本發(fā)明涉及光學加工技術領域，尤其涉及一種曝光裝置。

背景技術：

使用曝光機進行曝光時，一般需要使用擋板，擋板中設有曝光孔，光源將對產(chǎn)品中與該曝光孔正對應的區(qū)域進行曝光，從而在產(chǎn)品上形成所需的圖形。然而，光在直線傳播過程中遇到擋板會發(fā)生衍射現(xiàn)象，即在曝光孔的側(cè)邊處發(fā)生衍射，產(chǎn)品中與衍射區(qū)對應的區(qū)域也會存在一定程度的曝光，這就導致產(chǎn)品的實際制作形狀與所需的形狀差異較大，大大降低曝光機的曝光精確度，同時影響產(chǎn)品的質(zhì)量。

故，有必要提供一種曝光裝置，以解決現(xiàn)有技術所存在的問題。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種曝光裝置，以解決因擋板中曝光孔側(cè)邊產(chǎn)生衍射光而使得產(chǎn)品中不需要曝光的地方被曝光，進而降低曝光精確度的技術問題。

本發(fā)明實施例提供一種曝光裝置，用于對待曝光基板進行曝光，其包括：擋板組件和透鏡組件，所述擋板組件設有曝光孔；所述透鏡組件設置在所述擋板組件與所述待曝光基板之間，所述透鏡組件用于將所述曝光孔的側(cè)邊產(chǎn)生的衍射光線會聚在所述待曝光基板的待曝光區(qū)域。

在本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中，所述透鏡組件置于所述曝光孔的側(cè)邊對應的衍射區(qū)；所述透鏡組件包括沿所述曝光孔的軸向方向間隔設置的第一透鏡和第二透鏡，所述第一透鏡和第二透鏡均為凸透鏡沿其主光軸切割形成的半透鏡結(jié)構；所述擋板組件設置在所述第一透鏡的焦距上，所述待曝光基板設置在所述第二透鏡的焦距上。

在本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中，所述第一透鏡和第二透鏡的切割面均與所述曝光孔的側(cè)邊相齊平。

在本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中，所述第一透鏡的焦距和所述第二透鏡的焦距相等。

在本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中，所述擋板組件為一個平板，所述擋板組件中設有所述曝光孔。

在本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中，所述擋板組件包括至少兩個可移動的擋板，至少兩個所述擋板圍成所述曝光孔。

在本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中，所述第一透鏡和第二透鏡的直徑均與所述曝光孔的側(cè)邊的長度相同。

在本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中，所述第一透鏡和第二透鏡的直徑均與所述擋板的側(cè)邊的長度相同。

在本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中，所述曝光裝置還包括固定支架，所述固定支架用于固定所述擋板組件與所述透鏡組件，以使得所述擋板組件與所述透鏡組件形成整體結(jié)構。

在本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中，所述第一透鏡和第二透鏡的材質(zhì)包括聚甲基丙烯酸甲酯。

本發(fā)明提供了一種曝光裝置，其通過在所述擋板組件與待曝光基板之間設置所述透鏡組件，使得所述透鏡組件可以將所述曝光孔的側(cè)邊產(chǎn)生的衍射光線會聚在所述待曝光基板的待曝光區(qū)域，從而提高曝光裝置的曝光精確度，提升待曝光基板的曝光品質(zhì)。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中擋板組件的俯視結(jié)構示意圖；

圖2為圖1中所示的擋板組件沿箭頭a-a方向的截面示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中擋板組件的另一結(jié)構示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的曝光裝置的截面結(jié)構示意圖；

圖5為圖4所示的曝光裝置中擋板組件與透鏡組件的位置關系俯視示意圖。

具體實施方式

以下各實施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發(fā)明可用以實施的特定實施例。本發(fā)明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。

