本實(shí)用新型涉及用激光束掃描目標(biāo)表面的光學(xué)掃描設(shè)備。

背景技術(shù)：

用于諸如激光打印機(jī)的電子照相記錄類型的圖像形成裝置中的光學(xué)掃描設(shè)備用光學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)由光源發(fā)射的激光束并且根據(jù)圖像信號(hào)掃描感光部件。一般地，光學(xué)掃描設(shè)備包括諸如用于驅(qū)動(dòng)光源的激光器驅(qū)動(dòng)器或用于驅(qū)動(dòng)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)器的電子部件，并且，電子部件被光學(xué)掃描設(shè)備的外殼和蓋子覆蓋。另外，為了降低成本，一般通過(guò)用模子使樹(shù)脂成形來(lái)制造外殼或蓋子。外殼或蓋子需要具有高精度的尺寸。因此，當(dāng)樹(shù)脂成型時(shí)，為了增加樹(shù)脂的可流動(dòng)性或可釋放性而降低模子的表面粗糙度，并因此提高部件的精度。由于模子的表面粗糙度低，因此，成型的產(chǎn)品的表面粗糙度也低，并且，成型的產(chǎn)品會(huì)根據(jù)材料而有光澤。

日本專利公開(kāi)No.2004-279611公開(kāi)了其中外殼的內(nèi)表面被粗糙化使得偏轉(zhuǎn)和掃描的激光束不被外殼的內(nèi)表面反射的配置。

同時(shí)，當(dāng)灰塵等進(jìn)入光學(xué)掃描設(shè)備的內(nèi)部時(shí)，灰塵會(huì)阻擋激光束，這導(dǎo)致在圖像中錯(cuò)失與阻擋的激光束對(duì)應(yīng)的部分的問(wèn)題。因此，當(dāng)運(yùn)輸要被嵌入到圖像形成裝置中的光學(xué)掃描設(shè)備時(shí)，為了防止灰塵進(jìn)入光學(xué)掃描設(shè)備，光學(xué)掃描設(shè)備在被緊密地覆蓋或者被單獨(dú)地封裝于袋子中的同時(shí)被運(yùn)輸。

但是，當(dāng)在將光學(xué)掃描設(shè)備嵌入到圖像形成裝置中時(shí)組裝操作者與光學(xué)掃描設(shè)備接觸的情況下，構(gòu)成光學(xué)掃描設(shè)備的外殼或蓋子可能起電。作為結(jié)果，可能在諸如激光器驅(qū)動(dòng)器、電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)器或BD傳感器的IC中出現(xiàn)靜電放電(ESD)，并且，IC可能受損。另外，存在當(dāng)連接用于電動(dòng)機(jī)或激光器的電纜時(shí)靜電從帶電的外殼或蓋子流動(dòng)且用于電動(dòng)機(jī)或激光器的驅(qū)動(dòng)器IC受損的模式。而且，在光學(xué)掃描設(shè)備被單獨(dú)封裝的情況下，當(dāng)從袋子去除光學(xué)掃描設(shè)備時(shí)，會(huì)在袋子與外殼或蓋子之間出現(xiàn)由于剝離導(dǎo)致的起電，并且，用于電動(dòng)機(jī)或激光器的驅(qū)動(dòng)器IC會(huì)以類似的方式受損。一般地，通過(guò)用離子發(fā)生器(ionizer)等實(shí)施去電(de-electrification)作業(yè)來(lái)采取對(duì)策，但是以穩(wěn)定的方式實(shí)施去電是花費(fèi)時(shí)間的。另外，雖然可降低表面電勢(shì)，但是不暴露于去電空氣中的外殼的內(nèi)部電勢(shì)不能降低，因此，當(dāng)連接上述的電纜時(shí)，這種對(duì)策對(duì)ESD的影響很小。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的一個(gè)目的是提供這樣的光學(xué)掃描設(shè)備：其包括容易被靜電放電損壞的電子部件，但其能夠承受各種ESD模式。

