本實用新型涉及光掩模用保護膜的結構設計技術領域，更具體地說，涉及一種避免光掩模長霧狀顆粒的新型保護膜。

背景技術：

霧狀顆粒(Haze)是造成半導體領域光刻工藝成品率下降的一個主要因素，特別是進入193nm光刻技術節(jié)點后，Haze越發(fā)嚴重。Haze的成因主要是由于光刻工藝中所用的深紫外光的光子會激發(fā)光掩模和保護膜中的化學成分形成各種揮發(fā)性小分子物質，這些小分子物質繼而會在光掩模和保護膜形成的空間內表面集聚形成顆粒，這種在光掩模圖形表面的Haze會造成光刻工藝成品率下降，并直接造成生產(chǎn)成本的增加。上述揮發(fā)出的小分子可能是從光掩模中產(chǎn)生，也可能從保護膜中產(chǎn)生，近年來，本領域技術人員一直在努力降低這些小分子物質的產(chǎn)生，采用的方法有以下幾種：第一，提升光掩模的清洗工藝使得清洗后的殘留物質最少化；第二，改進保護膜所用的材料或生產(chǎn)工藝；第三，減少保護膜泄漏揮發(fā)性小分子物質。通過上述方法的實施并逐步改進，光掩模的清洗工藝以及保護膜的生產(chǎn)工藝得到了較大的提升，但由于各種相對限制的原因，Haze還是會產(chǎn)生并嚴重影響光刻工藝成品率。針對這一問題，開發(fā)一種避免光掩模長霧狀顆粒的新型保護膜是本領域技術人員亟待解決的技術問題。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型所要解決的技術問題是：為克服上述背景技術中提到的技術問題，現(xiàn)提供一種避免光掩模長霧狀顆粒的新型保護膜。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：一種避免光掩模長霧狀顆粒的新型保護膜，該保護膜包括：框架、與框架端部連接的保護薄膜，所述框架上設置有氣體通道。

進一步，本實用新型的技術方案中所述氣體通道包括：進氣口和出氣口，進氣口和出氣口內均設置有顆粒過濾膜。

進一步優(yōu)選，本實用新型的上述技術方案中所述進氣口和出氣口分別設置在框架不同側或同側。

進一步優(yōu)選，本實用新型的上述技術方案中所述進氣口的數(shù)量為一個、兩個或多個，出氣口的數(shù)量為一個、兩個或多個；所述進氣口的口徑為統(tǒng)一大小或為不統(tǒng)一大小，出氣口的口徑為統(tǒng)一大小或為不統(tǒng)一大小。

進一步，本實用新型的技術方案中所述框架為金屬材料制成的架體；框架的上下端分別和保護薄膜、光掩模通過粘結劑粘接。

進一步，本實用新型的技術方案中所述氣體通道為出氣口。

有益效果：與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的保護膜的設計是在保護膜的金屬框架上制作氣體通道，讓氮氣、氦氣、氬氣等潔凈的氣體可以對光掩模和保護膜所圍成的空間進行吹掃，使得該空間中的被深紫外光子激發(fā)的小分子物質被這些氣體吹掃出該空間；或通過輔助設備(真空泵等)將小分子物質從氣體通道中抽吸出去，從而避免這些小分子物質在光掩模表面集聚形成Haze，可有效提高光掩模使用壽命，結構設計合理，方便實用，適宜進一步推廣應用。

附圖說明

下面將對實施例描述中所需要使用的附圖做簡單地介紹。

圖1是實施例一的結構示意圖；

圖2是實施例二的框架2結構示意圖；

圖3是實施例三的框架2結構示意圖；

圖4是實施例四的框架2結構示意圖；

圖5是實施例五的框架2結構示意圖；

圖6是實施例六的框架2結構示意圖；

圖中，1.光掩模，2.框架，21.進氣口，22.出氣口，3.保護薄膜，4.顆粒過濾膜，5.氣壓表，6.流量計，7.真空泵組件，8.溫度控制器，9.超細過濾膜。

具體實施方式

下面結合實施例對本實用新型進一步說明，下面實施例所表示的構成的全部內容不限于作為權利要求所記載的實用新型的解決方案所必須的。

實施例一

如附圖1所示的一種避免光掩模長霧狀顆粒的新型保護膜，該保護膜包括：連接在光掩模1上的框架2、與框架2端部連接的保護薄膜3，框架2上設置有包括進氣口21和出氣口22的氣體通道，框架2為金屬材料制成的四邊形架體，框架2的上下端分別和保護薄膜3、光掩模1通過粘結劑粘接；

所述進氣口21和出氣口22分別對稱設置在框架2兩側，進氣口21和出氣口22的數(shù)量均為一個，進氣口21口徑和出氣口22口徑相同，進氣口21上連接有進氣管道接口，出氣口22上連接有出氣管道接口，進氣口21和出氣口22均設置有顆粒過濾膜4，用以保證外界納米級灰塵等小顆粒不會進入保護薄膜3和光掩模1之間，及保護薄膜3和光掩模1之間的二氧化碳、二氧化硫等較小尺寸級分子的吹濾出；進氣口21進氣為不吸收深紫外光(波長大于190nm)的單組份惰性高純氮氣，進氣管道接口和出氣管道接口均設置有氣壓表5和流量計6。

