技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
公開(kāi)了檢測(cè)設(shè)備、曝光設(shè)備和制造設(shè)備的方法。該檢測(cè)設(shè)備具有從相對(duì)于物體的表面的法線的傾斜方向投影光的投影系統(tǒng)22以及接收反射光20光接收系統(tǒng)23，并且該檢測(cè)設(shè)備基于光接收系統(tǒng)23所獲得的數(shù)據(jù)來(lái)檢測(cè)表面的位置，反射光20包括前/背反射光，光接收系統(tǒng)23包括將反射光分離成第一/第二偏振光的偏振光分離單元15，以及用于檢測(cè)第一/第二偏振光的檢測(cè)單元16、17，投影系統(tǒng)22或光接收系統(tǒng)23被配置成使得由檢測(cè)單元獲得的背反射光的第一/第二偏振光相等，并且包括用于基于示出出第一/第二偏振光的數(shù)據(jù)之間的差分?jǐn)?shù)據(jù)來(lái)計(jì)算位置的計(jì)算單元。

技術(shù)研發(fā)人員：前田浩平
受保護(hù)的技術(shù)使用者：佳能株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.20
技術(shù)公布日：2017.07.04