1.一種彩膜基板，包括設(shè)置于襯底基板上的濾色單元和黑矩陣，所述彩膜基板分為顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域，所述顯示區(qū)域由所有所述濾色單元以及所述黑矩陣中位于所述濾色單元之間的部分界定而成，其特征在于，
所述黑矩陣位于所述非顯示區(qū)域的部分上具有包圍所述顯示區(qū)域的黑矩陣去除區(qū)；
所述彩膜基板還包括：保護層和位于所述非顯示區(qū)域內(nèi)的遮光層，所述黑矩陣和所述遮光層分別位于所述保護層的兩側(cè)，且所述黑矩陣去除區(qū)在所述襯底基板的投影位于所述遮光層在所述襯底基板的投影內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮光層至少跨過所述黑矩陣去除區(qū)的內(nèi)邊界線、與所述黑矩陣位于所述非顯示區(qū)域的部分具有重疊區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩陣去除區(qū)為開槽結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩陣去除區(qū)為：以所述襯底基板邊緣作為外邊界線的環(huán)形區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述保護層包覆所述黑矩陣。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述環(huán)形區(qū)域的寬度大于或等于200μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮光層的電阻率大于所述黑矩陣的電阻率。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，構(gòu)成所述保護層的材料為無機材料。
9.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-8任一項所述的彩膜基板。