本實(shí)用新型的另一方面提供一種光學(xué)掃描設(shè)備，該光學(xué)掃描設(shè)備特征在于包括：激光光源；具有用于驅(qū)動(dòng)激光光源的電子部件的第一基板；被配置為偏轉(zhuǎn)和掃描由激光光源發(fā)射的光束的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器；具有用于驅(qū)動(dòng)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的電子部件的第二基板；由樹(shù)脂制成且被配置為容納光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的外殼；以及由樹(shù)脂制成且被配置為覆蓋外殼的開(kāi)口的蓋子，其中，外殼和蓋子中的至少一個(gè)的外側(cè)平面的至少部分區(qū)域被粗糙化。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，所述區(qū)域的算術(shù)平均粗糙度Ra滿足6μm≤Ra≤40μm。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，所述區(qū)域通過(guò)起皺處理、造窩處理和壓紋處理中的至少一種被粗糙化。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，在所述外側(cè)平面中，在與第一基板平行的表面和與第二基板平行的表面中的至少一個(gè)上設(shè)置被粗糙化的所述區(qū)域。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，標(biāo)簽被貼附于外殼和蓋子中的一個(gè)的外側(cè)平面上，以及標(biāo)簽的貼附表面不被粗糙化。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，上面貼附標(biāo)簽的貼附部分被使得貼附部分的水平比包圍貼附部分的部分的水平低的臺(tái)階和突起中的一個(gè)包圍。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，標(biāo)簽是關(guān)于光束進(jìn)行警告的標(biāo)簽。

本實(shí)用新型的又一方面提供一種光學(xué)掃描設(shè)備，該光學(xué)掃描設(shè)備特征在于包括：激光光源；被配置為偏轉(zhuǎn)和掃描由激光光源發(fā)射的光束的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器；由樹(shù)脂制成且被配置為容納光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的外殼；以及由樹(shù)脂制成且被配置為覆蓋外殼的開(kāi)口的蓋子，其中，被配置為顯示與光束有關(guān)的信息的顯示部分、設(shè)置在顯示部分周?chē)牡谝淮植诒砻鎱^(qū)域以及設(shè)置在顯示部分與第一粗糙表面區(qū)域之間的平滑區(qū)域被設(shè)置在蓋子的表面上，顯示部分、第一粗糙表面區(qū)域和平滑區(qū)域與蓋子一體化地形成，并且，表示與光束有關(guān)的信息的字母和符號(hào)以及第二粗糙表面區(qū)域被設(shè)置在顯示部分中。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，第一粗糙表面區(qū)域的算術(shù)平均粗糙度Ra滿足6μm≤Ra≤40μm。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，第一粗糙表面區(qū)域和第二粗糙表面區(qū)域通過(guò)起皺處理、造窩處理和壓紋處理中的至少一種被粗糙化。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，第一粗糙表面區(qū)域被設(shè)置在通過(guò)將光學(xué)偏轉(zhuǎn)器投影到蓋子上所看到的蓋子的表面區(qū)域的至少一部分上。

本實(shí)用新型的再一方面提供一種光學(xué)掃描設(shè)備，該光學(xué)掃描設(shè)備特征在于包括：激光光源；被配置為偏轉(zhuǎn)和掃描由激光光源發(fā)射的光束的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器；由樹(shù)脂制成且被配置為容納光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的外殼；以及由樹(shù)脂制成且被配置為覆蓋外殼的開(kāi)口的蓋子，其中，被配置為顯示與光束有關(guān)的信息的顯示部分、設(shè)置在顯示部分周?chē)牡谝淮植诒砻鎱^(qū)域、以及設(shè)置在顯示部分與第一粗糙表面區(qū)域之間的肋條和溝槽中的一個(gè)被設(shè)置在蓋子的表面上，顯示部分、第一粗糙表面區(qū)域、以及肋條和溝槽中的一個(gè)與蓋子一體化地形成，并且，表示與光束有關(guān)的信息的字母和符號(hào)以及第二粗糙表面區(qū)域被設(shè)置在顯示部分中。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，第一粗糙表面區(qū)域的算術(shù)平均粗糙度Ra滿足6μm≤Ra≤40μm。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，第一粗糙表面區(qū)域和第二粗糙表面區(qū)域通過(guò)起皺處理、造窩處理和壓紋處理中的至少一種被粗糙化。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，第一粗糙表面區(qū)域被設(shè)置在通過(guò)將光學(xué)偏轉(zhuǎn)器投影到蓋子上所看到的蓋子的表面區(qū)域的至少一部分上。

