1.一種掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，包括：版庫，緩存臺，機械手運動模組以及掩模臺，其中，所述緩存臺位于所述版庫與掩模臺之間，所述機械手運動模組橫跨于所述緩存臺與掩模臺之間，所述機械手運動模組的下表面設(shè)有一滑軌，一機械手版叉對稱地懸掛于所述滑軌上，并沿所述滑軌在所述緩存臺與掩模臺之間滑動。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述機械手版叉包括機械手版叉第一部和與所述機械手版叉第一部連接的機械手版叉第二部，所述機械手版叉第一部懸掛于所述滑軌上，所述機械手版叉第二部沿與所述滑軌延伸的方向垂直的第二方向運動。
3.如權(quán)利要求2所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述機械手版叉第二部的下表面的周邊均勻設(shè)置有多個用于固定掩膜版的吊鉤組件。
4.如權(quán)利要求3所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述多個吊鉤組件均為單鉤組件。
5.如權(quán)利要求3所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述多個吊鉤組件均為雙鉤組件。
6.如權(quán)利要求3所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述機械手版叉第二部的下表面設(shè)有所述多個吊鉤組件獲取掩模版時進行預(yù)對準(zhǔn)操作的粗對準(zhǔn)裝置。
7.如權(quán)利要求3所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述機械手版叉第二部的下表面呈多邊形。
8.如權(quán)利要求3所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述機械手版叉第二部的下表面呈圓形。
9.如權(quán)利要求2所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，多個吸附結(jié)構(gòu)均勻分布于所述機械手版叉第二部的下表面上。
10.如權(quán)利要求9所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述多個吸附結(jié)構(gòu)呈圓形均勻分布。
11.如權(quán)利要求9所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述多個吸附結(jié) 構(gòu)呈多邊形均勻分布。
12.如權(quán)利要求9所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述多個吸附結(jié)構(gòu)均為真空吸附結(jié)構(gòu)。
13.如權(quán)利要求9所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述多個吸附結(jié)構(gòu)均為柱體吸附結(jié)構(gòu)。
14.如權(quán)利要求9所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述多個吸附結(jié)構(gòu)均為錐體吸附結(jié)構(gòu)。
15.如權(quán)利要求2所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述緩存臺具有驅(qū)使所述緩存臺沿所述第二方向運動的第二驅(qū)動單元。
16.如權(quán)利要求2所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述掩模臺具有驅(qū)使所述掩模臺沿所述第二方向運動的第三驅(qū)動單元以及驅(qū)使所述掩模臺向掩模版曝光位運動的第四驅(qū)動單元。
17.如權(quán)利要求1所述的掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述版庫設(shè)有用于載運掩模版至所述緩存臺的版庫版叉。
18.如權(quán)利要求17所述掩模版?zhèn)鬏斚到y(tǒng)，其特征在于，所述版庫版叉具有驅(qū)使所述版庫版叉沿所述滑軌延伸的方向運動的第一驅(qū)動單元。