用于euv投射光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)的制作方法
【專利說明】
[0001] 相關(guān)申請的交叉引用
[0002] 通過引用將德國專利申請DE 10 2012 214 063. 8的內(nèi)容并入本文。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003] 本發(fā)明設(shè)及一種用于EUV投射光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)。另外，本發(fā)明設(shè)及 該種照明系統(tǒng)的操作方法、具有該種照明系統(tǒng)的光學(xué)系統(tǒng)、具有該種光學(xué)系統(tǒng)的投射曝光 設(shè)備、使用該種投射曝光設(shè)備制造微結(jié)構(gòu)和/或納米結(jié)構(gòu)化組件的方法W及由該方法制造 的微結(jié)構(gòu)和/或納米結(jié)構(gòu)化組件。
【背景技術(shù)】
[0004] 從WO 2009/121 438A1已知一種具有照明系統(tǒng)的投射曝光設(shè)備。從DE103 58 225 B3已知EUV光源。已知EUV光源的其它引用發(fā)現(xiàn)于W02009/121 438 A1中。另外，從US 2003/0043359 A1 和 US 5, 896, 438 已知 EUV 照明光學(xué)單元。

【發(fā)明內(nèi)容】

[000引本發(fā)明的目的在于發(fā)展一種照明系統(tǒng)，其W基于電子束的抓V光源為基礎(chǔ)進(jìn)行操 作，使得提供了針對分辨率優(yōu)化的照明而改進(jìn)的輸出光束。
[0006] 根據(jù)本發(fā)明，該目的通過用于EUV投射光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)而實(shí)現(xiàn)，所 述照明系統(tǒng)
[0007] -包含EUV光源，其產(chǎn)生具有預(yù)定偏振態(tài)的EUV照明光的輸出光束，
[000引-包含照明光學(xué)單元，其沿光軸引導(dǎo)輸出光束，因此，掩模母版平面中的照明場由 輸出光束照明，
[0009] -其中，所述EUV光源包含W下各項(xiàng)：
[0010] --電子束供應(yīng)裝置，
[0011] --EUV產(chǎn)生裝置，由電子束供應(yīng)裝置供應(yīng)電子束，
[0012] --偏振設(shè)定裝置，其對電子束施加可調(diào)偏轉(zhuǎn)效應(yīng)，用于設(shè)定輸出光束的偏振。
[0013] 根據(jù)本發(fā)明，確定的是，對電子束施加可調(diào)偏轉(zhuǎn)效應(yīng)W設(shè)定偏振的偏振設(shè)定裝置 導(dǎo)致對輸出光束進(jìn)行預(yù)定偏振指定（prescription)的選項(xiàng)。那么，輸出光束的偏振在通過 照明系統(tǒng)的物照明期間可適配于相應(yīng)偏振要求。
[0014] 與常規(guī)抓V福射源有關(guān)的問題，例如與LPP (激光致等離子體）光源相關(guān)或GDP (氣 體放電致等離子體）光源有關(guān)的問題得到避免。
[0015] 輸出光束的偏振態(tài)可為線偏振的、楠圓偏振的、圓偏振的或該些偏振形式的混合。 偏振態(tài)可W，由偏振設(shè)定裝置預(yù)定的方式在各偏振形式之間交替改變。
[0016] 舉例而言，偏振設(shè)定裝置對波動(dòng)器偏轉(zhuǎn)磁體的影響效應(yīng)可通過移動(dòng)偏轉(zhuǎn)磁體來改 變磁體布置而產(chǎn)生，在所述波動(dòng)器偏轉(zhuǎn)磁體中，EUV產(chǎn)生裝置實(shí)施為波動(dòng)器，其中偏振設(shè)定 裝置實(shí)施為使得其影響波動(dòng)器的偏轉(zhuǎn)磁體對電子束的效應(yīng)。EUV光源可W同步加速器的形 式或W自由電子激光器（FED的形式來實(shí)施。
[0017] 電流控制可避免移動(dòng)組件的必要性，在電流控制中，偏轉(zhuǎn)磁體實(shí)施為電磁體，其中 偏振設(shè)定裝置控制通過電磁體的電流的電流強(qiáng)度。因此，可在不移動(dòng)部件的情況下進(jìn)行偏 振規(guī)定。
[0018] 用于偏轉(zhuǎn)輸出光束的掃描裝置W與偏振設(shè)定裝置同步的方式工作，使得能夠尤其 可變地照明。該種掃描裝置的優(yōu)點(diǎn)詳細(xì)解釋于WO 2009/121 438 A1中。根據(jù)本發(fā)明，掃描 裝置與偏振設(shè)定裝置的同步導(dǎo)致進(jìn)行特別靈活的照明調(diào)整的選項(xiàng)。