本實(shí)用新型的又一方面提供一種光學(xué)掃描設(shè)備，該光學(xué)掃描設(shè)備特征在于包括：激光光源；被配置為偏轉(zhuǎn)和掃描由激光光源發(fā)射的光束的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器；由樹(shù)脂制成且被配置為容納光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的外殼；以及由樹(shù)脂制成且被配置為覆蓋外殼的開(kāi)口的蓋子，其中，被配置為顯示與光束有關(guān)的信息的顯示部分和設(shè)置在顯示部分周?chē)牡谝淮植诒砻鎱^(qū)域被設(shè)置在蓋子的表面上，顯示部分和第一粗糙表面區(qū)域與蓋子一體化地形成，表示與光束有關(guān)的信息的字母和符號(hào)以及第二粗糙表面區(qū)域被設(shè)置在顯示部分中，并且，顯示部分和第一粗糙表面區(qū)域的高度不同。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，第一粗糙表面區(qū)域的算術(shù)平均粗糙度Ra滿足6μm≤Ra≤40μm。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，第一粗糙表面區(qū)域和第二粗糙表面區(qū)域通過(guò)起皺處理、造窩處理和壓紋處理中的至少一種被粗糙化。

優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的光學(xué)掃描設(shè)備的特征在于，其特征在于，第一粗糙表面區(qū)域被設(shè)置在通過(guò)將光學(xué)偏轉(zhuǎn)器投影到蓋子上所看到的蓋子的表面區(qū)域的至少一部分上。

本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例的技術(shù)效果在于，本實(shí)用新型提供這樣的光學(xué)掃描設(shè)備：其包括容易被靜電放電損壞的電子部件，但其能夠承受各種ESD模式。

參照附圖閱讀示例性實(shí)施例的以下描述，本實(shí)用新型的其它特征將變得清晰。

附圖說(shuō)明

圖1是圖像形成裝置的斷面圖。

圖2是根據(jù)第一示例性實(shí)施例的光學(xué)掃描設(shè)備(沒(méi)有蓋子)的透視圖。

圖3是根據(jù)第一示例性實(shí)施例的光學(xué)掃描設(shè)備(有蓋子)的透視圖。

圖4是示出表面粗糙度與電荷量之間的關(guān)系的示圖。

圖5是根據(jù)第二示例性實(shí)施例的光學(xué)掃描設(shè)備的透視圖。

圖6是示出光學(xué)外殼的底面(base surface)的透視圖。

圖7是根據(jù)第三示例性實(shí)施例的光學(xué)掃描設(shè)備的透視圖。

圖8是根據(jù)第三示例性實(shí)施例的蓋子上的標(biāo)記部分的放大圖。

圖9是根據(jù)第三示例性實(shí)施例的蓋子的變更例。

圖10示出根據(jù)第四示例性實(shí)施例的蓋子。

圖11示出根據(jù)第四示例性實(shí)施例的蓋子的變更例。

圖12示出根據(jù)第四示例性實(shí)施例的蓋子的另一變更例。

圖13示出根據(jù)第四示例性實(shí)施例的蓋子的另一變更例。

具體實(shí)施方式

第一示例性實(shí)施例

以下，將描述本實(shí)用新型的示例性實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)注意，除非另外在特定的項(xiàng)目中指示，否則，在以下的示例性實(shí)施例中描述的構(gòu)成要素的尺寸、材料和形狀以及這些構(gòu)成要素的相對(duì)布置不是要將本實(shí)用新型的范圍限于此。