在圖中，結(jié)構相似的單元是以相同標號表示。

請參照圖1至圖5所示。本發(fā)明實施例提供一種曝光裝置，其包括擋板組件11和透鏡組件12。

請參見圖1所示，圖1為本發(fā)明實施例提供的曝光裝置中擋板組件的俯視結(jié)構示意圖。擋板組件11包括四個擋板，分別為第一擋板1111、第二擋板1112、第二擋板1113和第二擋板1114。

四個擋板可以相互移動以圍成曝光孔112。具體地，第二擋板1112和第四擋板1114處于同一平面上，兩者可以向相互靠近或遠離的方向移動，即在圖1所示的俯視圖中左右方向移動，以控制曝光孔112在左右方向上的寬度。

第一擋板1111和第三擋板1113處于同一平面上，且第一擋板1111和第三擋板1113處于第二擋板1112和第四擋板1114的上面。第一擋板1111和第三擋板1113可以向相互靠近或遠離的方向移動，即在圖1所示的俯視圖中上下方向移動，以控制曝光孔112在上下方向上的寬度。

為了可以更清楚地說明第一擋板1111和第三擋板1113與第二擋板1112和第四擋板1114之間的層次關系，本實施例給出了圖1中沿箭頭a-a方向的界面示意圖，請參見圖2所示。

從圖2中可以清楚地看到，第三擋板1113搭載在第二擋板1112和第四擋板1114上?？梢岳斫獾氖?，第一擋板1111同樣搭載在第二擋板1112和第四擋板1114上。

當然，在其他實施例中，第一擋板1111和第三擋板1113也可以置于第二擋板1112和第四擋板1114的上方，且均不與第二擋板1112和第四擋板1114接觸。

通過調(diào)節(jié)第一擋板1111和第三擋板1113之間的距離以及第二擋板1112和第四擋板1114之間的距離就可以獲得不同尺寸的曝光孔112，使得該擋板組件11可以在多個曝光面積需求下使用，提高擋板組件11的靈活性。

可以理解的是，擋板組件11所包括擋板的個數(shù)不限于四個，可以兩個、三個或更多個均可。當擋板個數(shù)為兩個時，如僅有圖1中第二擋板1112和第四擋板1114時，兩個擋板圍成一條狹縫狀的曝光孔112。當擋板的個數(shù)為三個時，三個擋板可以圍成三角形狀的曝光孔112。在此，不對擋板的個數(shù)以及曝光孔112的形狀做限定。

請參見圖3所示，在一實施例中，擋板組件11也可以為一平板，在擋板組件11中設有曝光孔112。也就是說，將擋板組件11中間挖空以形成曝光孔112，曝光孔112的尺寸和形狀根據(jù)實際需求來設定。

請參見圖4所示，圖4為本發(fā)明實施例提供的曝光裝置的截面結(jié)構示意圖。在圖4所示的曝光裝置中，擋板組件11采用圖1所示的結(jié)構，即由四個擋板組成，為了更加清晰地展現(xiàn)曝光裝置中各個部件的位置關系，圖4的截面結(jié)構示意圖中未示出第一擋板1111或第三擋板1113及其相對應的部件。

如圖4所示，透鏡組件12設置在擋板組件11和待曝光基板13之間，用于將曝光孔112的側(cè)邊產(chǎn)生的衍射光線會聚在待曝光基板13的待曝光區(qū)域。其中，待曝光基板13中與曝光孔112正對應的區(qū)域為待曝光區(qū)域，與擋板組件11中除曝光孔112以外部分正對應的區(qū)域為非曝光區(qū)域。

在這里，待曝光基板13可以為一基板載物臺，該基板載物臺用于盛放待曝光產(chǎn)品，或者也可以直接為待曝光產(chǎn)品，在此不做具體限制。

在一實施例中，透鏡組件12包括沿曝光孔112的軸向方向間隔設置的第一透鏡121和第二透鏡122。其中，曝光孔112的軸向方向是指擋板組件11至待曝光基板13的方向。