[0019] 具有照明光學(xué)單元的照明系統(tǒng)使用尤其好地同步掃描裝置與偏振設(shè)定裝置的選 項(xiàng)，所述照明光學(xué)單元包含；具有多個(gè)場分面的場分面反射鏡；W及具有多個(gè)光瞳分面的 光瞳分面反射鏡，用于通過輸出光束規(guī)定照明場的照明的照明角分布，其中輸出光束沿照 明通道引導(dǎo)，W在場分面的相應(yīng)一個(gè)與光瞳分面的相應(yīng)一個(gè)上規(guī)定照明角，并且其中用于 偏轉(zhuǎn)輸出光束的掃描裝置布置在場分面反射鏡的前方，并且偏振設(shè)定裝置實(shí)施為使得輸出 光束偏振態(tài)在照在第一場分面上與通過掃描裝置的適當(dāng)掃描偏轉(zhuǎn)之后照在另外的場分面 之間變化。每個(gè)場分面又可由多個(gè)單獨(dú)反射鏡構(gòu)成。尤其在掃描期間的偏振態(tài)變化可在鄰 近的場分面之間產(chǎn)生。
[0020] 根據(jù)本發(fā)明的照明系統(tǒng)的操作方法的優(yōu)點(diǎn)對應(yīng)于上文參考根據(jù)本發(fā)明的照明系 統(tǒng)已說明的那些，借助該操作方法，特別地，可規(guī)定輸出光束在光瞳分面反射鏡上的偏振分 布W及因此在照明角上的偏振分布。所述操作方法包含W下步驟：
[0021] -設(shè)定場分面反射鏡的場分面與光瞳分面反射鏡的光瞳分面的傾斜角關(guān)聯(lián)，使得 場分面組的場分面中的要由輸出光束照射的相應(yīng)一個(gè)經(jīng)由照明通道與光瞳分面中的一個(gè) 相應(yīng)地關(guān)聯(lián)，
[0022] -其中所述掃描裝置、偏振設(shè)定裝置和傾斜角關(guān)聯(lián)彼此匹配，使得各個(gè)光瞳分面上 的輸出光束具有預(yù)定偏振態(tài)。
[0023] 如果在掃描裝置、偏振設(shè)定裝置和傾斜角關(guān)聯(lián)彼此匹配使得各個(gè)光瞳分面上的輸 出光束的偏振態(tài)具有線偏振成分的偏振規(guī)定的情況下，則該可產(chǎn)生切向偏振，其中照明物 體的輸出光束的偏振相應(yīng)地垂直于輸出光束的入射平面，該線偏振成分垂直于從光瞳分面 至光瞳分面反射鏡上的光瞳分面布置的中屯、的連接線，垂直于上述連接線的線偏振成分僅 是輸出光束的偏振成分。替代地，還可提供楠圓偏振，其較大的偏振主軸垂直于連接線。
[0024] 在引導(dǎo)輸出光束通過光瞳分面反射鏡與照明場之間的照明光學(xué)單元時(shí)，在所照射 的光瞳分面上規(guī)定的偏振態(tài)中包含的偏振引導(dǎo)（polarization lead)例如可預(yù)先補(bǔ)償偏振 變化、尤其是偏振旋轉(zhuǎn)的效應(yīng)，所述偏振引導(dǎo)考慮在光瞳分面反射鏡之后沿輸出光束路徑 的隨后偏振的影響。
[0025] W使光瞳分面反射鏡上的多個(gè)光瞳分面被順次照射的方式產(chǎn)生的匹配可通過偏 振設(shè)定裝置減少必要的切換過程數(shù)量，在多個(gè)光瞳分面之間，沒有規(guī)定偏振態(tài)差別。
[0026] 光學(xué)系統(tǒng)、EUV光刻投射曝光設(shè)備、用于制造結(jié)構(gòu)化組件的方法W及根據(jù)本發(fā)明的 方法制造的微結(jié)構(gòu)和/或納米結(jié)構(gòu)化組件的優(yōu)點(diǎn)對應(yīng)于上文參考根據(jù)本發(fā)明的照明系統(tǒng) 所說明的優(yōu)點(diǎn)。所述光學(xué)系統(tǒng)；-包含根據(jù)本發(fā)明的照明系統(tǒng)，-包含用于將照明場成像至 像場的投射光學(xué)單元。所述EUV光刻投射曝光設(shè)備；-包含根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)系統(tǒng)，-包含 在掩模母版平面中保持掩模母版的掩模母版保持器，光學(xué)系統(tǒng)的照明光要照在所述掩模母 版上，-包含用于將照明場成像至像面中的像場的投射光學(xué)單元，-包含在像面中保持晶片 的晶片保持器，使得在投射曝光期間布置在照明場中的掩模母版結(jié)構(gòu)成像至布置在像場中 的晶片部分上。所述用于制造結(jié)構(gòu)化組件的方法包含W下方法步驟；-提供掩模母版和晶 片，-借助于根據(jù)本發(fā)明的投射曝光設(shè)備，將掩模母版上的結(jié)構(gòu)投射至晶片的光敏層，-在 投射期間操作根據(jù)本發(fā)明的照明系統(tǒng)，-在晶片上產(chǎn)生微結(jié)構(gòu)和/或納米結(jié)構(gòu)。
【附圖說明】
[0027] 下文基于附圖將更詳細(xì)地說明本發(fā)明的示例性實(shí)施例。在圖中：
[0028] 圖1參考照明光學(xué)單元W子午截面示意性顯示抓V投射光刻投射曝光設(shè)備；
[0029] 圖2參考場分面反射鏡示意性顯示根據(jù)圖1的投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)的幾個(gè)組 件的平面圖，W及用于偏轉(zhuǎn)EUV光源的EUV輸出光束的掃描裝置；
[0030] 圖3同樣示意性顯示輸出光束的掃描輪廓的示意圖；
[0031] 圖4顯示照明光學(xué)單元的光瞳分面反射鏡的平面圖，其中數(shù)字表示在掃描裝置的 掃描過程期間，光瞳分面的照明序列；W及
[0032] 圖5 W類似于圖4的示意圖顯示在掃描裝置的掃描過程期間的光瞳分面照明序列 的變型。
【具體實(shí)施方式】
[0033] 微光刻投射曝光設(shè)備1用