圖1是圖像形成裝置D1的示意性斷面圖。圖像形成裝置D1包括光學(xué)掃描設(shè)備S1。圖像形成裝置D1通過(guò)光學(xué)掃描設(shè)備S1掃描諸如感光鼓的圖像承載部件，并且基于掃描的圖像在諸如記錄紙的記錄材料P上形成圖像。如圖1所示，圖像形成裝置D1基于圖像信息從光學(xué)掃描設(shè)備S1發(fā)射激光束，并且用激光束照射嵌入于處理盒102中的用作圖像承載部件的感光鼓103。當(dāng)感光鼓103被光束照射并且被曝光時(shí)，在感光鼓103上形成潛像。在感光鼓上形成的潛像通過(guò)調(diào)色劑被可視化為調(diào)色劑圖像。應(yīng)當(dāng)注意，處理盒102包含與帶電單元和顯影單元一體化的感光鼓103，從而用作作用于感光鼓103上的處理單元。同時(shí)，存放于饋送盒104中的記錄材料P在通過(guò)饋送輥105分離的同時(shí)被逐個(gè)饋送并且進(jìn)一步通過(guò)傳輸輥106被傳輸?shù)较掠蝹?cè)。在感光鼓103上形成的調(diào)色劑圖像通過(guò)轉(zhuǎn)印輥109被轉(zhuǎn)印到記錄材料P上。上面形成調(diào)色劑圖像的記錄材料P進(jìn)一步被傳輸?shù)较掠蝹?cè)，并且，調(diào)色劑圖像通過(guò)內(nèi)部包含加熱器的定影設(shè)備110被熱定影于記錄材料P上。然后，記錄材料P通過(guò)排出輥111被排出到外面。

下面，將參照?qǐng)D2和圖3描述光學(xué)掃描設(shè)備S1。圖2是示出光學(xué)掃描設(shè)備S1的配置的透視圖。出于描述的目的，圖2示出沒(méi)有附接蓋子119的狀態(tài)。

光學(xué)掃描設(shè)備S1包含半導(dǎo)體激光器(激光光源)112和具有用于驅(qū)動(dòng)激光光源的驅(qū)動(dòng)器IC(電子部件)120的第一基板121。光學(xué)掃描設(shè)備S1還包含偏轉(zhuǎn)和掃描由激光光源發(fā)射的光束的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器(可旋轉(zhuǎn)多面鏡)115、以及具有用于驅(qū)動(dòng)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的驅(qū)動(dòng)器IC(電子部件)123的第二基板116。外殼118由樹(shù)脂制成并且容納光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，并且，蓋子119由樹(shù)脂制成并且覆蓋外殼118的開(kāi)口。

圖2示出通過(guò)一體化地形成準(zhǔn)直透鏡和柱面透鏡獲得的變形的準(zhǔn)直透鏡113。圖2還示出孔徑光闌114、fθ透鏡(掃描透鏡)117和BD傳感器130。BD傳感器130被安裝于第一基板121上。

在上述的配置中，由光源112發(fā)射的激光束L通過(guò)變形的準(zhǔn)直透鏡113變成在主掃描斷面內(nèi)基本上會(huì)聚并且在副掃描斷面內(nèi)會(huì)聚的激光束。然后，激光束L穿過(guò)孔徑光闌114并且其射束寬度被調(diào)節(jié)，并且，激光束L基本上作為線像(縱向沿主掃描方向延伸的線像)在可旋轉(zhuǎn)多面鏡115的反射表面上成像。然后，隨著可旋轉(zhuǎn)多面鏡115旋轉(zhuǎn)，激光束L被偏轉(zhuǎn)和掃描。激光束L被可旋轉(zhuǎn)多面鏡115的反射面反射并且入射于BD傳感器130上。此時(shí)，BD傳感器130檢測(cè)信號(hào)，并且，該定時(shí)用作沿主掃描方向的寫(xiě)開(kāi)始位置的同步檢測(cè)定時(shí)。然后，激光束L入射于fθ透鏡117上。fθ透鏡117被設(shè)計(jì)為使得激光束L通過(guò)其被會(huì)聚以在感光鼓103上形成斑點(diǎn)并且斑點(diǎn)的掃描速度保持一致。為了獲得fθ透鏡117的上述的特性，fθ透鏡117被形成為非球面透鏡。穿過(guò)fθ透鏡117的激光束L在感光鼓103上成像。