第一透鏡121和第二透鏡122置于曝光孔112的邊側(cè)對應的衍射區(qū)，即該透鏡組件12置于曝光孔112的側(cè)邊對應的衍射區(qū)。以圖4中第四擋板1114為例，曝光孔112的側(cè)邊，即第四擋板1114的側(cè)邊發(fā)生衍射時，衍射光線會入射到第四擋板1114的正下方，該衍射光線所在的區(qū)域即為衍射區(qū)。

由于曝光孔112有四個側(cè)邊，而每個側(cè)邊都會發(fā)生衍射，即將對應有四個衍射區(qū)。為了將每個側(cè)邊產(chǎn)生的衍射光線均會聚到待曝光區(qū)域，在本實施例中，透鏡組件12的個數(shù)為四個，每個透鏡組件12均與曝光孔12的一個側(cè)邊相對應，即四個透鏡組件12分別設置在四個衍射區(qū)的相應位置。

圖4中僅僅示出了與第二擋板1112和第四擋板1114對應的兩個透鏡組件12。根據(jù)圖4所示位置關系，可以很容易地得到另外兩個透鏡組件12分別與第一擋板1111和第三擋板1113的位置關系。

在本實施例中，第一透鏡121和第二透鏡122均為凸透鏡沿其主光軸切割形成的半透鏡結(jié)構。

為了更加清晰地展現(xiàn)透鏡組件12與擋板組件11之間的位置關系，本發(fā)明實施例給出了擋板組件11與透鏡組件12的位置關系俯視示意圖，如圖5所示。

在圖5中，每個擋板的正下方均對應設置一個透鏡組件12，由于該俯視圖是從擋板組件11向待曝光基板13方向看去，因此透鏡組件12為不可見的。

從圖4和圖5中可以看出，第一透鏡121和第二透鏡122的切割面均與曝光孔112的側(cè)邊相齊平，這里，切割面為經(jīng)過主光軸的面。這樣第一透鏡121和第二透鏡122可以不影響曝光孔112正對應區(qū)域的光線分布，即不影響待曝光基板13中待曝光區(qū)域的曝光質(zhì)量。

由于擋板組件11中四個擋板為可移動的，即曝光孔112的大小為可調(diào)的，為了使得不同尺寸的曝光孔112均可以使用四個透鏡組件12來將衍射光會聚在待曝光區(qū)域，第一透鏡121和第二透鏡122的直徑均與相應擋板的側(cè)邊的長度相同。

例如，四個擋板的尺寸為200厘米×100厘米，且四個擋板均采用100厘米的側(cè)邊圍成尺寸為20厘米×20厘米的曝光孔112，則第一透鏡121和第二透鏡122的直徑為100厘米。這樣，在曝光孔112的尺寸為40厘米×40厘米的情況下，第一透鏡121和第二透鏡122依然可以使得曝光孔112的側(cè)邊產(chǎn)生的衍射光會聚在待曝光區(qū)域。

為了可以保持透鏡組件12與其相對應擋板之間的位置關系，便于實際操作，節(jié)省操作時間，在一實施例中，曝光裝置還包括固定支架14，如圖4和圖5所示。固定支架14包括支架部141、第一半環(huán)固定部142a和第二半環(huán)固定部142b。

第一半環(huán)固定部142a和第二半環(huán)固定部142b均為半環(huán)形狀，第一半環(huán)固定部142a用于包住第一透鏡121的邊緣，以使得第一透鏡121卡在第一半環(huán)固定部142a內(nèi)，第二半環(huán)固定部142b用于包住第二透鏡122的邊緣，以使得第二透鏡122卡在第二半環(huán)固定部142b內(nèi)。

第一半環(huán)固定部142a和第二半環(huán)固定部142b均固定在支架部141的一端。支架部141的另一端為折彎狀，折彎的部分固定在與透鏡組件12相對應的擋板上。這樣擋板與其相對應透鏡組件12就形成整體結(jié)構，在實際操作過程中，只需要調(diào)整各個擋板之間的位置即可，無需在調(diào)整透鏡組件12的位置。

