技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型涉及光學(xué)掃描設(shè)備。本實(shí)用新型要解決的一個(gè)問題是提供這樣的光學(xué)掃描設(shè)備：其包括容易被靜電放電損壞的電子部件，但其能夠承受各種ESD模式。本實(shí)用新型粗糙化激光掃描器的光學(xué)外殼和蓋子中的至少一個(gè)的外側(cè)平面的至少部分區(qū)域；由此，可以獲得以下有利效果：由與另一部件或人的摩擦導(dǎo)致的光學(xué)外殼的起電減少，并且防止電子部件的損壞。根據(jù)本公開的一個(gè)實(shí)施例的一個(gè)用途是用激光束掃描目標(biāo)表面。

技術(shù)研發(fā)人員：福原浩之;西口哲也;佐藤一身;尾原光裕
受保護(hù)的技術(shù)使用者：佳能株式會(huì)社
文檔號碼：201620588496
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.16
技術(shù)公布日：2016.12.28