通過(guò)旋轉(zhuǎn)可旋轉(zhuǎn)多面鏡115，激光束L被偏轉(zhuǎn)和掃描，并且，通過(guò)激光束L在感光鼓103上實(shí)施主掃描。同時(shí)，通過(guò)圍繞其圓柱的軸線旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng)感光鼓103，實(shí)施副掃描。以這種方式，在感光鼓103的表面上形成與圖像信息對(duì)應(yīng)的靜電潛像。

圖3是光學(xué)掃描設(shè)備S1的透視圖。圖3示出由樹(shù)脂形成的蓋子119被附接于圖2所示的光學(xué)掃描設(shè)備上的狀態(tài)。蓋子119和外殼118通過(guò)扣合(snap-fit)而相互接合。作為替代方案，蓋子119和外殼118可通過(guò)螺釘而相互固定。當(dāng)蓋子119被附接時(shí)，光學(xué)掃描設(shè)備S1基本上被密封。圖3示出具有設(shè)置在其底面中的螺釘孔的凹陷200。蓋子119具有覆蓋安裝于第一基板121上的光源112、驅(qū)動(dòng)器IC 120和其它電子部件以保護(hù)這些電子部件的形狀。

現(xiàn)在將描述本示例性實(shí)施例的一些特征。外殼118和蓋子119中的至少一個(gè)的外側(cè)平面的至少部分區(qū)域122被粗糙化。在本例子中，蓋子119的區(qū)域122通過(guò)起皺(wrinkling)處理被粗糙化。在蓋子119的外側(cè)平面中，本例子的粗糙化的區(qū)域122被設(shè)置在與第一基板121平行的表面和與第二基板116平行的表面上。特別地，優(yōu)選的是，粗糙化區(qū)域被設(shè)置在第二基板116上的驅(qū)動(dòng)器IC 123之上以及激光器驅(qū)動(dòng)器IC 120的附近。可通過(guò)諸如蝕刻、噴砂和發(fā)線拋光的這種工藝方法執(zhí)行起皺處理。通過(guò)研究，本實(shí)用新型的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，在樹(shù)脂部件的表面粗糙度與該部件的電荷量之間具有相關(guān)性，如圖4所示。在圖4中，橫軸代表算術(shù)平均粗糙度Ra[μm]，縱軸代表當(dāng)用導(dǎo)電性乙烯基(vinyl)摩擦蓋子119的表面時(shí)產(chǎn)生的電荷量[kV]?？梢钥闯?，當(dāng)粗糙度Ra大時(shí)，或者，換句話說(shuō)，當(dāng)表面更粗糙時(shí)，當(dāng)與另一部件摩擦?xí)r出現(xiàn)的電荷量較少。以這種方式，當(dāng)外殼118或蓋子119的外表面的一部分或全部粗糙化時(shí)，可以減少在傳輸或組裝光學(xué)掃描設(shè)備時(shí)出現(xiàn)的起電，并且，作為結(jié)果，可抑制由放電導(dǎo)致的電子部件的損傷。當(dāng)粗糙化區(qū)域122被設(shè)置在驅(qū)動(dòng)器IC 123之上以及在激光器驅(qū)動(dòng)器IC 120的附近時(shí)，粗糙化的區(qū)域122最有效地發(fā)揮作用。如圖3所示，特別優(yōu)選的是，粗糙化區(qū)域122被設(shè)置在蓋子119的平面部分的基本上整個(gè)部分上。應(yīng)當(dāng)注意，如圖6所示，數(shù)個(gè)肋條210被設(shè)置在本例子的外殼118的底面上。因此，單個(gè)的封裝袋或組裝操作者不太可能與底面的平面部分接觸，并且，該平面部分不太可能變得帶電。因此，沒(méi)有粗糙化區(qū)域被設(shè)置在底面的平面部分上。在本例子中，也沒(méi)有粗糙化區(qū)域被設(shè)置在外殼118的側(cè)面上。但是，粗糙化區(qū)域也可被設(shè)置在外殼118的底面的平面部分或者側(cè)面的平面部分上。

希望粗糙度Ra(JIS B0601)的大小不小于6μm。但是，如果執(zhí)行珩磨(honing)處理等，會(huì)出現(xiàn)蝕刻部分的剪切下降(shear drop)或與成形(formation)有關(guān)的問(wèn)題，因此，粗糙度Ra需要不大于40μm。因此，希望粗糙度Ra處于6μm≤Ra≤40μm的范圍中。

