1.一種光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)方法，其特征在于，包括以下步驟：
2.如權(quán)利要求1所述的一種光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)方法，其特征在于，
3.如權(quán)利要求1所述的一種光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)方法，其特征在，
4.如權(quán)利要求3所述的一種光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)方法，其特征在，
5.如權(quán)利要求3所述的一種光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)方法，其特征在，
6.如權(quán)利要求1所述的一種光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)方法，其特征在，
7.如權(quán)利要求1所述的一種光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)方法，其特征在，
8.如權(quán)利要求7所述的一種光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)方法，其特征在，
9.如權(quán)利要求7所述的一種光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)方法，其特征在，
10.光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，采用如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的光刻機(jī)真空設(shè)備故障監(jiān)測(cè)方法，其特征在，所述故障監(jiān)測(cè)系統(tǒng)包括第一監(jiān)測(cè)模塊、第二監(jiān)測(cè)模塊、第三監(jiān)測(cè)模塊和判斷處理模塊，所述第一監(jiān)測(cè)模塊用于獲取所述真空泵的狀態(tài)信息，所述第二監(jiān)測(cè)模塊用于獲取所述電磁閥的狀態(tài)信息，所述第三監(jiān)測(cè)模塊用于獲取所述真空傳感器的狀態(tài)信息，所述判斷處理模塊根據(jù)所述真空泵、所述電磁閥和所述真空傳感器中至少兩者的狀態(tài)信息，判斷真空設(shè)備是否存在異常。