另外，在該實施例中，第一半環(huán)固定部142a和第二半環(huán)固定部142b為尺寸相同的結(jié)構，在圖5所示的俯視圖中，僅僅示意出了第一半環(huán)固定部142a，可以理解的是，第二半環(huán)固定部142b在俯視圖中的位置與第一半環(huán)固定部142a的位置相同。

可以理解的是，固定支架14也可以采用其他形狀，圖4和圖5中所示的固定支架14僅僅是多種固定支架中的一種。另外，透鏡組件12也可以單獨控制，即不與相應擋板固定成整體結(jié)構，這樣在實際操作過程中，需要分別調(diào)整擋板組件11和透鏡組件12的位置。

在其他實施例中，若擋板組件11采用圖3所示的平板型的結(jié)構，此時，第一透鏡121和第二透鏡122的直徑可以與曝光孔112的側(cè)邊的長度相同。當然，此種情況下，第一透鏡121和第二透鏡122的直徑也可以大于曝光孔112的側(cè)邊的長度。

可以理解的是，當擋板組件11采用圖3所示的平板型的結(jié)構時，透鏡組件12也可以通過圖4和圖5中所示的固定支架14與擋板組件11固定成整體結(jié)構。

為了可以將曝光孔112的側(cè)邊產(chǎn)生的衍射光線重新會聚在待曝光區(qū)域，在本實施例中，擋板組件11置于第一透鏡121的焦距上，待曝光基板13設置在第二透鏡122的焦距上。這樣，曝光孔112的側(cè)邊產(chǎn)生的衍射光線通過第一透鏡121變成平行衍射光線，該平行衍射光線再通過第二透鏡122會聚在待曝光區(qū)域。

根據(jù)透鏡對光線的作用原理可知，曝光孔112的側(cè)邊產(chǎn)生的衍射光線經(jīng)過透鏡組件12后將被重新會聚在與曝光孔112的側(cè)邊正對應的區(qū)域，這樣可以避免非待曝光區(qū)域被衍射光線曝光，影響曝光裝置的精確度。同時，衍射光線被會聚在待曝光區(qū)域的邊緣處，不會影響待曝光區(qū)域內(nèi)各處光線強度，使得待曝光區(qū)域內(nèi)各處曝光更加均勻。

另外，根據(jù)透鏡對光線的作用原理可知，當擋板組件11和待曝光基板13均置于透鏡的焦距上時，第一透鏡121與第二透鏡122之間的距離不限。第一透鏡121和第二透鏡122之間的距離可以根據(jù)實際需求設置。

在本實施例中，第一透鏡121的焦距和第二透鏡122的焦距相等。當然，在其他實施例中，第一透鏡121的焦距和第二透鏡122的焦距也可以不相等，在此不做具體限制。另外，第一透鏡121和第二透鏡122的材質(zhì)包括聚甲基丙烯酸甲酯。

另外，在其他實施例中，透鏡組件12的個數(shù)不局限于4個，可以更少，如1個或2個或3個。當曝光孔112的側(cè)邊數(shù)量超過四個時，透鏡組件12的數(shù)量也可以超過4個。

同時，圖4和圖5中所示的第一透鏡121和第二透鏡122的組合僅僅是透鏡組件12實現(xiàn)其功能的多種結(jié)構中的一種，在其他實施例中，透鏡組件12可以采用其他結(jié)構，只要透鏡組件12可以實現(xiàn)將衍射光線會聚在待曝光區(qū)域即可，在此不做具體限制。

另外，在其他實施例中，曝光裝置還可以進一步包括曝光用的光源和/或掩膜板等部件。

本發(fā)明實施例提供一種曝光裝置，其通過在擋板組件與待曝光基板之間設置透鏡組件，使得透鏡組件可以將曝光孔的側(cè)邊產(chǎn)生的衍射光線會聚在待曝光基板的待曝光區(qū)域，從而提高曝光裝置的曝光精確度，提升待曝光基板的曝光品質(zhì)。

綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例揭露如上，但上述優(yōu)選實施例并非用以限制本發(fā)明，本領域的普通技術人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍以權利要求界定的范圍為準。