在本示例性實(shí)施例中，示出使用起皺處理的例子。但是，通過(guò)起皺處理、造窩(dimpling)處理和壓紋(embossing)處理中的至少一種使區(qū)域122粗糙化是足夠的。換句話說(shuō)，使用可減少與另一部件的接觸面積的表面形狀是足夠的。另外，根據(jù)需要，可在外側(cè)平面中，在與第一基板121平行的表面和與第二基板116平行的表面中的至少一個(gè)上設(shè)置粗糙化區(qū)域122。

第二示例性實(shí)施例

圖5示出根據(jù)第二示例性實(shí)施例的光學(xué)掃描設(shè)備。本例子的蓋子124包含存在于粗糙化區(qū)域122中的不被粗糙化(即，算術(shù)平均粗糙度Ra小于6μm)的平面部分126。標(biāo)準(zhǔn)要求諸如光學(xué)掃描設(shè)備的包含激光器的產(chǎn)品具有顯示危險(xiǎn)符號(hào)和分類的警告顯示。一般地，該顯示以具有明顯的顏色的標(biāo)簽125的形式貼附于光學(xué)掃描設(shè)備的外側(cè)，使得用戶或組裝操作者可容易地識(shí)別該顯示。但是，如果外殼或蓋子124的整個(gè)外表面被粗糙化，那么標(biāo)簽貼附表面與標(biāo)簽之間的接觸面積減小，這導(dǎo)致標(biāo)簽可能脫落的問(wèn)題。因此，在本例子中，用作標(biāo)簽貼附表面的平面部分126不被粗糙化。但是，由于標(biāo)簽貼附表面126的至少一部分不被粗糙化，因此，當(dāng)單個(gè)封裝袋或操作者與貼附表面126接觸時(shí)，貼附表面可能變得帶電。為了解決該問(wèn)題，沿貼附表面的外周設(shè)置肋條127，由此防止貼附表面126與單個(gè)封裝袋或組裝操作者直接接觸。作為替代方案，作為設(shè)置肋條的替代，可使得貼附表面126的水平比周?chē)砻娴乃降?。另外，希望用作?biāo)簽貼附表面的平面部分126被設(shè)置以避開(kāi)第二基板116的正上方的部分。以這種方式，優(yōu)選的是，突起被設(shè)置為包圍貼附部分126，或者優(yōu)選的是，設(shè)置使得貼附部分的水平比周?chē)糠值乃降偷呐_(tái)階。應(yīng)當(dāng)注意，標(biāo)簽不限于激光警告標(biāo)簽，標(biāo)簽也可以是用于生產(chǎn)管理的條形碼標(biāo)簽。

通過(guò)上述的配置，可以在確保激光警告標(biāo)簽或條形碼標(biāo)簽的標(biāo)簽貼附部分的同時(shí)抑制外殼或蓋子的起電。

第三示例性實(shí)施例

下面，將描述具有根據(jù)本示例性實(shí)施例的特征性配置的蓋子119的細(xì)節(jié)。圖7是具有附接于其上面的蓋子119的光學(xué)掃描設(shè)備S的透視圖。在本示例性實(shí)施例中，蓋子119由樹(shù)脂制成。

蓋子119的表面包含其中表面被粗糙化的第一粗糙表面區(qū)域122(由陰影表示的部分)。因?yàn)楸砻姹淮植诨?，所以表面上的?dāng)光學(xué)掃描設(shè)備S被傳輸或組裝時(shí)與另一部件或組裝操作者接觸的面積減少，因此，蓋子119的起電減少。

在本示例性實(shí)施例中，粗糙表面區(qū)域122覆蓋光學(xué)偏轉(zhuǎn)器115的上部。如上所述，諸如IC芯片的電子部件可由于ESD而受損，因此，覆蓋具有IC的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器115的上表面是有效的。在本示例性實(shí)施例中，與光學(xué)偏轉(zhuǎn)器115的上表面對(duì)應(yīng)的整個(gè)區(qū)域被粗糙化。但是，本示例性實(shí)施例不限于此，并且，由于只要減少光學(xué)偏轉(zhuǎn)器附近的起電就可獲得有利的效果，因此，可以只粗糙化光學(xué)偏轉(zhuǎn)器115的上表面的一部分。換句話說(shuō)，粗糙表面區(qū)域122被設(shè)置在通過(guò)將光學(xué)偏轉(zhuǎn)器115投影到蓋子119上所看到的蓋子119的表面區(qū)域的至少一部分上是足夠的。

