20的s偏振光相互抵消。

如上所述，根據(jù)本實施例的檢測方法，通過使由一個位置傳感器檢測的信號相對于由另一個位置傳感器檢測的信號向至少一個方向移位來執(zhí)行差分處理，并且基板5的表面位置因此可以基于差分信號的極大位置和移位量而被檢測。但是，當(dāng)差分信號的幅值為p＝p1時，極大位置t1處于在與移位方向(+t)相反的方向上的位置，并且當(dāng)差分信號的幅值為p＝p2時，極大位置t2處于在與移位方向(-t)相反的方向上的位置。另外，差分處理可以是從p偏振光信號(虛線)減去s偏振光信號(實線)的差分處理。

注意，即使發(fā)生部件(材料)、組裝、調(diào)整等的誤差并且沒有表現(xiàn)出如圖18所示的反射率特性，本實施例的差分處理也可以如同在第二實施例中那樣通過調(diào)整偏振光狀態(tài)來執(zhí)行。

(物品制造方法)

根據(jù)本發(fā)明的實施例的物品制造方法在制造諸如微設(shè)備(諸如半導(dǎo)體設(shè)備等)、具有微結(jié)構(gòu)的元件等之類的物品時是優(yōu)選的。物品制造方法可以包括使用前述曝光裝置在物體上形成潛像圖案的步驟(例如，曝光過程)；以及使其上已經(jīng)在前一步驟中形成潛像圖案的物體顯影的步驟。而且，物品制造方法可以包括其它已知的步驟(氧化、成膜、氣相沉積、摻雜、扁平化、蝕刻、抗剝離、劃片、鍵合、封裝等)。與常規(guī)的設(shè)備制造方法相比，本實施例的設(shè)備制造方法至少在設(shè)備的性能、質(zhì)量、生產(chǎn)率和生產(chǎn)成本中的一個中有利。

雖然已經(jīng)參照示例性的實施例描述了本發(fā)明，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于所公開的示例性實施例。以下的權(quán)利要求的范圍應(yīng)被賦予最廣泛的解釋，以包含所有此類修改以及等同的結(jié)構(gòu)和功能。

本申請要求于2015年12月25日提交的日本專利申請no.2015-253117的權(quán)益，通過引用以其全部并入本文。