實施例二

一種避免光掩模長霧狀顆粒的新型保護膜，該保護膜包括：連接在光掩模上的框架2、與框架2端部連接的保護薄膜3，框架2上設置有包括進氣口21和出氣口22的氣體通道，框架2為金屬材料制成的四邊形架體，框架2的上下端分別和保護薄膜3、光掩模1通過粘結劑粘接；如附圖2所示的框架2結構中，所述進氣口21和出氣口22設置在框架2同側，進氣口21的數(shù)量為一個，出氣口22的數(shù)量為兩個，進氣口21設置在出氣口22的中心位置，進氣口21口徑是出氣口22口徑之和，兩出氣口22等高且口徑相同，進氣口21高度設置比出氣口22高，進氣口21上連接有進氣管道接口，出氣口22上連接有出氣管道接口，進氣口21和出氣口22均設置有顆粒過濾膜4，進氣口21進氣為不吸收深紫外光(波長大于190nm)的雙組份惰性氬氣和高純氮氣按體積比1:1形成的混合物，進氣管道接口和出氣管道接口均設置有氣壓表5和流量計6。

實施例三

一種避免光掩模長霧狀顆粒的新型保護膜，該保護膜包括：連接在光掩模1上的框架2、與框架2端部連接的保護薄膜3，框架2上設置有包括進氣口21和出氣口22的氣體通道，框架2為金屬材料制成的長方形架體，框架2的上下端分別和保護薄膜3、光掩模1通過粘結劑粘接；如附圖3所示的框架2俯視圖，所述框架2包括依次連接的：前側、左側、后側和右側，兩個進氣口21分別設置在框架2前側中心、左側中心，兩個出氣口22分別設置在框架2后側中心和右側中心，兩進氣口21口徑相同，兩出氣口22口徑相同，單個出氣口22口徑是單個進氣口21口徑1.2倍；進氣口21上連接有進氣管道接口，出氣口22上連接有出氣管道接口，進氣口21和出氣口22均設置有顆粒過濾膜4，進氣口21進氣為不吸收深紫外光(波長大于190nm)的雙組份惰性氬氣和氦氣按體積比1:1形成的混合物，進氣管道接口和出氣管道接口均設置有氣壓表5和流量計6。

實施例四

一種避免光掩模長霧狀顆粒的新型保護膜，該保護膜包括：連接在光掩模1上的框架2、與框架2端部連接的保護薄膜3，框架2上設置有包括進氣口21和出氣口22的氣體通道，框架2為金屬材料制成的正四邊形架體，框架2的上下端分別和保護薄膜3、光掩模1通過粘結劑粘接；如附圖4所示，框架2包括依次連接的：前側、左側、后側和右側，進氣口21數(shù)量為一個，出氣口22數(shù)量為三個，進氣口21設置在框架2前側中心中心，三個出氣口22分別設置在框架2左側中心、后側中心和右側中心，進氣口21口徑是出氣口口徑1.5倍，三個出氣口22口徑相同；進氣口21上連接有進氣管道接口，出氣口22上連接有出氣管道接口，進氣口21和出氣口22均設置有顆粒過濾膜4，進氣口21進氣為不吸收深紫外光(波長大于190nm)的雙組份惰性氮氣和氦氣按體積比1:1.2形成的混合物，進氣管道接口和出氣管道接口均設置有氣壓表5和流量計6。

實施例五

參照附圖5所示的框架2的俯視圖，一種避免光掩模長霧狀顆粒的新型保護膜，該保護膜包括：連接在光掩模1上的框架2、與框架2端部連接的保護薄膜3，框架2上設置有氣體通道，所述氣體通道為出氣口22和設置在出氣管道接口上的真空泵組件7；框架2為金屬材料制成的正四邊形架體，框架2的上下端分別和保護薄膜3、光掩模1通過粘結劑粘接。

實施例六

一種避免光掩模長霧狀顆粒的新型保護膜，該保護膜包括：連接在光掩模1上的框架2、與框架2端部連接的保護薄膜3，框架2上設置有包括進氣口21和出氣口22的氣體通道，框架2為金屬材料制成的正四邊形架體，框架2的上下端分別和保護薄膜3、光掩模1通過粘結劑粘接；如附圖6所示，所述框架2包括依次連接的：前側、左側、后側和右側，進氣口21數(shù)量為一個，出氣口22數(shù)量為三個，進氣口21設置在框架2前側中心中心，三個出氣口22分別設置在框架2左側中心、后側中心和右側中心，進氣口21口徑是出氣口22口徑1.5倍，三個出氣口22口徑相同；進氣口21上連接有進氣管道接口，出氣口22上連接有出氣管道接口，進氣口21和出氣口22均設置有顆粒過濾膜4，進氣口21進氣為不吸收深紫外光(波長大于190nm)的雙組份惰性氮氣和氦氣按體積比1:1.2形成的混合物，進氣管道接口上設置有氣壓表5、氣體流量計6、溫度控制器8和氣體潔凈度控制器超細過濾膜9，出氣管道接口上設置有真空度控制器真空泵組件7。

上述六個實施例的技術方案抓住了Haze形成的關鍵條件，也就是Haze的形成需要有足夠濃度的小分子集聚在光掩模表面，通過降低空間的小分子物質濃度，從而避免Haze的產(chǎn)生；利用潔凈氣體的連續(xù)吹掃可以不斷將光刻過程中產(chǎn)生的小分子物質吹掃出該空間或通過真空組件將小分子物質抽出該空間，使得在該空間的小分子濃度一直低于Haze生成的濃度，從而避免Haze的產(chǎn)生。這種方法一方面可以避免Haze的產(chǎn)生，減少由于光刻工藝成品率下降造成的生產(chǎn)成本增加，同時也可以降低光掩模清洗工藝要求和保護膜生產(chǎn)工藝要求從而降低光掩模的制造成本，方便實用，適宜進一步推廣應用。

對所公開的實施例的上述說明，使本領域專業(yè)技術人員能夠實現(xiàn)或使用本實用新型。對這些實施例的多種修改對本領域的專業(yè)技術人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實用新型的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本實用新型將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。