關(guān)于粗糙表面區(qū)域122的粗糙度，希望算術(shù)平均粗糙度(JIS B0601)Ra不小于6μm。但是，如果執(zhí)行珩磨處理等，那么太粗糙的粗糙表面區(qū)域122導(dǎo)致流動(dòng)性的劣化或者模子釋放阻力的增加，并且，會(huì)出現(xiàn)與成形有關(guān)的問(wèn)題。因此，希望粗糙度Ra不大于40μm。因此，希望粗糙度Ra處于6μm≤Ra≤40μm的范圍中。

粗糙表面區(qū)域122通過(guò)起皺處理被粗糙化。可通過(guò)諸如蝕刻、噴砂和發(fā)線拋光的這樣的處理方法在用于形成蓋子119的模子上執(zhí)行起皺處理。另外，除了起皺處理以外，可通過(guò)造窩處理和壓紋處理中的至少一種使模子粗糙化。

另外，如上所述，由于光學(xué)掃描設(shè)備S包含激光器，因此，需要根據(jù)適用于激光器的安全標(biāo)準(zhǔn)(例如，IEC 60825-1)顯示預(yù)定的符號(hào)和分類(以下，稱為激光警告)作為與激光安全有關(guān)的信息。因此，與蓋子一體化地形成的標(biāo)記1201被設(shè)置在蓋子119中，以用作以出售光學(xué)掃描設(shè)備S的國(guó)家或地區(qū)的語(yǔ)言顯示激光警告的顯示部分。

另外，表面不被粗糙化的平滑區(qū)域1211被設(shè)置在標(biāo)記1201與粗糙表面區(qū)域122之間。希望平滑區(qū)域1211的表面粗糙度小于粗糙表面區(qū)域122的表面粗糙度(比其平滑)。為了降低平滑區(qū)域1211的表面粗糙度，可在模子上執(zhí)行鏡面拋光。

圖8是標(biāo)記1201及其附近的放大圖。標(biāo)記(顯示部分)1201包含字母和符號(hào)部分以及背景部分1231。不包含字母和符號(hào)部分的背景部分1231通過(guò)起皺處理被粗糙化(第二粗糙表面區(qū)域)。通過(guò)該配置，使得字母和符號(hào)部分與背景部分1231之間的對(duì)比(contrast)更清楚，這使得更容易看到顯示對(duì)比。為了簡(jiǎn)化描述，背景部分1231在圖8中加陰影。希望第二粗糙表面區(qū)域的粗糙度Ra處于1μm≤Ra≤6μm的范圍中。

雖然示出了使用起皺處理的例子，但是通過(guò)使背景部分1231粗糙化來(lái)使得字母和符號(hào)部分的表面粗糙度與背景部分的表面粗糙度相互不同是足夠的。因此，與粗糙表面區(qū)域122中同樣，可通過(guò)起皺處理、造窩處理和壓紋處理中的至少一種使背景部分1231粗糙化。

現(xiàn)在將描述平滑區(qū)域1211的有利效果。粗糙表面區(qū)域122的表面和標(biāo)記1201中的背景部分1231的表面均通過(guò)起皺處理等被粗糙化。因此，當(dāng)標(biāo)記1201和粗糙表面區(qū)域122被連續(xù)地設(shè)置時(shí)，很難識(shí)別標(biāo)記1201與粗糙表面區(qū)域122之間的邊界，并且，標(biāo)記1201的視覺(jué)識(shí)別性降低。相對(duì)照地，如圖8所示的那樣存在平滑區(qū)域1211使得標(biāo)記1201與粗糙表面區(qū)域122之間的邊界清楚。通過(guò)該配置，即使當(dāng)標(biāo)記1201被粗糙表面區(qū)域包圍時(shí)標(biāo)記1201也被突顯，并且，可容易地視覺(jué)上識(shí)別標(biāo)記1201。

另外，雖然粗糙表面區(qū)域122和標(biāo)記1201中的背景部分1231均被粗糙化，但是可在希望的表面粗糙度的范圍內(nèi)使得粗糙表面區(qū)域122的表面粗糙度與背景部分1231的表面粗糙度彼此不同。因此，視覺(jué)識(shí)別性增強(qiáng)。

雖然在本示例性實(shí)施例中沿標(biāo)記1201的整個(gè)周邊設(shè)置平滑區(qū)域，但是本示例性實(shí)施例不限于此。當(dāng)難以沿標(biāo)記1201的整個(gè)周邊設(shè)置平滑區(qū)域時(shí)，可以使用圖9所示的蓋子1301的配置。具體而言，標(biāo)記1201的周邊的一部分與粗糙表面區(qū)域132接觸，但是標(biāo)記1201的周邊的剩余部分與平滑區(qū)域131接觸。以這種方式，僅沿標(biāo)記1201的周邊的一部分設(shè)置平滑區(qū)域131的配置也提供使得標(biāo)記121更容易能視覺(jué)上識(shí)別的有利效果。

如上所述，蓋子的表面包含與蓋子一體化地形成的顯示與光束(激光束)有關(guān)的信息的顯示部分(標(biāo)記)、設(shè)置在顯示部分周?chē)牡谝淮植诒砻鎱^(qū)域、以及設(shè)置在顯示部分與第一粗糙表面區(qū)域之間的平滑區(qū)域。而且，指示與光束有關(guān)的信息的字母和符號(hào)部分以及第二粗糙表面區(qū)域被設(shè)置在顯示部分中。通過(guò)該配置，標(biāo)記的視覺(jué)識(shí)別性提高，并且，可降低電子部件由于靜電放電而受損的風(fēng)險(xiǎn)。

第四示例性實(shí)施例

現(xiàn)在將描述第四示例性實(shí)施例。圖10示出根據(jù)本示例性實(shí)施例的蓋子140的透視圖。蓋子140包含設(shè)置在為了減少起電而被粗糙化的第一粗糙表面區(qū)域142(陰影部分)與顯示激光警告的標(biāo)記1201之間的肋條141。肋條141被設(shè)置。換句話說(shuō)，通過(guò)設(shè)置在高度上與標(biāo)記1201和粗糙表面區(qū)域142不同的區(qū)域(肋條)，使得標(biāo)記1201容易地被視覺(jué)上識(shí)別。

雖然在圖10中圍繞標(biāo)記1201設(shè)置肋條，但是，在標(biāo)記與該粗糙表面區(qū)域之間有高度與其不同的某個(gè)部分是足夠的，因此，與圖11所示的蓋子150同樣，也可作為替代在標(biāo)記1201與粗糙表面區(qū)域152之間設(shè)置溝槽151。作為替代方案，與圖12所示的蓋子170同樣，可使得整個(gè)標(biāo)記1201與粗糙表面區(qū)域172的表面的高度彼此不同，也可獲得類似的效果。換句話說(shuō)，標(biāo)記(顯示部分)1201和第一粗糙表面區(qū)域172可具有彼此不同的高度。圖12所示的蓋子是標(biāo)記1201的水平比粗糙表面區(qū)域172的水平高的例子。

另外，與第三示例性實(shí)施例同樣，可以僅僅使得標(biāo)記1201的周邊的一部分的高度與周?chē)煌?/p>

另外，與圖13所示的蓋子180同樣，可圍繞標(biāo)記1201設(shè)置高度與粗糙表面區(qū)域182或標(biāo)記1201不同的區(qū)域181和不被粗糙化的平滑區(qū)域183兩者。

雖然已參照示例性實(shí)施例描述了本實(shí)用新型，但應(yīng)理解，本實(shí)用新型不限于公開(kāi)的示例性實(shí)施例。以下的權(quán)利要求的范圍應(yīng)被賦予最寬的解釋以包含所有這樣的變更方式以及等同的結(jié)構(gòu)和功能。